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New freeform manufacturing chains based on atmospheric plasma jet machining
New manufacturing chains for precise fabrication of asphere and freeform optical surfaces including atmospheric Plasma Jet Machining (PJM) technology will be presented. PJM is based on deterministic plasma-assisted material removal. It has the potential for flexible and cost-efficient shape generation and correction of small and medium-sized optical freeform elements. The paper discusses the interactions between the plasma tools and optical fused silica samples in the context of the pre-machined and intermediate surface states and identifies several plasma jet machining methods for freeform generation, surface correction, and finishing as well as suitable auxiliary polishing methods. The successful application of either processing chain is demonstrated
Gesundheitsfördernde Maßnahmen in zwei Hamburger Quartieren: Ergebnisse der Prozessevaluation des Projektes Aktive und Gesunde Quartiere Uhlenhorst und Rübenkamp (AGQua) im Längsschnitt
Gesundheitsfördernde Maßnahmen in zwei Hamburger Quartieren: Ergebnisse der Prozessevaluation des Projektes Aktive und Gesunde Quartiere Uhlenhorst und Rübenkamp (AGQua) im Längsschnitt
Concepts, Capabilities, and Limitations of Global Models : A Review
International audienceFor researchers wishing to generate an understanding of complex plasma systems, global models often present an attractive first step, mainly due to their ease of development and use. These volume averaged models are able to give descriptions of plasmas with complex chemical kinetics, and without the computationally intensive numerical methods required for spatially resolved models. This paper gives a tutorial on global modeling, including development and techniques, and provides a discussion on the issues and pitfalls that researchers should be aware of. Further discussion is provided in the form of two reviews on methods of extending global modeling techniques to encompass variations in either time or space
Surveillance meldepflichtiger Infektionskrankheiten unter Berücksichtigungdes Migrationsstatus in Deutschland
Der Anteil der Bevölkerungsgruppe mit Migrationshintergrund in Deutschland nimmt stetig zu. Verschiedene Studien weisen darauf hin, dass es bei der Ausbreitung von Infektionskrankheiten ein Ungleichgewicht zu Ungunsten der Bevölkerungsgruppe mit Migrationshintergrund gibt. Um diese behandeln und eindämmen zu können ist eine Betrachtung bevölkerungsspezifischer Infektionsdaten von großer Bedeutung.
Diese Arbeit beschreibt zunächst die interessierende Bevölkerungsgruppe und das
Surveillancesystem in Deutschland. Desweiteren wurden verfügbare Datenmaterialen und eine Auswahl relevanter meldepflichtiger Infektionskrank-heiten im Bezug auf die Bevölkerungsgruppe mit Migrationshintergrund ermittelt und eine migrationsspezifische Darstellung der gewonnenen Daten durchgeführt. Ziel ist das Aufzeigen von Lücken in der erforderlichen Datenverfügbarkeit und die Diskussion möglicher Lösungsansätze. Um die Bevölkerungsgruppen mit und ohne Migrationshintergrund im Bezug auf Infektionskrankheiten vergleichen zu können, wurden Inzidenzen für HIV und Tbc berechnet. Die Daten stammen aus Datenbanken des Robert Koch Institutes, Ausländerzentralregisters und des statistischen Bundesamtes. Die Daten wurden deskriptiv analysiert und unter Berücksichtigung des Migrationshintergrundes dargestellt.
Die dargestellten Ergebnisse bestätigen mit Einschränkungen das Ungleichgewicht
in der Verteilung von Infektionskrankheiten in den betrachteten Bevölkerungsgruppen in Deutschland. Allerdings unterliegt die Analysemethode einigen Limitationen.
Die ermittelten Datenquellen aus amtlichen Statistiken sowie aus der Gesundheitsberichterstattung ergeben ein nicht einheitliches Bild im Bezug auf bestehende Merkmale zum Migrationshintergrund; der Begriff wird unter-schiedlich operationalisiert. Eine Aussage über die tatsächliche Höhe des Ausmaßes bezüglich der Beeinflussung der Verteilung von Infektionskrankheiten durch einen Migrationshintergrund, lässt sich auf Grundlage der vorhandenen Daten nicht machen. Hierfür wäre eine einheitliche Erfassung des Migrationshintergrundes, sowohl in amtlichen Statistiken, als auch bei der Fallerfassung, erforderlich
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Local plasma-assisted etching of crystalline silicon by fine focused plasma jets provides a method for high accuracy computer controlled surface waviness and figure error correction as well as free form processing and manufacturing. We investigate a radio-frequency powered atmospheric pressure He/N2/CF4 plasma jet for the local chemical etching of silicon using fluorine as reactive plasma gas component. This plasma jet tool has a typical tool function width of about 0.5 to 1.8 mm and a material removal rate up to 0.068 mm3 min−1. The relationship between etching rate and plasma jet parameters is discussed in detail regarding gas composition, working distance, scan velocity and RF power. Surface roughness after etching was characterized using atomic force microscopy and white light interferometry. A strong smoothing effect was observed for etching rough silicon surfaces like wet chemically-etched silicon wafer backsides. Using the dwell-time algorithm for a deterministic surface machining by superposition of the local removal function of the plasma tool we show a fast and efficient way for manufacturing complex silicon structures. In this article we present two examples of surface processing using small local plasma jets
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Linear chirped slope profile for spatial calibration in slope measuring deflectometry.
Slope measuring deflectometry is commonly used by the X-ray optics community to measure the long-spatial-wavelength surface figure error of optical components dedicated to guide and focus X-rays under grazing incidence condition at synchrotron and free electron laser beamlines. The best performing instruments of this kind are capable of absolute accuracy on the level of 30-50 nrad. However, the exact bandwidth of the measurements, determined at the higher spatial frequencies by the instrument's spatial resolution, or more generally by the instrument's modulation transfer function (MTF) is hard to determine. An MTF calibration method based on application of a test surface with a one-dimensional (1D) chirped height profile of constant amplitude was suggested in the past. In this work, we propose a new approach to designing the test surfaces with a 2D-chirped topography, specially optimized for MTF characterization of slope measuring instruments. The design of the developed MTF test samples based on the proposed linear chirped slope profiles (LCSPs) is free of the major drawback of the 1D chirped height profiles, where in the slope domain, the amplitude strongly increases with the local spatial frequency of the profile. We provide the details of fabrication of the LCSP samples. The results of first application of the developed test samples to measure the spatial resolution of the BESSY-NOM at different experimental arrangements are also presented and discussed