Erratum to: 36th International Symposium on Intensive Care and Emergency Medicine

[This corrects the article DOI: 10.1186/s13054-016-1208-6.]

Indium induced nanostructures on In₄Se₃(100) surface studied by scanning tunneling microscopy

Indium deposition leads to changes in the scanning tunneling microscopy (STM)-revealed (100) surface morphology of In₄Se₃ layered semiconductor with the formation of nanostructures, which are characterized by different dimensionality dependent on different crystal growth conditions. Preferable formation of nanodots in low and quasi one dimensional (1D) structures for the high bulk-conductivity crystals has been observed. The STM and scanning tunneling spectroscopy data enable us to consider that the dimensionality, shape and direction of the obtained indium deposition structures are induced by indium clusters available on the original, on-the-lattice-scale furrowed, ultra high vacuum (UHV) (100) cleavages of In₄Se₃ crystal due to the self-intercalation phenomenon

Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief

The crystallography and topography of the (100) cleavage surfaces of layered semiconductor In₄Se₃ crystal have been studied by low energy electron diffraction (LEED), scanning tunnelling and atomic-force microscopy (STM, AFM) in ultrahigh vacuum (UHV). The structure of surface LEED patterns, shape and dimensions of subsequent STM- and AFMprofiles agree well with the lattice parameters derived from the bulk crystal structure obtained by X-ray diffraction. The local density of states and band gap for (100) In₄Se₃ have been obtained by scanning tunnelling spectroscopy and point to the same integral gap value as for bulk crystal. The STM/STS results evidence the stability of interlayer cleavage surface and confirm that anisotropic striated low conductive cleavage surfaces might be suitable as matrices/templates in formation of surface nanowires or nanostructures.Кристалографію та топографію поверхонь (100) сколювання кристалів шаруватих напівпровідників In₄Se₃ досліджено методами дифракції повільних електронів (ДПЕ), скануючої тунельної та атомно-силової мікроскопій (СТМ, АСМ) у надвисокому вакуумі. Структура рефлексів ДПЕ, форма і характерні розміри в одержаних СТМ- та АСМ-профілях поверхонь сколювання відповідають структурі і параметрам гратки, одержаним для кристалів In₄Se₃ орторомбічної структури методом ренгенівської дифракції. Локальна густина електронних станів і ширина забороненої зони для поверхонь сколювання (100) In₄Se₃, що отримані методом скануючої тунельної спектроскопії (вказують на їі інтегральну величину, таку ж як для об'ємних кристалів. Результати ДПЕ, СТМ/АСМ вказують на стабільність міжшарових поверхонь сколювання та перспективність використання слабкопровідних борознистих анізотропних сколів як матриць/шаблонів для формування поверхневих нанодротів та наноструктур.Кристаллография и топография поверхностей (100) скалывания кристаллов слоистых полупроводников In₄Se₃ исследованы методами дифракции медленных электронов (ДМЭ), сканирующей туннельной и атомно-силовой микроскопий (СТМ, АСМ) в сверхвысоком вакууме. Структура рефлексов ДМЭ, форма и характерные размеры в полученных СТМ- и АСМ-профилях поверхностей скалывания хорошо согласуются со структурой и параметрами решетки, полученными для кристаллов In₄Se₃ орторомбической структуры методом рентгеновской дифракции. Локальная плотность электронных состояний и ширина запрещенной зоны для поверхностей скалывания (100) In₄Se₃, полученная методом сканирующей туннельной спектроскопии, указывают на ее интегральное значение, такое же как для объемных кристаллов. Результаты ДМЭ, СТМ/АСМ указывают на стабильность междуслоевых поверхностей скалывания и перспективность использования слабо проводящих бороздчатых анизотропных сколов в качестве матриц/шаблонов для формирования поверхностных нанопроволок или наноструктур

Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief

The crystallography and topography of the (100) cleavage surfaces of layered semiconductor In₄Se₃ crystal have been studied by low energy electron diffraction (LEED), scanning tunnelling and atomic-force microscopy (STM, AFM) in ultrahigh vacuum (UHV). The structure of surface LEED patterns, shape and dimensions of subsequent STM- and AFMprofiles agree well with the lattice parameters derived from the bulk crystal structure obtained by X-ray diffraction. The local density of states and band gap for (100) In₄Se₃ have been obtained by scanning tunnelling spectroscopy and point to the same integral gap value as for bulk crystal. The STM/STS results evidence the stability of interlayer cleavage surface and confirm that anisotropic striated low conductive cleavage surfaces might be suitable as matrices/templates in formation of surface nanowires or nanostructures.Кристалографію та топографію поверхонь (100) сколювання кристалів шаруватих напівпровідників In₄Se₃ досліджено методами дифракції повільних електронів (ДПЕ), скануючої тунельної та атомно-силової мікроскопій (СТМ, АСМ) у надвисокому вакуумі. Структура рефлексів ДПЕ, форма і характерні розміри в одержаних СТМ- та АСМ-профілях поверхонь сколювання відповідають структурі і параметрам гратки, одержаним для кристалів In₄Se₃ орторомбічної структури методом ренгенівської дифракції. Локальна густина електронних станів і ширина забороненої зони для поверхонь сколювання (100) In₄Se₃, що отримані методом скануючої тунельної спектроскопії (вказують на їі інтегральну величину, таку ж як для об'ємних кристалів. Результати ДПЕ, СТМ/АСМ вказують на стабільність міжшарових поверхонь сколювання та перспективність використання слабкопровідних борознистих анізотропних сколів як матриць/шаблонів для формування поверхневих нанодротів та наноструктур.Кристаллография и топография поверхностей (100) скалывания кристаллов слоистых полупроводников In₄Se₃ исследованы методами дифракции медленных электронов (ДМЭ), сканирующей туннельной и атомно-силовой микроскопий (СТМ, АСМ) в сверхвысоком вакууме. Структура рефлексов ДМЭ, форма и характерные размеры в полученных СТМ- и АСМ-профилях поверхностей скалывания хорошо согласуются со структурой и параметрами решетки, полученными для кристаллов In₄Se₃ орторомбической структуры методом рентгеновской дифракции. Локальная плотность электронных состояний и ширина запрещенной зоны для поверхностей скалывания (100) In₄Se₃, полученная методом сканирующей туннельной спектроскопии, указывают на ее интегральное значение, такое же как для объемных кристаллов. Результаты ДМЭ, СТМ/АСМ указывают на стабильность междуслоевых поверхностей скалывания и перспективность использования слабо проводящих бороздчатых анизотропных сколов в качестве матриц/шаблонов для формирования поверхностных нанопроволок или наноструктур

Surface termination and Schottky-barrier formation of In\u3csub\u3e4\u3c/sub\u3eSe\u3csub\u3e3\u3c/sub\u3e(001)

The surface termination of In4Se3(001) and the interface of this layered trichalcogenide, with Au, was examined using x-ray photoemission spectroscopy. Low energy electron diffraction indicates that the surface is highly crystalline, but suggests an absence of C2v mirror plane symmetry. The surface termination of the In4Se3(001 is found, by angle-resolved x-ray photoemission spectroscopy, to be In, which is consistent with the observed Schottky barrier formation found with this n-type semiconductor. Transistor measurements confirm earlier results from photoemission, suggesting that In4Se3(001 is an n-type semiconductor, so that Schottky barrier formation with a large work function metal, such as Au, is expected. The measured low carrier mobilities could be the result of the contacts and would be consistent with Schottky barrier formation

Corrigendum: Surface termination and Schottky-barrier formation of In\u3csub\u3e4\u3c/sub\u3eSe\u3csub\u3e3\u3c/sub\u3e(001) [\u3ci\u3eSemiconductor Science and Technology\u3c/i\u3e (2020) 35 (065009) DOI: 10.1088/1361-6641/ab7e45]

Through the description of various surface terminations, the chain direction of In4Se3 in this paper [1] is implied to be in the plane of its surface. Even though the common convention for photoemission spectroscopy is to place z-axis along the surface normal, the axis perpendicular to the growth direction for this indium selenide is the crystallographic a-axis (and not the c-axis) [2–4]. Therefore, in our work the surface of In4Se3 should have been labeled (100), and not (001), to prevent any confusion that may have resulted from a less than conventional index notation. Data availability statement The data that support the findings of this study are available upon reasonable request from the authors

Surface termination and Schottky-barrier formation of In4Se3(001)

© 2020 IOP Publishing Ltd. The surface termination of In4Se3(001) and the interface of this layered trichalcogenide, with Au, was examined using x-ray photoemission spectroscopy. Low energy electron diffraction indicates that the surface is highly crystalline, but suggests an absence of C2v mirror plane symmetry. The surface termination of the In4Se3(001) is found, by angle-resolved x-ray photoemission spectroscopy, to be In, which is consistent with the observed Schottky barrier formation found with this n-type semiconductor. Transistor measurements confirm earlier results from photoemission, suggesting that In4Se3(001) is an n-type semiconductor, so that Schottky barrier formation with a large work function metal, such as Au, is expected. The measured low carrier mobilities could be the result of the contacts and would be consistent with Schottky barrier formation11sci