SUPERFICIAL-ENHANCED THERMAL NITRIDATION OF SiO2 THIN FILMS

La nitruration superficielle de films minces (~ 13nm) de SiO2 peut être stimulée en pratiquant des recuits répétitifs entre 900°C et 1200°C dans une faible pression (≤10-1mbar) d'ammoniac de pureté contrôlée. La zone superficielle nitrurée s'étend alors sur 3 à 4 nm avec une décroissance rapide de la concentration d'azote en fonction de la profondeur. Les résultats expérimentaux suggèrent que les espèces amines NHX (0 < X < 3) sont essentielles dans le processus de nitruration de SiO2 par NH3. Des structures Al/SiO2 nitrurée/Si(100)p ont été fabriquées in situ ou non. En optimisant les conditions de nitruration, les mesures électriques révèlent une faible densité d'états d'interface (1010 à 1011 eV-l cm-2), une bonne tenue à l'injection d'électrons caractérisée par un équilibre entre piégeage et dépiégeage dans la région nitrurée et un champ destructif parfois supérieur à 10 MV cm-1.Superficial nitridation of thin (~ 13nm) SiO2 films can be enhanced using annealing cycles of short duration at high temperatures (900°C-1200°C) in low pure ammonia pressures (≤10-1mbar). The nitrided surface region is 3 to 4 nm wide with a rapidly decreasing nitrogen concentration versus depth. The experimental data suggest that amine NHX (0 < X < 3) species are essential in the nitridation process of SiO2 using NH3 gas. Al-gat/nitrided SiO2/Si(100)p capacitors have been prepared in situ or not. Electrical measurements show that a low interface-state density (1010 to 1011 eV-l cm-2), a good stability during electron injection due to a balance between trapping and detrapping in the nitrided region of SiO2 and a destructive breakdown field as high as 10 MV cm-1 can be achieved by optimizing nitridation conditions

Walk Your Tree Any Way You Want

Software transformations in the Nuthatch style are described as walks over trees (possibly graphs) that proceed in programmerdefined steps which may observe join points of the walk, may observe and affect state associated with the walk, may rewrite the walked tree, may contribute to a built tree, and must walk somewhere, typically along one branch or another. The approach blends well with OO programming. We have implemented the approach in the Nuthatch/J library for Java