Contribution of the method of the electric resistivities in the gratitude (recongnition) of the aquifer turonien in the plain of Tadla and the tray of phosphates (Morocco)

Being seen needs in increasing waters in our contry for fine domestics, manufacturs and agricultural, the prospecting of subterranean waters by geologic and hydrogeologic classic method remains inaplicable in the cases of the regions where one does not arrange drillings or polls (soundings) of gratitude (recongnition) in very sufficient (self-important) number.In that case of figure, the method of prospecting geophysics such as the method of nuclear magnetic resonance (NMR) and the method of the geophysics radar are usually used most usually because they showed, worldwide, results very desive in the projects of prospecting and evaluation of the ressources in subterranean waters.In the present work, which concerns only the methodology of the electric resistivities, we treat the adopted methodological approach and the study of the case of application in the turonien aquifer in the plain of Tadla and the tray of phosphates.The adopted methodology has to consist at first in realizing a study of regional synthesis of the sector of study notably the geology of surface and sub-surface and the hydrogeology. The second phase has to consist in realizing on one hand the systematic partner of the electric polls (soundings) following a meshing dictated by the study of synthesis and on the other hand the electric etalons polls (soundings) and of wedging respectvely on the geologic emergences and on the drillings, polls (soundings) or well which are in or in the neighborhood of the sector of study. The ultimate phase has to consist in interpreter and to exploit (run) the data of the electric polls (soundings) dy specific software.As for the application in the turonien aquifer, we indicate that sectors can vassed by this method allowed results very ecisive with geo-electrics profiles perfectly identical to the geologic cups (cuttings) abtained by correlation of the data of drillings. Also, the contribution of the present methodology in the gratitude (recongnition) of the aquifer turonien materializes in the fact which she allowed to show that the productivity of this aquifer decline of the north sounthward. This deminution of productivity, dictated by the deminution of the transverse résistance, is due to the lateral variation of the geologic facies which become more and more marly southward

Étude micro structurale et mécanique de revêtements de nitrure de titane et d'aluminium déposés par pulvérisation magnétron réactive (mode pulsé ou continu)

The subject of the thesis is to study monolayer and multilayer films of the (Ti-Al-N) system used mainly as cutting tool coatings. The aim was to study the structure and the mechanical behavior of a series of films Tii-xAlxNy deposited by reactive magnetron sputtering from a sintered TiAltarget, and Tii^AliNy multilayers. Tii^AliN with different bilayer thicknesses.The structural study of the monolayer films showed that changing the injected nitrogen flow did not influence the nitrogen stoichiometry ; but nevertheless generated a difference of strains in the film which played a role in the adhesion and the hardness of the films. For multilayer films, two compositions were chosen. For ceramic/ceramic films and for the two periods (12 and 34nm), the TEM observations showed that the multilayer structure only exists for the first 400 nanometers. EDXS studies have shown that this layer alternation is explained by the presence of trapped oxygen in the nitrogen circuit and deposited involuntarily. The mechanical properties of these coatings were found close to those measured for monolayer films. For the TiAl/(Ti,Al)N composition, the multilayer structure was maintained throughout the deposition but with a thickness of the (Ti,Al)N layer greater than that of TiAl; this comes from the time needed for the target to transition from the poisoned mode to the unpoisoned one. These films revealed a lower hardness, due to the metallic bonds (less hard than the covalent bonds), but showed better resistance to wear and adhesion.L'objet de la thèse est l'étude de films monocouches et multicouclies du système (Ti-Al-N) utilisés principalement comme revêtements d'outils de coupe. Le but a été d'étudier la structure et le comportement mécanique d'une série de films Tii-xAlxNy déposés par pulvérisationinagnétron réactive à partir d'une cible TiAl frittée, et de multicouches Tii-xAlxNy/Tii.xAl>;N à différentes périodes. L'étude structurale des films monocouches a montré que le changement du débit d'azote injecté n'avait pas d'influence sur la stoechiométrie en azote ; mais a généré néanmoins une différence de contraintes dans le film qui a joué à son tour un rôle dans l'adhésion et la dureté des dépôts. Pour les fîlms multicouches, deux compositions ont été choisies. Pour les films céramique/céramique et pour deux périodes (12 et 34 nm), les obsen/ations au MET ont montré que la structure multicouche n'existe que pour les 400 premiers nanomètres. Les analyses en EDXS ont montré que cette alternance de couche s'expliquait par la présence d'oxygène piégé dans le circuit d'azote et déposé involontairement. Les propriétés mécaniques de ces revêtements ont été trouvées proches de celles mesurées pour les films monocouches. Pour la composition TiAl/(Ti,Al)N, la structure multicouche a été maintenue tout au long du dépôt mais avec une épaisseur de la couche (Ti,Al)N plus importante que celle de TiAl ; ceci provient du temps nécessaire à la cible pour sa transition du régime empoisonné au régime non empoisonné. Ces films ont révélé une plus faible dureté, en raison des liaisons métalliques (moins dures que les liaisons covalentes), mais ont montré de meilleures résistances à l'usure et adhésion

Étude micro structurale et mécanique de revêtements de nitrure de titane et d'aluminium déposés par pulvérisation magnétron réactive (mode pulsé ou continu)

The subject of the thesis is to study monolayer and multilayer films of the (Ti-Al-N) system used mainly as cutting tool coatings. The aim was to study the structure and the mechanical behavior of a series of films Tii-xAlxNy deposited by reactive magnetron sputtering from a sintered TiAltarget, and Tii^AliNy multilayers. Tii^AliN with different bilayer thicknesses.The structural study of the monolayer films showed that changing the injected nitrogen flow did not influence the nitrogen stoichiometry ; but nevertheless generated a difference of strains in the film which played a role in the adhesion and the hardness of the films. For multilayer films, two compositions were chosen. For ceramic/ceramic films and for the two periods (12 and 34nm), the TEM observations showed that the multilayer structure only exists for the first 400 nanometers. EDXS studies have shown that this layer alternation is explained by the presence of trapped oxygen in the nitrogen circuit and deposited involuntarily. The mechanical properties of these coatings were found close to those measured for monolayer films. For the TiAl/(Ti,Al)N composition, the multilayer structure was maintained throughout the deposition but with a thickness of the (Ti,Al)N layer greater than that of TiAl; this comes from the time needed for the target to transition from the poisoned mode to the unpoisoned one. These films revealed a lower hardness, due to the metallic bonds (less hard than the covalent bonds), but showed better resistance to wear and adhesion.L'objet de la thèse est l'étude de films monocouches et multicouclies du système (Ti-Al-N) utilisés principalement comme revêtements d'outils de coupe. Le but a été d'étudier la structure et le comportement mécanique d'une série de films Tii-xAlxNy déposés par pulvérisationinagnétron réactive à partir d'une cible TiAl frittée, et de multicouches Tii-xAlxNy/Tii.xAl>;N à différentes périodes. L'étude structurale des films monocouches a montré que le changement du débit d'azote injecté n'avait pas d'influence sur la stoechiométrie en azote ; mais a généré néanmoins une différence de contraintes dans le film qui a joué à son tour un rôle dans l'adhésion et la dureté des dépôts. Pour les fîlms multicouches, deux compositions ont été choisies. Pour les films céramique/céramique et pour deux périodes (12 et 34 nm), les obsen/ations au MET ont montré que la structure multicouche n'existe que pour les 400 premiers nanomètres. Les analyses en EDXS ont montré que cette alternance de couche s'expliquait par la présence d'oxygène piégé dans le circuit d'azote et déposé involontairement. Les propriétés mécaniques de ces revêtements ont été trouvées proches de celles mesurées pour les films monocouches. Pour la composition TiAl/(Ti,Al)N, la structure multicouche a été maintenue tout au long du dépôt mais avec une épaisseur de la couche (Ti,Al)N plus importante que celle de TiAl ; ceci provient du temps nécessaire à la cible pour sa transition du régime empoisonné au régime non empoisonné. Ces films ont révélé une plus faible dureté, en raison des liaisons métalliques (moins dures que les liaisons covalentes), mais ont montré de meilleures résistances à l'usure et adhésion

Microstructural and mechanical study of titanium and aluminum nitride coatings deposited by reactive magnetron sputtering (pulsed or continuous mode)

L'objet de la thèse est l'étude de films monocouches et multicouclies du système (Ti-Al-N) utilisés principalement comme revêtements d'outils de coupe. Le but a été d'étudier la structure et le comportement mécanique d'une série de films Tii-xAlxNy déposés par pulvérisationinagnétron réactive à partir d'une cible TiAl frittée, et de multicouches Tii-xAlxNy/Tii.xAl>;N à différentes périodes. L'étude structurale des films monocouches a montré que le changement du débit d'azote injecté n'avait pas d'influence sur la stoechiométrie en azote ; mais a généré néanmoins une différence de contraintes dans le film qui a joué à son tour un rôle dans l'adhésion et la dureté des dépôts. Pour les fîlms multicouches, deux compositions ont été choisies. Pour les films céramique/céramique et pour deux périodes (12 et 34 nm), les obsen/ations au MET ont montré que la structure multicouche n'existe que pour les 400 premiers nanomètres. Les analyses en EDXS ont montré que cette alternance de couche s'expliquait par la présence d'oxygène piégé dans le circuit d'azote et déposé involontairement. Les propriétés mécaniques de ces revêtements ont été trouvées proches de celles mesurées pour les films monocouches. Pour la composition TiAl/(Ti,Al)N, la structure multicouche a été maintenue tout au long du dépôt mais avec une épaisseur de la couche (Ti,Al)N plus importante que celle de TiAl ; ceci provient du temps nécessaire à la cible pour sa transition du régime empoisonné au régime non empoisonné. Ces films ont révélé une plus faible dureté, en raison des liaisons métalliques (moins dures que les liaisons covalentes), mais ont montré de meilleures résistances à l'usure et adhésion.The subject of the thesis is to study monolayer and multilayer films of the (Ti-Al-N) system used mainly as cutting tool coatings. The aim was to study the structure and the mechanical behavior of a series of films Tii-xAlxNy deposited by reactive magnetron sputtering from a sintered TiAltarget, and Tii^AliNy multilayers. Tii^AliN with different bilayer thicknesses.The structural study of the monolayer films showed that changing the injected nitrogen flow did not influence the nitrogen stoichiometry ; but nevertheless generated a difference of strains in the film which played a role in the adhesion and the hardness of the films. For multilayer films, two compositions were chosen. For ceramic/ceramic films and for the two periods (12 and 34nm), the TEM observations showed that the multilayer structure only exists for the first 400 nanometers. EDXS studies have shown that this layer alternation is explained by the presence of trapped oxygen in the nitrogen circuit and deposited involuntarily. The mechanical properties of these coatings were found close to those measured for monolayer films. For the TiAl/(Ti,Al)N composition, the multilayer structure was maintained throughout the deposition but with a thickness of the (Ti,Al)N layer greater than that of TiAl; this comes from the time needed for the target to transition from the poisoned mode to the unpoisoned one. These films revealed a lower hardness, due to the metallic bonds (less hard than the covalent bonds), but showed better resistance to wear and adhesion

On the possibility of synthesizing multilayered coatings in the (Ti,Al)N system by RGPP: A microstructural study

International audienceRadiofrequency magnetron sputtering combined with reactive gas pulsing process was used to synthesize two titanium aluminum nitride multilayer films using a periodically controlled nitrogen flow rate changing from 0.4 to 1 sccm (sample S04-1) and from 0 to 1 sccm (sample S0-1). A metallic TiAl buffer layer was deposited on the etched substrates before the deposition to enhance their adhesion. The films were characterized using mainly transmission electron microscopy and electron diffraction. The role of the crystallinity of the buffer TiAl metallic layer deposited before gas introduction on the growth orientations is emphasized. It is shown that the formation of a multilayer structure is conditioned by stopping periodically and completely the nitrogen flow rate. Particular attention is paid to the role that residual oxygen can play on the microstructure and to transient regime that occurs when the flow rate drops from 1 sccm to 0 sccm