基于图像匹配的运动背景补偿方法

本文提出了在运动背景下车辆检测的一种有效的算法。首先对前后两帧进行稀疏块匹配,计算出摄像机全局运动速度和方向,经过运动补偿后再通过两帧差分检测出运动区域,最后利用形态学膨胀消除边缘断裂,后经过种子填充,计算连通域面积,去除噪声区域。实验表明,在运动背景的车辆检测应用上,能够较准确地提取出目标车辆

基于ANSYS的履带起重机臂架参数化建模

臂架是履带起重机的主要受载构件,其强度直接影响起重机的安全性能。一台履带起重机具有多种臂架组合方式,使得有限元模型的建立非常繁琐。本文以ANSYS参数化设计语言(APDL)为基础,研究了履带起重机臂架系统参数化建模方法,设计了局部参数和总体参数两种参数;通过设置两种参数,实现了各种臂架组合,从而避免了不必要的重复性工作,极大地提高了效率

南美白对虾肠道微生物群落的分子分析

采用分子生物学手段16S rDNA克隆文库方法对实验室养殖条件下的南美白对虾肠道细菌进行了多样性研究。用限制性片段长度多态性(RFLP)方法从文库中筛选出可能不同细菌来源的克隆子12个,测定其16S rDNA片段核甘酸序列,将所获得的序列与GenBank数据库进行BLAST比对,结果表明:南美白对虾肠道的16S rDNA克隆文库中126个克隆子分属2个不同的细菌类群:变形细菌(Proteobacteria)和厚壁细菌(Firmicutes),其中厚壁细菌为优势菌群占到75.4%,且与最相似序列同源性均低于94%;变形细菌占到24.6%,与最相似序列同源性均高于98%,分别为希瓦氏菌属(Shewanella),泛菌属(Pantoea),Aranicola属,假单胞菌属(Pseudomonas)和弧菌属(Vibrio)

The single pulse thermal effect mechanism of micro-EDM

为了解微能量单脉冲放电加工原理,文中从微细电火花单脉冲放电加工具有放电时间短,放电通道半径小,能量密度高等特点入手,从单脉冲热作用模型的放电通道半径和能量分配系数方面对当前电火花单脉冲蚀出模型进行改进。建立了时变放电通道的热作用模型,并验证了模型的正确性,提出了单脉冲热作用模型中能量分配到工件表面的百分比系数随着放电参数的变化而变化的规律,为微细电火花的广泛应用奠定基础。The single pulse micro electric discharge machining( micro-EDM) has the characteristics of short discharge time,small discharge channel radius,high energy density,etc. Considering these characteristics,the EDM single pulse erosion model is improved in plasma channel radius and energy distribution coefficient of the single pulse thermal effect model,to establish the thermal effect model of micro-EDM machining. The correctness of the model is verified by a reliable experimental method,which lays a foundation for the wide application of micro-EDM.贵州省教育厅基金项目(5392

虾池沉积物细菌多样性分析和若干可培养技术的优化探讨

为了研究虾池沉积物细菌的多样性,改进培养技术,采用8种培养基培养虾池沉积物细菌,并用变性梯度凝胶电泳(DGGE)技术对不同培养基平板获得的细菌群落结构进行研究,同时与原位样品的细菌群落结构进行比较.多数细菌在2周内长出,第3周至12周,在VL55、DNB、HM2和DR2A平板上可分离出新的细菌,其他培养基平板上的菌落数目增长不明显.分别使用琼脂和结冷胶作为凝胶剂,结果发现,结冷胶平板和琼脂平板相比,表现出高保湿性、高菌落数和高细菌多样性的特点.变性梯度凝胶电泳(DGGE)分析结果表明,沉积物样品中的优势细菌约60种,经过不同培养基培养后,得到的细菌多样性为50种左右,约为原来总数的83%,但是细菌群落结构发生较大改变,优势菌群发生转化.测序结果证明了这一点.虾池沉积物中有着较高的细菌多样性.培养基的改进、结冷胶的使用和培养时间的延长有效提高了虾池沉积物中细菌的可培养性

不同波段可见光对雨生红球藻生长与虾青素积累的影响

厦门市科技项目(3052Z20031086); 国家大学生创新性实验计划(2007); 福建省大学生创新性实验计划(2007); 厦门大学大学生创新性实验计划(2007); 新加坡厦门大学校友基金会项目(2007)资

生物离子分子组学计划( Bio-imOmics Project:BiP)

“imOmics 离子分子组学”是对生命与非生命物质与外界环境进行离子和分子交换过程的整体研究。依据研究的对象不同可以分为: • “非生物离子分子组学计划(Abiotic imOmics Project:AiP)” • “生物离子分子组学计划(Bio-imOmics Project:BiP)” 生物离子分子组学计划(Bio-imOmics Project:BiP)是利用现代NMT非损伤微测技术等活体离子分子检测技术,结合现代计算机人工智能等科技及生物信息学方法,对生物个体及其各层级组成与外部环境之间,以离子和分子形式进行能量和信息交换的过程,进行系统的、可量化的研究,从整体活体生理机制水平上拓展人类对生命现象的认知和利用

高效溶藻放线菌BS01发酵培养基及发酵条件优化

从漳江口红树林区采集的沉积物样品中分离到1株放线菌菌株BS01 Brevibacterium sp.,其胞外活性产物对塔玛亚历山大藻Alexandrium tamarense具有明显的溶藻作用。采用单因素及均匀设计,通过摇瓶培养对BS01产溶藻活性物质的发酵培养基及发酵条件进行优化。结果表明,在可溶性淀粉为碳源、硝酸钠为氮源、装液量为40%、起始pH值为7.5、培养温度为28℃、转速为150r.min?1、振荡培养时间为48h的条件时,BS01发酵产物的杀藻活性最强。通过均匀设计进行最佳发酵培养基及培养条件优化的结果为:可溶性淀粉为20g.L?1,硝酸钠为0.5g.L?1,pH为7.7,温度为27.2℃。研究结果为杀藻活性物质高效提取及杀藻机制研究奠定了基础

红树林土壤中脂肪酶产生菌的筛选及酶学性质

从福建龙海红树林区土壤中分离获得9株产脂肪酶的细菌,经16S rDNA序列分析表明分别属于红球菌属(Rhodococcus)、库克菌属(Kocuria)、假单胞菌属(Pseudomonas)、芽胞杆菌属(Bacillus)和微小杆菌属(Exiguobacteri-um).对9株细菌所产的脂肪酶进行酶学性质研究,结果显示这些酶的最适作用温度在25~35℃、最适作用pH值在8~10,其中L13菌株所产脂肪酶(L′13)具有适应温度和pH范围较广、对多种金属离子耐受性强、能有效降解不同底物等特点,在环境保护和工业生产方面具有良好的应用前景

Research Progress of SiO2 Regrowth during Selective Etching Process in 3D NAND Manufacture Procedure

作为半导体市场中主要存储芯片之一,NAND已从2D发展到3D。3D NAND的立体存储结构提高了芯片容量、性能和可靠性。在3D NAND的交替堆栈结构中,需通过氮化-物氧化物的选择性刻蚀获得层间介质层,堆栈层数越多,芯片性能越好,但高层堆栈的刻蚀均匀性也更难保持,此时易出现SiO2在氧化层端头再沉积的回沾现象,层间结构被破坏,影响器件性能。要达到更高层数必须减少回沾,探究该过程及其影响因素成为关键所在。本文综述了3D NAND制程中氮化硅选择性刻蚀工艺的发展现状和现有研究成果,强调了控制硅含量对防止回沾的重要性,介绍了相关理论模型,提供模拟预测。为深入分析其中的化学反应,本文对相关的SiO2溶液化学进行了概述,总结了聚硅酸形成的影响因素,强调胶凝曲线能反应其聚合行为,据此可研究怎样通过影响硅酸聚合行为或聚硅酸在氧化层表面的沉积行为来防止回沾,以对未来研究起到理论指导作用.As one of the most significant memory chips in semiconductor market, NAND has been developed from two-dimension (2D) to three-dimension (3D). Due to the three-dimensional memory structure of 3D NAND, the capacity density, read-write speed and reliability of memory chips have been greatly improved, as well as the reduction of power dissipation. It is by nitride-oxide selective etching process in the alternate stacked structure of 3D NAND that the inter-dielectric layers can be obtained. The more stack layers, the better performance of chips will be. Meanwhile, however, silicon dioxide (SiO2) would regrow on the corner of oxide layers, the phenomenon called regrowth, which directly makes damage to the stack structure. If the deposition is so thick that becomes adhesive together, the stack structure will collapse, severely affecting the performance of devices. Preventing SiO2 regrowth is imperative for higher stacked layers, meaning that the key point is to figure out the specific process of regrowth and its impact factors. Due to the rapid development of this field, the existing information is such a mess that there is a lack of sorted information and systematic research dealing with the problem of regrowth. This paper briefly reviewes developing situation and existing research results of silicon nitride selective etching process in 3D NAND manufacture procedure, with emphases in the significance of controlling silicon concentration to avoid regrowth. Furthermore, relative theoretical models are introduced to provide simulation and prediction for regrowth process. In order to analyze the chemical reaction in regrowth, this paper summarizes the relative solution chemistry of silica and the impact of polysilicic acid formation, and suggests that the gel curve can reflect its aggregation behavior. Accordingly, researches on how to avoid regrowth can be guided theoretically by discovering the influence factors of silicic acid aggregation or the deposition behaviors of polysilicic acid on oxide layers.通讯作者:李明E-mail:[email protected]:MingLiE-mail:[email protected].上海交通大学材料科学与工程学院,上海 2002402.上海新阳半导体材料股份有限公司,上海 2016161. College of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China2. Shanghai Sinyang Semiconductor Materials Co., Ltd., Shanghai 201616, Chin