Bayesian Sensitivity Analysis of Flight Parameters in a Hard-Landing Analysis Process

A flight parameter sensor simulation model was developed to assess the conservatism of the landing gear component loads calculated using a typical hard-landing analysis process. Conservatism exists due to factors of safety that are incorporated into any hard-landing analysis process to account for uncertainty in the measurement of certain flight parameters. The flight parameter sensor simulation model consists of 1) an aircraft and landing gear dynamic model to determine the “actual” landing gear loads during a hard landing; 2) an aircraft sensor and data acquisition model to represent the aircraft sensors and flight data recorder systems to investigate the effect of signal processing on the flight parameters; and 3) an automated hard-landing analysis process, representative of that used by airframe and equipment manufacturers, to determine the “simulated” landing gear loads. Using a technique of Bayesian sensitivity analysis, a number of flight parameters are varied in the flight parameter sensor simulation model to gain an understanding of the sensitivity of the difference between actual and simulated loads to the individual flight parameters in symmetric and asymmetric two-point landings. This study shows that the error can be reduced by learning the true value of the following flight parameters: longitudinal tire–runway friction coefficient, aircraft vertical acceleration (related to vertical descent velocity), lateral acceleration (related to lateral velocity), Euler roll angle, mass, center of gravity position, and main landing gear tire type. It was also shown that, due to the modeling techniques used, shock absorber servicing state and tire pressure do not contribute significantly to the error

Photochromic organic-inorganic nanocomposites as holograpahic storage media

This paper describes the properties of some new organic-inorganic photochromic layers. They are based on a hybrid organic-inorganic matrix in which tungsten heteropolyoxometallates (SiW12O404-, PW12O403-) are entrapped in a network obtained from the reaction of 3-glycidoxy-propyltrimethoxysilane. The high homogeneity of these materials on the nanoscale leads to transparent monoliths and layers of controlled thicknesses up to 40 µm. The optical properties of the blend are emphasised and the construction of amplitude gratings in the materials by two-wave-mixing experiments is described. The results of the optical experiments and the comparison with the theoretical background are used as a model for photochromic holographic storage processes

Dynamics of the sol-gel transition in organic-inorganic nanocomposites

Two different techniques have been used to follow the gelation of photochromic organic-inorganic nanocomposites. The variations of molecular and macromolecular motions in these complex systems have been analyzed. Photo-correlation spectroscopy probes the formation of the gel network. Forced Rayleigh scattering experiences the microstructure of the mixtures via the measurement of the translational diffusion coefficient of entrapped photoreactive targets. In the different mixtures, a drop of the network mobility could be observed around the sol to gel conversion, while the entrapped molecules do not experience the macroscopic transition

Searching for epistatic interactions in nuclear families using conditional linkage analysis

BACKGROUND: Genomic screens generally employ a single-locus strategy for linkage analysis, but this may have low power in the presence of epistasis. Ordered subsets analysis (OSA) is a method for conditional linkage analysis using continuous covariates. METHODS: We used OSA to evaluate two-locus interactions in the simulated Genetic Analysis Workshop 14 dataset. We used all nuclear families ascertained by Aipotu, Karangar, and Danacaa. Using the single-nucleotide polymorphism map, multipoint affected-sibling-pair (ASP) linkage analysis was performed on all 100 replicates for each chromosome using SIBLINK. OSA was used to examine linkage on each chromosome using LOD scores at each 3-cM location on every other chromosome as covariates. Two methods were used to identify positive results: one searching across the entire covariate chromosome, the other conditioning on location of known disease loci. RESULTS: Single-locus linkage analysis revealed very high LOD scores for disease loci D1 through D4, with mean LOD scores over 100 replicates ranging from 4.0 to 7.8. Although OSA did not obscure this linkage evidence, it did not detect the simulated interactions between any of the locus pairs. We found inflated type I error rates using the first OSA method, highlighting the need to correct for multiple comparisons. Therefore, using "null chromosome pairs" without simulated disease loci, we calculated a corrected alpha-level. CONCLUSION: We were unable to detect two-locus interactions using OSA. This may have been due to lack of incorporation of phenotypic subgroups, or because linkage evidence as summarized by LOD scores performs poorly as an OSA covariate. We found inflated type I error rates, but were able to calculate a corrected alpha-level for future analyses employing this strategy to search for two-locus interactions

Nano- und Mikro Strukturierung von Nanokompositen auf Glas durch optische Raster-Nahfeldmikroskopie

Die Erzeugung von Strukturen im Bereich von Mikro- bzw. Nanometern ist eine wesentliche Voraussetzung für die Funktionalisierung von Glasoberflächen. Bis in den Bereich von 0,10 µm stellt die Lithografie die dominierende Strukturierungstechnik dar. Unterhalb dieser Abmessungen verhindern Beugungsphänomene die Erzeugung von noch kleineren Strukturen. Verbesserungen hinsichtlich der Auflösung konnten durch Verringerung der verwendeten Wellenlänge erzielt werden. Gleichzeitig erfordert dies die Entwicklung von Linsen, die im Bereich von λ~193 nm hinreichend durchlässig sind. Die lithografische Technik wurde zudem durch weiterführende Ansätze verbessert. Exemplarisch sei hier die Röntgenlithografie, extreme Ultraviolettlithografie, Elektronenstrahllithografie oder Rastersondenlithografie genannt. Rastersondenlithografie ist aufgrund ihrer hohen Auflösung von bis zu 20 nm eine der vielversprechendsten Methoden. Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich aus diesem Grund mit der lithografischen Mikro- und Nanostrukturierung unter Verwendung der optischen Rasternahfeldmikroskopie (Scanning Near Field Optical Microskopie (SNOM)). SNOM-Lithografie kombiniert die etablierte Rastersondentechnik mit den Vorteilen der Nahfeldoptik und erreicht auf diese Weise Auflösungen im Bereich von Rasterelektronenmikroskopen (REM). Zudem besitzt die SNOM Methode den Vorteil, dass für den Betrieb kein Vakuum erforderlich ist. Eine Großserienproduktion oder großflächige Herstellung von strukturierten Oberflächen durch direktes Schreiben mit SNOM-Sonden auf ein Substrat ist ökonomisch nicht sinnvoll

Redsharc: A Programming Model and On-Chip Network for Multi-Core Systems on a Programmable Chip

The reconfigurable data-stream hardware software architecture (Redsharc) is a programming model and network-on-a-chip solution designed to scale to meet the performance needs of multi-core Systems on a programmable chip (MCSoPC). Redsharc uses an abstract API that allows programmers to develop systems of simultaneously executing kernels, in software and/or hardware, that communicate over a seamless interface. Redsharc incorporates two on-chip networks that directly implement the API to support high-performance systems with numerous hardware kernels. This paper documents the API, describes the common infrastructure, and quantifies the performance of a complete implementation. Furthermore, the overhead, in terms of resource utilization, is reported along with the ability to integrate hard and soft processor cores with purely hardware kernels being demonstrated

Entwicklung und Anwendung von Lichtlenkelementen auf Glas über Kontaktlithographie mit organisch-anorganischen Nanokompositen

Bei den holografischen Lichtlenkelementen (LLE) handelt es sich um brechungsindexmodulierte Filme, die in Abhängigkeit vom Betrachtungswinkel sowohl lichtstreuende als auch transparente Eigenschaften in sich vereinen. Eine Brechungsindexmodulation kann z. B. durch einen kontaktlithografischen Prozess innerhalb eines photosensitiven Materials erzeugt werden. Ein geeignetes photosensitives Material ist ein s.g. Photopolymerfilm. Die Brechungsindexmodulation basiert auf der Schaffung von lokalen Konzentrationsgradienten von Verbindungen, die sich in ihrem Brechnungsindex hinreichend unterscheiden. Bei den organisch-anorganischen Nanokompositen (Photoanomere) wird durch den Einsatz von nanoskaligen, anorganischen Partikeln (z.B. ZrO2), dispergiert in einer flüssigen, härtbaren Matrixphase, der im Vergleich zu organischen Verbindungen, höhere Brechnungsindex von geeigneten anorganischen Partikeln (z. B. TiO2, Ta2O5, ZrO2) ausgenutzt. Dadurch gelingt die Steigerung der Brechungsindexmodulation gegenüber photopolymeren Filmen. In einer speziellen Belichtung des Photoanomers können LLE-Filme hergestellt werden, die senkrecht einfallendes Licht in einem kleinen Winkelbereich stark streuen, schräg einfallendes Licht dagegen viel stärker gerichtet transmittieren. Dieses Verhalten eignet sich hervorragend für Projektionsschirme, die das einfallende Licht sehr viel effizienter ins Auge des Betrachters lenken als konventionelle Leinwände und zudem unempfindlicher sind gegen diffuses Streulicht. Ziel der vorgestellten Untersuchungen ist die Herstellung entsprechender Photoanomer basierender LLE-Filme (PN-LLE) direkt auf Glas- bzw. Spiegeloberflächen zur Verwendung als Projektionsschirme