Modification des propriétés magnétiques de couches minces de nickel et de manganèse et réalisation de microstructures magnétiques par implantation ionique en immersion plasma

NOUS AVONS TOUT D'ABORD ETUDIE LE DEPOT DE COUCHES MINCES DE MANGANESE ET DE NICKEL SUR SILICIUM 100 PAR PULVERISATION IONIQUE ASSISTEE PAR PLASMA MICRO-ONDE MUL TIDIPOLAIRE. LES COUCHES DE NICKEL ET DE MANGANESE DEPOSEES ONT ENSUITE ETE IMPLANTEES PAR DE L'AZOTE EN UTILISANT LA TECHNIQUE D'IMPLANTATION IONIQUE EN IMMERSION PLASMA ASSISTEE PAR PLASMA MICRO-ONDE DECR. CETTE TECHNIQUE NOUS A PERMIS DE SYNTHETISER LES NITRURES NI3N ET MN4N MALGRE LA METASTABILITE DU NI3N ET LA FORTE REACTIVITE CHIMIQUE A L'OXYGENE DU MANGANESE. NOUS AVONS ENSUITE IMPLANTE DE L'AZOTE DANS UNE DOUBLE COUCHE NI SUR MN POUR LES NITRURER SIMULTANEMENT EN FORMANT L'EMPILEMENT NI3N SUR MN4N. LE CARACTERE METASTABLE DE NI3N ET LA FORTE AFFINITE DU MANGANESE POUR L'AZOTE, TRADUIT PAR UNE GRANDE DIFFERENCE D'ENTHALPIE DE FORMATION DES COMPOSES NI3N ET DES NITRURES DE MANGANESE, A CONDUIT L'AZOTE IMPLANTE A DIFFUSER ENTIEREMENT DANS LE MANGANESE LORS DU RECUIT POST IMPLANTATION. POUR FINIR, NOUS AVONS INITIER L'ETUDE DE LA REALISATION D'UNE MICROSTRUCTURE MAGNETIQUE PAR IMPLANTATION D'AZOTE DANS UNE COUCHE DE NICKEL A TRAVERS UN MASQUE ORGANIQUE.GRENOBLE1-BU Sciences (384212103) / SudocSudocFranceF

Broadband and time-resolved absorption spectroscopy with light emitting diodes: Application to etching plasma monitoring

International audienceBroad band absorption spectroscopy is widely used to measure the concentration of radicals, which is important to understand the physical chemistry of many plasmas. It is possible to increase the sensitivity of this technique and to perform time-resolved measurement by using light emitting diodes (LEDs) as a light source. The method is applied to detect CF2 radicals and Cl2 molecules in high density plasmas. The detection limit over 10ms integration time is as low as 3mTorr of Cl2. We conclude that the absorption spectroscopy with LEDs opens possibilities for precise process control and fundamental analysis of reactive media

Structural and magnetic properties of Ni3N synthesized by multidipolar microwave plasma-assisted reactive sputtering

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Nonmagnetic thin layers of Ni3N

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