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    Reduced graphene oxide decorated with Ni-Fe-Mo permalloy obtained by sputtering

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    This work illustrates an effective method for obtaining hybrid nanoparticles of Ni-Fe-Mo permalloy and reduced graphene oxide (rGO). The metallic nanoparticles were spread by the sputtering technique, which allowed a good dispersion of the metallic nanoparticles onto rGO substrate powder. TEM showed permalloy nanoparticles smaller than 8 nm uniformly distributed throughout rGO. Permalloy/rGO hybrid with 10.5 wt% loading of permalloy nanoparticles was calculated by TGA. RBS experiment reveals that permalloy target and the nano-particles deposited have similar composition. The interaction between permalloy and rGO was studied by FT-IR. Ni-Fe-Mo/rGO presented an electrical conductivity of 122 Scm -¹, significantly higher than the original rGO and a magnetization hysteresis-loop coercivity of 16 Oe at room temperature. To our knowledge this is the first work in which permalloy nanoparticles are deposited onto graphene powder substrate by a physical impregnation technique

    Nanoestruturas de óxidos de Al e Ti obtidas a partir do processo de anodização : fabricação, caracterização e aplicações

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    A presente tese de doutorado apresenta resultados sobre nanoestruturas obtidas pelo processo de anodização a partir de Al Bulk, filmes finos de Al sobre Si e de Ti Bulk e alguns resultados novos e preliminares sobre o uso das mesmas em aplicações tais como: superfícies superhidrofóbicas e foto-catalisadores para produção de H2. Foi desenvolvida uma rota inovadora de fabricação de nanotubos de alumina, através da mudança da geometria (razão dos eletrodos de Pt e Al) do sistema de anodização, seguida de etching químico em temperatura de 5°C. Essa mudança altera a cinética da anodização, modificando a velocidade de expansão da célula hexagonal da alumina. Com isso, obtêm-se zonas de defeitos que são revelados durante o processo de etching químico. No processo de anodização em filmes finos de Al, foi demonstrado um procedimento de controle dimensional e estrutural de nanoporos de alumina, a partir do controle do tamanho de grãos de Al. Foi verificado também que o aumento do tempo de anodização para filmes finos de Al sobre Si, induz a oxidação do Si, gerando um stress na interface, devido à expansão do SiO2. Esse efeito é responsável pela mudança dimensional e estrutural da alumina porosa. Na anodização do Ti para a formação de nanotubos de TiO2, obtivemos um novo método de dopagem in situ dos nanotubos com nanopartículas de ouro, modificando as propriedades físico-químicas dos nanotubos de TiO2. Na última parte desta tese de doutorado, são apresentadas possíveis aplicações para estas nanoestruturas, como superhidrofobicidade e como catalisadores para produção de H2. Os principais resultados mostram que no caso da superhidrofobicidade foram obtidos ângulos de contato de 165° e, na produção de H2, um aumento significativo com a amostra dopada com nanopartículas de Au.This thesis presents results on nanostructures obtained by anodization of Al bulk, Al thin films on Si and Ti bulk, and some new and preliminary results on the use of these structures in applications, such as superhydrophobic surfaces and photocatalysts for H2 production. We developed a novel route for fabrication of alumina nanotubes by changing the geometry (ratio between electrodes of Pt and Al) of the anodization system, followed by chemical etching at a temperature of 5°C. This procedure modifies the kinetics of anodization, increasing the expansion speed of the hexagonal alumina cell. Therefore, defective areas are revealed during chemical etching. It is shown that control of the Al grain size before the anodization process of Al thin films makes possible control of dimension and structure of the alumina nanopores. It was also found that increse of anodization time leads to oxidation of the Si substrate, wich generates a stress at the interface between the Al thin film and the Si substrate due to the expansion of SiO2. This effect is responsible for the dimensional and structural change of porous alumina. A new Ti anodization process for doping the TiO2 nanotubes with Au nanoparticles is presented. This process is capable of modifing the physico-chemical properties of the TiO2 nanotubes as photo-catalysts. In the last part of this thesis it is presented applications for these nanostructures, using them as superhydrophobic structures and as photo-catalysts for H2 production. The main results show that contact angles of 165° for a superhydrophobic surface were obtained, as well as a significant increase of H2 production from the sample doped with Au nanoparticles

    Deposi??o e caracteriza??o de filmes finos de TiOx formados por DC Magnetron Sputtering reativo : estudo de transi??o estrutural

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    Made available in DSpace on 2015-04-14T13:58:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 346970.pdf: 5694596 bytes, checksum: 24b9353bbaf3d5112f6c7156ccf9c6c0 (MD5) Previous issue date: 2006-08-23Filmes finos de ?xido de tit?nio (TiOx) foram depositados por DC Magnetron Sputtering reativo utilizando um alvo de Tit?nio (99,95 %) e uma mistura de gases Arg?nio (99,9999 %) e Oxig?nio (99,999 %). Foi alterada a atmosfera do plasma variando as press?es parciais de Ar + O2 de 0,7 a 12. O ?ndice de refra??o dos filmes foi medido atrav?s das t?cnicas de Elipsometria e Abel?s-Hackscaylo. A rela??o estequiom?trica de O / Ti e a estrutura cristalina foram medidas por RBS e XRD respectivamente. A dureza (H) foi medida utilizando testes instrumentados de dureza (HIT). A morfologia superficial dos filmes finos de TiOx foi avaliada pela t?cnica de AFM. Foi verificada neste trabalho uma rela??o direta entre as propriedades f?sicas e qu?micas dos filmes em rela??o ? altera??o da raz?o de Ar / O2. A altera??o de Ar / O2 propiciou ainda a forma??o de filmes finos com diferentes caracter?sticas sendo poss?vel dividi-los em tr?s diferentes regi?es. A primeira regi?o referente aos filmes de raz?o Ar / O2 de 0,7 a 7 apresentaram ?ndice de refra??o de 2.557 a 2.473 e estrutura composta pelas fases anatase e brookite. A segunda regi?o ? composta pelos filmes com raz?o de Ar / O2 de 7,5 a 8,5. Estas amostras apresentaram ?ndice de refra??o de 2.246 a 2.295 e estrutura cristalina referente ? fase amorfa. A amostra com raz?o de Ar / O2 = 8 apresentou, por?m ?ndice de refra??o de 1,69 sendo muito inferior aos valores da fase amorfa encontrada na literatura. Esta amostra particularmente representa o limite entre a forma??o de filmes com estrutura cristalina e estrutura amorfa quando depositados por DC Magnetron Sputtering reativo. A terceira regi?o corresponde ?s amostras depositadas com raz?o de Ar / O2 de 10 a 11. Estas amostras come?aram a apresentar caracter?sticas met?licas indicando serem o in?cio de uma regi?o com predom?nios met?licos
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