Universidade Federal do Rio Grande do SulFísicaQuímicaDepositad

Dupont, Jairton

Eberhardt, Dario

Feil, Adriano Friedrich

Gonçalves, Renato Vitalino

Migowski, Pedro

Silva Junior, Paulo Emmanuel de Gryp da Cunha e

Teixeira, Sergio Ribeiro

Portuguese

Universidade Federal do Rio Grande do SulFísicaQuímic

Lume 5.8

(22) Data do Depósito: 20/01/2012(43) Data da Publicação: 27/03/2018(21) BR 102012001392-4 A2Ministério da Indústria, Comércio ExteriorRepública Federativa do BrasilInstituto Nacional da Propriedade Industriale Serviços*BR102012001392AINPI(54) Título: EQUIPAMENTO E PROCESSOPARA DEPOSIÇÃO DE MATERIAISPULVERIZADOS EM SUPORTESPARTICULADOS(51) Int. Cl.: C23C 14/50; C23C 14/54; C23C16/458; C23C 16/52(52) CPC: C23C 14/505,C23C 14/541,C23C14/548,C23C 16/4584,C23C 16/52(73) Titular(es): UNIVERSIDADE FEDERAL DORIO GRANDE DO SUL(72) Inventor(es): DARIO EBERHARDT;PAULO EMMANUEL DE GRYP DA CUNHA ESILVA JR.; RENATO VITALINO GONÇALVES;JAIRTON DUPONT; ADRIANO FRIEDRICHFEIL; PEDRO MIGOWSKI DA SILVA; SÉRGIORIBEIRO TEIXEIRA(57) Resumo: RESUMO EQUIPAMENTO EPROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DEMATERIAIS PULVERIZADOS EM SUPORTESPARTICULADOS É descrito um equipamentopara deposição de materiais pulverizados emsuportes particulados que promove a agitaçãodos suportes dentro da região de evaporaçãoatravés de um sistema de agitação variável,possibilitando encontrar as frequências deressonância para cada suporte a ser impregnadoe/ou revestido, produzindo um materialevaporado extremamente puro e limpo, sem anecessidade das etapas de calcinação eredução química que podem gerar resíduos econtaminantes indesejados ·no material obtido.Ainda, a é descrito um processo para deposiçãode materiais pulverizados em suportesparticulados impregnados com qualquer tipo demetal, materiais semicondutores, poliméricos ecerâmicos, que produz catalisadores, cerâmicasmetalizadas, cerâmicas magnéticas, suportesmagnéticos, suportes metalizados, suportesrecobertos com material semicondutor, suportesrecobertos com material metálico, suportesrecobertos com material bi-metálico, uso decobertura sobre remédios, substratos comsistemas ainda não utilizados devido àslimitaçðes dos processo(...)1/3 FIGURAS   Figura 1 Petição 870180014358, de 22/02/2018, pág. 3/82/3   Figura 2       Figura 3  (a) (b) (a) (b) Petição 870180014358, de 22/02/2018, pág. 4/83/3  Figura 4   Tempo (h) hidrogenação de cicloexeno Petição 870180014358, de 22/02/2018, pág. 5/8

Equipamento e processo para deposição de materiais pulverizados em suportes particulados

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