A Tentative Study on the Strategy of Protecting the Cultural Heritage in Urban Village --A Case Study of Nijin Community in Wutong Village, Xiamen City

在快速的城市化进程中,城中村问题频现,许多城中村文化处于没落的边缘。在此背景下,本文选择厦门岛的一个城中村——五通村泥金社作为研究对象。通过实地调研,发掘其中的文化遗产价值和构成体系,探讨文化遗产保护的原则和制定具体策略,为城中村改造、协调城市发展与城中村文化延续起到一定的积极作用。Abstract：in fhe process of rapid urbanization, the problem of many villagesin the city appeared frequently, and the village culture in the city was on the edge of decline.In this context, this paper chooses Xiamen City, a village in the city Nijin Community,Wutong village, as the research object.Through the field research, the paper explores the value and composition of cultural heritage, discusses the principles of cultural heritage protection and the development of specific strategies, and plays a positive role in the village in the city transformation, coordination of urban development and the continuation of urban culture.福建省教育厅A类科技项目JA14018

LIVING COCCOLITHOPHORES IN THE WESTERN SOUTH CHINA SEA IN SUMMER 2007

首次报道了南海西部上层水体今生颗石藻的物种组成、群落结构和分布。根据2007年9月在南海西部海域(11°—15°n,110°—114°E)32个站位采集的200M以浅208个颗石藻样品在偏光显微镜下的分析结果,研究了该海域颗石藻群落特征,并进行了颗石藻与环境因子的典范对应分析(CCA)。调查区共发现20种今生颗石藻,其优势物种为赫氏艾密里藻EMIlIAnIA HuXlEyI(lOHMAnn)HAy ET MOHlEr、大洋桥石藻gEPHyrOCAPSA OCEAnICA kAMPTnEr、深水花球藻flOrISPHAErA PrOfundA OkAdA ET HOnJO、纤细伞球藻uMbEllOSPHAErA TEnuIS(kAMPTnEr)PAASCHE和艾氏桥石藻gEPHyrOCAPSA ErICSOnII MCInTyrE ET bé。本次调查中,今生颗石藻的细胞丰度在2.97—32960.06CEllS/l之间,平均值为3340.75CEllS/l。整个研究海域中,今生颗石藻的分布呈现出一定的团块分布现象,调查区大部分站位均是赫氏艾密里藻和大洋桥石藻占有较高的相对细胞丰度,这两种藻的分布刻画了整个今生颗石藻群落在调查区的分布,它们多分布在50M和75M水层,且集中在西北部和西南部,水柱积分颗石藻平面分布也是如此。与以上两种藻的分布不同,深水花球藻则多分布于50M以深至200M,特别是50—75M水层的西北和东南部海域,而纤细条伞球藻则多集中在调查区25M水层的北部海域。We carried out an investigation on living coccolithophores(LC)and their community structure in western South China Sea(11°—15°N,110°—114°E)in summer 2007.208 samples from the upper seawaters(less than 200 m depth)were taken at 32 grid stations.A total of 20 taxa belonging to Coccolithophyceae were identified by filtered samples under polarizing microscope.The common species were Emiliania huxleyi(Lohmann)Hay et Mohler,Gephyrocapsa oceanica Kamptner,Florisphaera profunda Okada et Honjo,Umbellosphaera tenuis(Kamptner)Paasche and Gephyrocapsa ericsonii McIntyre et Bé,etc.among which E.huxleyi and G.oceanica were dominated.The average cell abundance of LC was ranged from 2.97—32960.06 cells/L,with an average 3340.75 cells/L during this investigation.The space pattern of LC was patchness and mosaicism with relative high density.E.huxleyi and G.oceanica were distributed widely and abundantly at each station,which can represent the pattern of LC during the investigation,and mostly thrived at 50 and 75 m depth in the northwest and southwest part of the survey area.Differently with the above two coccolithophores,F.profunda was mainly distributed in water depth deeper than 50 m,especially between 50 and 75m in the northwest and southeast part of the survey area,and U.tenuis in shallow water above 25m depth in the north part of the survey area.国家自然科学基金项目;40776093、405210003和90711006号;中国科学院知识创新重点项目;KZCX2-YW-QN205号;国家重点基础研究发展计划(973)项目;2009CB421202

幽门螺杆菌的生物学特性及其免疫学研究

研究一株幽门螺杆菌 HP-WGM的生物学特性及它和三种脲酶亚单位蛋白的免疫原性 ,为研制疫苗提供必要、有价值的材料。在厌氧微生物技术培养后 ,通过各项生理生化实验确定菌株的生物学特性。采用 PCR等分子生物学技术获得脲酶亚单位蛋白 ,EL ISA试验分析它们的免疫原性。 HP-WGM革兰染色阴性 ,杆状 ,稍弯曲 ,带鞭毛。该菌脲酶 ,触酶 ,氧化酶均为阳性 ,不还原硝酸盐 ,H2 S的生成试验阴性 ,其生长耐受 3 .5% Na Cl、1 %甘氨酸 ,水解淀粉 ,不液化明胶。该菌和 3种表达得到的幽门

含石墨烯胞室结构的铜复合材料及其耐腐蚀性能

目的开发一种石墨烯在铜基复合材料中的均匀分散结构,制备出兼具高导电和强抗刻蚀性能的石墨烯/铜复合材料。方法采用化学气相沉积原位生长法结合分散剂工艺,制备分散均匀石墨烯/铜基粉体复合材料。利用制备的石墨烯/铜粉体材料,采用真空热压工艺,制备了石墨烯/铜块体材料,然后用拉曼光谱、X射线粉末衍射仪和金相显微镜,考察石墨烯/铜试样的质量和形貌,最后用数字便携式涡流电导仪测量其电导率。利用自主设计的石墨烯/铜在过硫酸铵中刻蚀的实验装置,测试石墨烯/铜的抗刻蚀性能。结果利用石墨烯/铜粉体制备的石墨烯/铜块体和铜具有相同的(111)、(200)和(220)晶面,多层石墨烯以立体胞室结构均匀分布在铜晶粒的晶界处。石墨烯/铜块体的导电率为96%IACS,明显优于文献报道的以其他方法制备的石墨烯/铜块体,并且在过硫酸铵溶液中浸泡90 min后,石墨烯/铜块的质量损失为126.6 mg,石墨烯/铜比纯铜的抗刻蚀能力提高了37.6%,具有比铜更强的抗刻蚀性能。结论以CVD原位生长法和真空热压法制备的石墨烯/铜复合材料,石墨烯以立体胞室结构均匀分散在铜界面处,并且兼具高的导电性和强的抗刻蚀性能

含石墨烯胞室结构的铜复合材料及其耐腐蚀性能

目的开发一种石墨烯在铜基复合材料中的均匀分散结构,制备出兼具高导电和强抗刻蚀性能的石墨烯/铜复合材料。方法采用化学气相沉积原位生长法结合分散剂工艺,制备分散均匀石墨烯/铜基粉体复合材料。利用制备的石墨烯/铜粉体材料,采用真空热压工艺,制备了石墨烯/铜块体材料,然后用拉曼光谱、X射线粉末衍射仪和金相显微镜,考察石墨烯/铜试样的质量和形貌,最后用数字便携式涡流电导仪测量其电导率。利用自主设计的石墨烯/铜在过硫酸铵中刻蚀的实验装置,测试石墨烯/铜的抗刻蚀性能。结果利用石墨烯/铜粉体制备的石墨烯/铜块体和铜具有相同的(111)、(200)和(220)晶面,多层石墨烯以立体胞室结构均匀分布在铜晶粒的晶界处。石墨烯/铜块体的导电率为96%IACS,明显优于文献报道的以其他方法制备的石墨烯/铜块体,并且在过硫酸铵溶液中浸泡90 min后,石墨烯/铜块的质量损失为126.6 mg,石墨烯/铜比纯铜的抗刻蚀能力提高了37.6%,具有比铜更强的抗刻蚀性能。结论以CVD原位生长法和真空热压法制备的石墨烯/铜复合材料,石墨烯以立体胞室结构均匀分散在铜界面处,并且兼具高的导电性和强的抗刻蚀性能

石墨烯增强铜基复合材料的研究进展

石墨烯具有超高的比表面积和优异的力学性能,是铜基复合材料理想的增强体。传统的粉末冶金工艺很难解决石墨烯在铜基体中的分散问题,以及石墨烯与铜基体结合性差的难题。随着近些年研究者对石墨烯?铜界面问题深入的探索,一些新的制备工艺不断出现。本文系统地介绍和对比了近几年石墨烯增强铜基复合材料的制备工艺,概述了关于石墨烯/铜复合材料力学性能的研究进展,总结了石墨烯增强铜基复合材料力学性能的机理,并对未来石墨烯增强铜基复合材料的研究重点进行了展望