Controllable Synthesis of Few-Layer Graphene on β-SiC(001)

Few-layer graphene exhibits exceptional properties that are of interest for fundamental research and technological applications. Nanostructured graphene with self-aligned domain boundaries and ripples is one of very promising materials because the boundaries can reflect electrons in a wide range of energies and host spin-polarized electronic states. In this chapter, we discuss the ultra-high vacuum synthesis of few-layer graphene on the technologically relevant semiconducting β-SiC/Si(001) wafers. Recent experimental results demonstrate the possibility of controlling the preferential domain boundary direction and the number of graphene layers in the few-layer graphene synthesized on the β-SiC/Si(001) substrates. Both these goals can be achieved utilizing vicinal silicon wafers with small miscuts from the (001) plane. This development may lead to fabricating new tunable electronic nanostructures made from graphene on β-SiC, opening up opportunities for new applications

Atomic and electronic structure of nanostructured few-layer graphene with self-aligned boundaries synthesized on SiC/Si(001) wafers

This work was partially supported by the Russian Academy of Sciences, Russian Foundation for Basic Research (grant № 17-02-01139, 17-02-01291), Beijing Institute of Technology Research Fund Program for Young Scholars, and Science Foundation Ireland

Маркетинговые методы в работе медицинской библиотеки

Application of marketing approaches in the Scientific Medical Library of the SSMU. The use of additional financial assets for library development. Informational and promotional activities. Library work on the formation and perfection of the image.Внедрение маркетинговых подходов в научно-медицинской библиотеке Сибирского государственного медицинского университета (НМБ СГМУ). Привлечение дополнительных финансовых средств на развитие библиотеки. Информационная и рекламная деятельность. Работа библиотеки по формированию и совершенствованию имиджа

Методы исследования дислокационной структуры полупроводниковых монокристаллов группы AIIIBV

The development pace of advanced electronics raises the demand for semiconductor single crystals and strengthens the requirements to their structural perfection. Dislocation density and distribution pattern are most important parameters of semiconductor single crystals which determine their performance as integrated circuit components. Therefore studies of the mechanisms of dislocation nucleation, slip and distribution are among the most important tasks which make researchers face the choice of suitable analytical methods. This work is an overview of advanced methods of studying and evaluating dislocation density in single crystals. Brief insight has been given on the main advantages and drawbacks of the methods overviewed and experimental data have been presented. The selective etching method (optical light microscopy) has become the most widely used one and in its conventional setup is quite efficient in the identification of scrap defects and in dislocation density evaluation by number of etch pits per vision area. Since the introduction of digital light microscopy and the related transfer from image analysis to pixel intensity matrices and measurement automation, it has become possible to implement quantitative characterization for the entire cross-section of single crystal wafers and analyze structural imperfection distribution pattern. X-ray diffraction is conventionally used for determination of crystallographic orientation but it also allows evaluating dislocation density by rocking curve broadening in double-crystal setup. Secondary electron scanning electron microscopy and atomic force microscopy allow differentiating etch patterns by origin and studying their geometry in detail. Transmission electron microscopy and induced current method allow obtaining micrographs of discrete dislocations but require labor-consuming preparation of experimental specimens. X-ray topography allows measuring bulky samples and also has high resolution but is hardly suitable for industry-wide application due to the high power consumption of measurements.Digital image processing broadens the applicability range of basic dislocation structure analytical methods in materials science and increases the authenticity of experimental results.Темпы развития современной электроники помимо повышения спроса на полупроводниковые монокристаллы приводят к возрастанию требований по их структурному совершенству. Плотность дислокаций и характер их распределения являются важнейшими характеристиками полупроводниковых монокристаллов, определяющими дальнейшую эффективность их применения в качестве элементов интегральных систем. В связи с этим изучение механизмом возникновения, скольжения и распределения дислокаций — одна из актуальных задач, которая ставит ученных перед выбором метода исследования. В данной работе приведен обзор современных методик исследования и подсчета плотности дислокаций в монокристаллах. Дан краткий анализ основных преимуществ и недостатков каждого метода, а также приведены экспериментальные результаты. Метод избирательного травления (световой оптической микроскопии) получил наибольшее распространения и в своем классическом варианте является очень эффективным при решении задач обнаружения дефектов, приводящих к браку, и оценки плотности дислокаций по числу ямок травления, пересчитанных на площадь поля зрения. С использованием цифровой световой микроскопии, за счет перехода от анализа изображений к матрице значений интенсивности отдельного пикселя и автоматизации процесса измерений, становится возможным количественный анализ по всему поперечному сечению монокристаллической пластины и анализ характера распределения структурных несовершенств. Метод рентгеновской дифракции традиционно используется для определения кристаллографической ориентации, но также позволяет оценить величину плотности дислокаций по уширению кривой качания в случае двухкристальной геометрии. Методы растровой электронной микроскопии во вторичных электронах и атомно-силовой микроскопии позволяют дифференцировать фигуры травления по природе их возникновения и детально изучить их геометрию.Просвечивающая электронная микроскопия и метод наведенных токов позволяют получать микрофотографию отдельных дислокаций, но требуют трудоемкой предварительной подготовки экспериментальных образцов. Рентгеновская топография дает возможность работать с массивными образцами и также обладает высокой разрешающей способностью, но в связи с высокой энергоемкостью процесса измерений слабо применима в условиях производства.Цифровая обработка изображений позволяет расширить спектр возможностей основных материаловедческих методов исследования дислокационной структуры и повысить объективность получаемых результатов

Dosage forms for children under 5 years of age

The article deals with the problem of the lack of special children's dosage forms, despite the intensive development in modern pediatrics. This is due to the insufficient number of clinical trials conducted compared to adults. To assess the effect of the drug and its form on the child's body, it is necessary to take into account the age of the child. For each period of childhood, certain features of pharmacokinetics are characteristicВ статье рассмотрена проблема отсутствия специальных детских лекарственных форм, вопреки интенсивному развитию современной педиатрии. Это связано с недостаточным количеством проведения клинических испытаний. Для оценки влияния лекарственного препарата и его формы на организм ребенка, необходимо учитывать его возраст. Для каждого периода детского возраста свойственны определенные особенности фармакокинетик

Transport properties of copper phthalocyanine based organic electronic devices

Ambipolar charge carrier transport in Copper phthalocyanine (CuPc) is studied experimentally in field-effect transistors and metal-insulator-semiconductor diodes at various temperatures. The electronic structure and the transport properties of CuPc attached to leads are calculated using density functional theory and scattering theory at the non-equilibrium Green's function level. We discuss, in particular, the electronic structure of CuPc molecules attached to gold chains in different geometries to mimic the different experimental setups. The combined experimental and theoretical analysis explains the dependence of the mobilityand the transmission coefficient on the charge carrier type (electrons or holes) and on the contact geometry. We demonstrate the correspondence between our experimental results on thick films and our theoretical studies of single molecule contacts. Preliminary results for fluorinated CuPc are discussed.Comment: 18 pages, 16 figures; to be published in Eur. Phys. J. Special Topic

A photochemical approach for a fast and self-limited covalent modification of surface supported graphene with photoactive dyes

Herein, we report a simple method for a covalent modification of surface supported graphene with photoactive dyes. Graphene was fabricated on cubic-SiC/Si(001) wafers due to their low cost and suitability for mass-production of continuous graphene fit for electronic applications on millimetre scale. Functionalisation of the graphene surface was carried out in solution via white light induced photochemical generation of phenazine radicals from phenazine diazonium salt. The resulting covalently bonded phenazine-graphene hybrid structure was characterised by scanning tunnelling microscopy (STM) and spectroscopy (STS), Raman spectroscopy and density functional theory (DFT) calculations. It was found that phenazine molecules form an overlayer, which exhibit a short range order with a rectangular unit cell on the graphene surface. DFT calculations based on STM results reveal that molecules are standing up in the overlayer with the maximum coverage of 0.25 molecules per graphene unit cell. Raman spectroscopy and STM results show that the growth is limited to one monolayer of standing molecules. STS reveals that the phenazine-graphene hybrid structure has a band gap of 0.8 eV

Исследование влияния вида обработки на прочность монокристаллических пластин нелегированного антимонида индия

The method of plane-transverse bending was used to measure the strength of thin single-crystal plates of undoped InSb with a crystallographic orientation of (100). It was found that the strength of the plates (thickness ≤ 800 μm) depends on their processing. Using a full processing cycle (grinding and chemical polishing) allows to increase the strength of InSb plates by 2 times (from 3.0 to 6.4 kg/mm2). It is shown that the dependence of strength on processing for wafers with (100) orientation is similar to this dependence for wafers (111), while the strength of wafers (111) is 2 times higher. The contact profilometry method was used to measure the roughness of thin plates, which also passed successive processing steps. It was found that during a full cycle of processing, the roughness of InSb plates decreases (Ra from 0.6 to 0.04 μm), leading to a general smoothing of the surface roughness. The strength and roughness of the (100) InSb and GaAs wafers are compared. It was found that the strength of GaAs cut wafers is 2 times higher than the strength of InSb cut wafers and slightly increases after a full cycle of their processing. It was shown that the roughness of GaAs and InSb plates after a full cycle of surface treatment is significantly reduced: 10 times for InSb due to overall surface leveling and 3 times for GaAs (Rz from 2.4 to 0.8 μm) due to a decrease in the peak component. Conducting a full cycle of processing InSb plates can increase their strength by removing broken layers by sequential operations and reducing the risk of mechanical damage.Методом плоско-поперечного изгиба проведены измерения прочности тонких монокристаллических пластин нелегированного InSb с кристаллографической ориентацией (100). Установлено, что прочность пластин (толщиной ≤ 800 мкм) зависит от их обработки. Использование полного цикла обработки (шлифовки и химической полировки) позволяет увеличить прочность пластин InSb в 2 раза (от 3,0 до 6,4 кг/мм2). Показано, что зависимость прочности от обработки для пластин с ориентацией (100) аналогична этой зависимости для пластин (111), при этом величина прочности пластин (111) в 2 раза выше. Методом контактной профилометрии измерена шероховатость тонких пластин, также прошедших последовательные этапы обработки. Установлено, что при проведении полного цикла обработки шероховатость пластин InSb уменьшается (Ra от 0,6 до 0,04 мкм), приводя к общему выравниванию шероховатости на поверхности. Проведено сравнение прочности и шероховатости пластин (100) InSb и GaAs. Установлено, что прочность резаных пластин GaAs в 2 раза выше прочности резаных пластин InSb и незначительно увеличивается после полного цикла их обработки. Показано, что шероховатость пластин GaAs и InSb после полного цикла обработки поверхности значительно уменьшается: в 10 раз для InSb за счет общего выравнивания поверхности и в 3 раза для GaAs (Rz от 2,4 до 0,8 мкм) за счет снижения пиковой составляющей. Проведение полного цикла обработки пластин InSb позволяет повысить их прочность, удаляя нарушенные слои последовательными операциями и снижая риск развития механических повреждений

Large positive in-plane magnetoresistance induced by localized states at nanodomain boundaries in graphene

Graphene supports long spin lifetimes and long diffusion lengths at room temperature, making it highly promising for spintronics. However, making graphene magnetic remains a principal challenge despite the many proposed solutions. Among these, graphene with zig-zag edges and ripples are the most promising candidates, as zig-zag edges are predicted to host spin-polarized electronic states, and spin-orbit coupling can be induced by ripples. Here we investigate the magnetoresistance of graphene grown on technologically relevant SiC/Si(001) wafers, where inherent nanodomain boundaries sandwich zig-zag structures between adjacent ripples of large curvature. Localized states at the nanodomain boundaries result in an unprecedented positive in-plane magnetoresistance with a strong temperature dependence. Our work may offer a tantalizing way to add the spin degree of freedom to graphene