4 research outputs found

    Π“Π΅ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½Π΅ Ρ‚Π° ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΎ-сорбційнС модифікування високодиспСрсного ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Π΅Π·Π΅ΠΌΡƒ Π² ΡƒΠΌΠΎΠ²Π°Ρ… Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ диспСрсійного сСрСдовища

    Get PDF
    Methods of geometric and solvate-stymulated mechano-sorption-activated modification of fumed nanosilica in the gaseous dispersion media were developed and used to prepare functionalyzed nanofillers for polymeric systems. Non-volatile high- and low-molecular weight compounds (such as polymers, organic bioactive compounds, organic and inorganic salts) can be used as modifiers of nanofillers.Π‘ΡƒΠ»ΠΈ описані Π³Π΅ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½Π΅ Ρ‚Π° ΡΠΎΠ»ΡŒΠ²Π°Ρ‚ΠΎ-ΡΡ‚ΠΈΠΌΡƒΠ»ΡŒΠΎΠ²Π°Π½Π΅ мСханосорбційнС модифікування високодиспСрсного ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Π΅Π·Π΅ΠΌΡƒ Π² ΡƒΠΌΠΎΠ²Π°Ρ… Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ диспСрсійного сСрСдовища. Π’Π°ΠΊΡ– способи модифікування Π΄ΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ΡŒ ΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΡƒΠ²Π°Ρ‚ΠΈ Ρ„ΡƒΠ½ΠΊΡ†Ρ–ΠΎΠ½Π°Π»Ρ–Π·ΠΎΠ²Π°Π½Ρ– Π½Π°ΠΏΠΎΠ²Π½ΡŽΠ²Π°Ρ‡Ρ– ΠΏΠΎΠ»Ρ–ΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΈΡ… систСм Π½Π° основі Π½Π°Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ·ΠΌΡ–Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Π΅Π·Π΅ΠΌΡƒ. Для модифікування ΠΌΠΎΠΆΠ½Π° використовувати Π½Π΅Π»Π΅Ρ‚ΠΊΡ– високо- Ρ‚Π° Π½ΠΈΠ·ΡŒΠΊΠΎΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»ΡΡ€Π½Ρ– ΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½Ρ– сполуки – ΠΏΠΎΠ»Ρ–ΠΌΠ΅Ρ€ΠΈ, Π±Ρ–ΠΎΠ»ΠΎΠ³Ρ–Ρ‡Π½ΠΎ Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ– сполуки, ΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½Ρ– солі, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΆ Π½Π΅ΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½Ρ– солі

    Adsorption and Migration of Poly(Vinyl Pyrrolidone) at a Fumed Silica Surface

    No full text
    A series of poly(vinyl pyrrolidone) (PVP)/fumed silica powder samples were studied using adsorption, FT-IR and AFM methods. Mild treatment (293 K for several hours) of PVP/A-300 powder with an added additional portion of A-300 in a glass reactor (2 dm 3 ) using a mixer (> 500 rpm which provided the powder as a pseudo-liquid state, PLS) led to the redistribution (migration) of the PVP molecules between silica particles previously covered by PVP and free of PVP. This time-dependent rearrangement of the adsorbed PVP molecules caused the formation of a denser polymer layer at the silica surface. The aggregate size of the primary silica particles with adsorbed PVP molecules decreased after treatment. The volume of macropores with a pore radius R p > 25 nm increased due to the decrease in the distances between aggregates in agglomerates because of the adhesive effect of the PVP molecules. However, the volume of micropores at R p < 1 nm decreased because of the penetration of the PVP molecules into the primary silica particle aggregates and the filling of gaps between adjacent particles. A decrease occurred in the amount of adsorbed water in the PVP layer exhibiting a maximum density

    Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation

    No full text
    The room temperature oxidation of ion-implanted copper surface has been studied ex situ and in situ using ellipsometry. The ellipsometric parameters T and Π” were measured at light incidence angle 75Β° for different wavelength values in the range of 280 to 760 nm using averaging both over two azimuthal zones and single one. The oxide layer was removed from the copper surface during the aluminum ion implantation an then the growth of the newly formed oxide film on the ion implanted surface was studied by ellipsometry. Basing on the spectroellipsometric data, the oxide film thickness has been calculated for two types of copper oxides.ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ эллипсомСтричСскиС исслСдования окислСния ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎ-ΠΈΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… повСрхностСй ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ. ЭллипсомСтричСскиС ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ‹ T ΠΈ Π” ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½Ρ‹ ΠΏΡ€ΠΈ ΡƒΠ³Π»Π΅ падСния свСта 75Β° для Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ Π΄Π»ΠΈΠ½Ρ‹ Π²ΠΎΠ»Π½Ρ‹ свСта Π² области 280β€”760 Π½ΠΌ с усрСднСниСм ΠΊΠ°ΠΊ ΠΏΠΎ Π΄Π²ΡƒΠΌ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΈ ΠΏΠΎ ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ Π°Π·ΠΈΠΌΡƒΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ Π·ΠΎΠ½Π°ΠΌ. Оксидная ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ° с повСрхности ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ ΡƒΠ΄Π°Π»ΡΠ»Π°ΡΡŒ Π² процСссС Π΅Π΅ ΠΈΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ алюминия, Π° Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ рост вновь Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ оксида ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ Π½Π° ΠΈΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠΉ повСрхности исслСдован эллипсомСтричСским ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ. ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ Π½Π° основС спСктроэллипсомСтричСских Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… расчСты Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ для Π΄Π²ΡƒΡ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² оксидов ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ.ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΎ СліпсомСтричні дослідТСння окиснСння ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΡ–ΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½Ρ–ΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ– Ρ–ΠΎΠ½Π½ΠΎ-Ρ–ΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡ… ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ΠΎΠ½ΡŒ ΠΌΡ–Π΄Ρ–. ЕліпсомСтричні ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈ Π’ Ρ– Π” виміряно ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΡƒΡ‚Ρ– падіння світла 75Β° для Ρ€Ρ–Π·Π½ΠΈΡ… Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ Π΄ΠΎΠ²ΠΆΠΈΠ½ΠΈ Ρ…Π²ΠΈΠ»Ρ– світла Π² області 280-760 Π½ΠΌ Π· усСрСднСнням як Π·Π° Π΄Π²ΠΎΠΌΠ°, Ρ‚Π°ΠΊ Ρ– Π·Π° ΠΎΠ΄Π½Ρ–Ρ”ΡŽ Π°Π·ΠΈΠΌΡƒΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΈΠΌΠΈ Π·ΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ. Оксидна ΠΏΠ»Ρ–Π²ΠΊΠ° Π· ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½Ρ– ΠΌΡ–Π΄Ρ– Ρ€ΠΎΠ·ΠΏΠΈΠ»ΡŽΠ²Π°Π»Π°ΡΡŒ Ρƒ процСсі Ρ—Ρ— Ρ–ΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚Π°Ρ†Ρ–Ρ— Ρ–ΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ Π°Π»ΡŽΠΌΡ–Π½Ρ–ΡŽ, Ρ– наступний ріст Π½ΠΎΠ²ΠΎΡ— ΠΏΠ»Ρ–Π²ΠΊΠΈ оксиду ΠΌΡ–Π΄Ρ– Π½Π° Ρ–ΠΌΠΏΠ»Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²Π°Π½Ρ–ΠΉ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½Ρ– дослідТСно СліпсомСтричним ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ. На основі спСктроСліпсомСтричних Π΄Π°Π½ΠΈΡ… Ρ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ…ΠΎΠ²Π°Π½ΠΎ Ρ‚ΠΎΠ²Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ ΠΏΠ»Ρ–Π²ΠΎΠΊ для Π΄Π²ΠΎΡ… Ρ‚ΠΈΠΏΡ–Π² оксидів ΠΌΡ–Π΄Ρ–
    corecore