Next generation materials for block copolymer lithography

The electronics industry is a trillion dollar industry that has drastically changed everyday life. Advances in lithography have enabled manufacturers to continually shrink the dimensions of microelectronic components, which has resulted in devices that outperform previous generations. Unfortunately, conventional patterning techniques are approaching their physical resolution limits. The ability to economically pattern sub-10 nm features is necessary for the future growth of the industry. Block copolymer self-assembly has emerged as a leading candidate for next generation lithography and nanofabrication because block copolymers self-assemble into periodic nanostructures (e.g. cylinders and lamellae) on a length scale that exceeds the physical limits of optical lithography. However, for block copolymer lithography to be realized, the block copolymer domains need to form sub-10 nm features and display etch resistance for pattern transfer. Additionally, the orientation, alignment, and placement of block copolymer domains must be carefully controlled. This dissertation discusses the synthesis, orientation and alignment of silicon-containing BCPs that are inherently etch resistant and provide access to nanostructures in the sub-10 nm regime. The orientation of domains is controlled by interactions between each block copolymer domain and each interface. Preferential interactions between the block copolymer domains and the either the substrate or air interface lead to a parallel orientation of domains, which is not useful for lithography. Non-preferential (“neutral”) interactions are needed to promote the desired perpendicular orientation. The synthesis of surface treatments and top coats is described, and methods to determine the preferential and non-preferential interactions are reported. Orientation control is demonstrated via rapid thermal annealing between two neutral surfaces. Combining orientation control of block copolymer domains with well established directed self-assembly strategies was used to produce perpendicular domains with long range order. Chapter 1 provides an introduction to lithography and block copolymer self-assembly. Chapter 2 discusses the synthesis of silicon-containing block copolymers. Chapters 4-6 focus on controlling block copolymer domain orientation, and Chapter 7 focuses on directed self-assembly. Chapter 8 covers spatial orientation control of domains using photopatternable interfaces. Finally, Chapter 9 covers tin-containing polymers that are resistant to fluorine-containing etch chemistries and can be used to pattern silicon oxide.Chemistr

Neues Erbe

Die zunehmende Digitalisierung von Informationen und ihre ausschließliche Produktion in digitalen Formen führen zu einer sehr hohen Technikabhängigkeit. Das dokumentarische Erbe, das wir zukünftigen Generationen überliefern, wird primär ein digitales Erbe sein, dessen Erhaltung und Überlieferung heutige Gesellschaften vor große und bisher weitestgehend ungelöste Probleme stellt. Der erste Band der Reihe »Kulturelle Überlieferung - digital« diskutiert unter Beteiligung namhafter Experten aus Wissenschaft und Praxis zentrale Aspekte, Probleme und Konsequenzen, die im Zusammenhang mit Digitalisierung und Bewahrung des digitalen kulturellen Erbes stehen. Damit leistet er disziplinübergreifend eine erste Annäherung an das große Themenfeld der digitalen kulturellen Überlieferung

Neues Erbe : Aspekte, Perspektiven und Konsequenzen der digitalen Überlieferung

Die zunehmende Digitalisierung von Informationen und ihre ausschließliche Produktion in digitalen Formen führen zu einer sehr hohen Technikabhängigkeit. Das dokumentarische Erbe, das wir zukünftigen Generationen überliefern, wird primär ein digitales Erbe sein, dessen Erhaltung und Überlieferung heutige Gesellschaften vor große und bisher weitestgehend ungelöste Probleme stellt. Der vorliegende Band leistet disziplinübergreifend eine erste Annäherung an das Themenfeld der digitalen Überlieferung

Neues Erbe : Aspekte, Perspektiven und Konsequenzen der digitalen Überlieferung

Die zunehmende Digitalisierung von Informationen und ihre ausschließliche Produktion in digitalen Formen führen zu einer sehr hohen Technikabhängigkeit. Das dokumentarische Erbe, das wir zukünftigen Generationen überliefern, wird primär ein digitales Erbe sein, dessen Erhaltung und Überlieferung heutige Gesellschaften vor große und bisher weitestgehend ungelöste Probleme stellt. Der vorliegende Band leistet disziplinübergreifend eine erste Annäherung an das Themenfeld der digitalen Überlieferung