Electrodynamic properties of coupled quasi-optical open cavities in sources of millimeter radiation

The results of experimental studies of electrodynamic properties of coupled open millimeter-range cavities are presented. Cavities of the considered type can be employed in such electron devices as an orotron and an oscillator of diffraction radiation. It is demonstrated that a system of two open cavities coupled through strip diffraction gratings is best suited for the broadening of the transmission band of an open cavity system, allowing, at the same time, the Q factor to be sustained at a high level. The transmission band of such a system is five times broader than the transmission band of open cavities placed in series with respect to a distributed source emitting volume waves. Practical schemes of electron devices using coupled open cavities are described and analyzed. The results of experimental studies of some of these devices in the millimeter wavelength range are presented. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/391

Возбуждение колебаний в открытом резонаторе сосредоточенными элементами связи

The present paper gives a numerical analysis of the lower mode excitation efficiency in a semispherical open resonator ( OR ) using the rectangular and round-shaped coupling elements. The rectangular coupling element is shown to secure a higher excitation efficiency of the mode under study in the OR. With optimal geometric dimensions of the above elements the excitation efficiency of higher-order modes in a resonator is equal to zero. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/168

К вопросу влияния геометрических размеров периодических металлодиэлектрических структур на пространственные и волноводные характеристики

В работе исследовались пространственые – диаграмма направленности излучения (ДН) и волноводные характеристики – коэффициент передачи и КСВ, при возбуждении систем на базе МДС диэлектрическим волноводом

Проектирование электронно-оптической системы для источников направленного рентгеновского излучения

Современное развитие рентгеновской томографии требует создания новых узконаправленных источников рентгеновского излучения с целью локализации его воздействия на конкретную исследуемую область и минимизации площади облучения. Целью работы является проектирование электронной пушки для источников точечного монохроматического рентгеновского излучения направленного действия (сфокусированных потоков рентгеновского излучения), которые могут быть использованы в медицинских рентгеновских микротомографах

Фокусирующие свойства триплета магнитных квадрупольных линз с индивидуальным источником питания

В данной работе мы акцентируем внимание на исследованиях ЗФС на базе триплета, которая состоит из трех магнитных квадрупольных линз (МКЛ). Отметим, что две последние линзы расположены на минимальном расстоянии друг от друга и граница поля последней линзы расположена на расстоянии g от плоскости мишени. Для такой ЗФС необходимо минимум два источника питания линзы для обеспечения стигманической фокусировки. Мы предлагаем ввести дополнительный источник питания. Положение первой линзы варьировалось в пределах 1,07 м £ a1 £ 3,71 м . Для различных значений геометрических параметров 1 a и g решалась задача по определению наибольшего приведенного коллимированного аксептанса ЗФС на базе триплета

Application of focused charge‐particle beams of in manufacturing of nanocomponents

Application of focused beams of medium energy light ions, electrons and low energy heavy ions is considered for the technology of manufacturing of small-dimension components. Physical principles applied as the basis for interaction of the above beams with resistive materials are described. The proton beam lithography is considered as a new technology possessing high potential capabilities for various applications like micro-optics and nanoelectronics of terahertz wave band.  When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/391

Application of focused charge‐particle beams of in manufacturing of nanocomponents

Application of focused beams of medium energy light ions, electrons and low energy heavy ions is considered for the technology of manufacturing of small-dimension components. Physical principles applied as the basis for interaction of the above beams with resistive materials are described. The proton beam lithography is considered as a new technology possessing high potential capabilities for various applications like micro-optics and nanoelectronics of terahertz wave band.  When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/391