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    Caracterizaci贸n de Capas Delgadas de Tungsteno obtenidas mediante High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)

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    Pr谩ctica dirigida (Bachillerato en Ingenier铆a en Ciencias de los Materiales) Instituto Tecnol贸gico de Costa Rica, Escuela de Ingenier铆a en Ciencias de los Materiales, 2019.High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) is a novel thin film processing method to achieve include higher density, better substrate adhesion, and smoother surfaces compared to conventional DC sputtering (DCms). The Max-Planck Institute for Plasma Physics is seeking to enable a HiPIMS device to maintain its leading position in scientific research in advanced coatings. In this work, the first results of W coatings on Si and W obtained with a new HiPIMS power source, P = 200 W, tpulse = 10 渭s and f = 2000 Hz, were evaluated. Physical properties such as microstructure, density, roughness, and impurity content were compared with films obtained via DCms under the similar processing conditions. It was found that the HiPIMS method achieves a ~10% increase in density, and eliminates the 尾-W phase in W over Si films, compared to films obtained with the conventional DCms method. The addition of a bias voltage Vb = -120 V decreased the root mean square (RMS) of the roughness in W films over W substrate obtained by both DCms and HiPIM

    Evaluaci贸n de la interactividad del Plasma Atmosf茅rico No-Equilibrado (APNP) sobre la viabilidad celular de fibroblastos murinos cultivados in vitro

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    Proyecto de Investigaci贸n (C贸digo: 1801079) Instituto Tecnol贸gico de Costa Rica. Vicerrector铆a de Investigaci贸n y Extensi贸n (VIE). Escuela de Biolog铆a, Escuela de F铆sica, 2017Plasma Medicine es un 谩rea prometedora que ha tenido un gran desarrollo en los 煤ltimos a帽os. Sus aplicaciones van desde la esterilizaci贸n de equipos, heridas, cauterizaci贸n de tejidos, hasta tratamientos para el cierre de heridas cr贸nicas y potencial co-adyuvante y/o tratamiento contra el c谩ncer. El fin para el cual se destine el plasma definir谩 el tipo de fuente y descarga que se generar谩. En el presente estudio, se busc贸 evaluar la respuesta in vitro de fibroblastos murinos de la l铆nea NHI-3T3 a descargas de plasma atmosf茅rico no equilibrado. Para esto, se desarroll贸 un prototipo que pudiera generar una descarga uniforme, en un ambiente como la c谩mara de flujo laminar, que posee un flujo vertical constante que podr铆a interferir con la generaci贸n de la descarga. El dispositivo generado tipo DBD (dielectric barrier discharge) utilizando el gas helio, fue escogido como el m谩s adecuado seg煤n las condiciones presentadas. Para la evaluaci贸n de la respuesta de los fibroblastos a la descarga de plasma, se utiliz贸 una prueba de viabilidad que utiliza el reactivo MTT, as铆 como un ensayo de scratch wound healing (SWH), este con el fin de evaluar la existencia de un efecto sobre la migraci贸n celular. Los resultados encontrados muestran que las dosis evaluadas de irradiaci贸n no producen un efecto diferencial en la viabilidad celular respecto al control. Sin embargo, fue posible observar un aumento en la p茅rdida de la adhesi贸n celular en los cultivos al utilizar un medio de cultivo menos nutritivo para el ensayo de SWH. Dado que en la din谩mica de interacci贸n de una descarga de plasma con un cultivo celular interviene una gran cantidad de variables, se recomienda evaluar la irradiaci贸n en condiciones de cultivo que permitan una interacci贸n directa del plasma con el cultivo disminuyendo la interferencia del medio de cultivo y la geometr铆a de los platos de cultivo que pudieron afectar la homogeneidad de la irradiaci贸n en el presente estudio. De igual manera, se recomienda tomar en cuenta ajustar las dosis de irradiaci贸n (potencia y tiempo de irradiaci贸n) seg煤n el tipo de ensayo, de manera que se pueda evaluar la interacci贸n del plasma con el cultivo
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