36 research outputs found

    Tunable SiO2 to SiOxCyH films by ozone assisted chemical vapor deposition from tetraethylorthosilicate and hexamethyldisilazane mixtures

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    Silica and silica-based materials with tunable functionalities are frequently encountered in low-k material applications, porous membranes, and microelectonic devices. In the present study, an innovative O2/O3 assisted CVD process for the deposition of such films at moderate temperature is presented, based on a dual precursor chemistry from hexamethyldisilazane (HMDS) and tetraethyl orthosilicate (TEOS). Films with tunable carbon content were obtained through variation of the HMDS flow ratio. A comprehensive FT-IR study reveals the transition of the material from a SiOxCyH type film containing -CH3 moieties, to a methyl-free SiOx film with the increase of the temperature. At the same time the water contact angle of 81.0° at 400°C is decreased to 52.8° at 550°C, related to the absence of methyl moieties in the latter. Ion beam analysis (IBA) confirms the lack of carbon in the films when deposition temperatures are equal to or exceed 500°C. The resistance to liquid corrosion is investigated as a function of the deposition temperature; SiOx type films present a low Pliskin etching rate of 15 Å.s-1, with this value increasing to 60 Å.s-1 for the SiOxCy:CH3 films produced at the lower temperatures. It is found that the addition of HMDS to a TEOS chemistry can be utilized to modulate the film composition from SiOx to SiOxCyH and by such, tune the film functional properties, in particular its etching rate, opening the way to the development of new sacrificial films

    Network hydration, ordering and composition interplay of chemical vapor deposited amorphous silica films from tetraethyl orthosilicate

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    The chemical or mechanical performance of amorphous SiO2 films depend on intrinsic physicochemical properties, which are intimately linked to atomic and molecular arrangements in the Si–O–Si network. In this context, the present work focuses on a comprehensive description of SiO2 films deposited from a well-established chemical vapor deposition process involving tetraethyl-orthosilicate, oxygen and ozone, and operating at atmospheric pressure in the range 400–550 °C. The connectivity of the silica network is improved with increasing the deposition temperature (Td) and this is attributed to the decreased content of hydrated species through dehydration-condensation mechanisms. In the same way, the critical load of delamination increases with increasing Td thanks to the silicon substrate oxidation. The utilization of a O2/O3 oxidizing atmosphere involving the oxidation of intermediates species by O2, O3 and O., allows increasing the deposition rate at moderate temperatures, while minimizing carbon, H2O and silanol contents to extremely low values (4.5 at.% of H). The SiOx stoichiometry and Td interplay reveals two distinct behaviors before and above 450 °C. The best corrosion resistance of these films to standard P-etching test is obtained for the minimum silanol content and the best network molecular ordering, with an etching rate of 4.0 ± 0.1 Å/s at pH = 1.5. The elastic modulus and hardness of the films remain stable in the investigated range of deposition temperature, at 64.2 ± 1.7 and 7.4 ± 0.3 GPa respectively, thanks to the low content in silanol groups

    Geste et pensée musicale : de l'outil à l'instrument

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    La musique a longtemps vécu avec et par le geste. Sons et gestes, unis par une relation de causalité directe, désignaient alors l'instrument de musique comme outil exprimant et réalisant cette connivence implicite. Cependant, depuis que nous savons produire de la musique sans qu'aucune action physique, corporelle, en soit le préalable énergétique, il est devenu nécessaire de redéfinir les termes de cette relation. Les univers sonores et musicaux qu'il nous est aujourd'hui donné à entendre, à penser, à aimer et, parfois, à subir, ont radicalement évolué au cours de ce siècle. Comment s'étonner, dès lors, que les gestes et les instruments nouveaux qu'ils mettent en jeu nous invitent à des interrogations sinon inédites, du moins renouvelées ? Ainsi, au moment où la notion même d'instrument de musique connaît des changements majeurs, s'interroger sur la nature du geste instrumental revient à questionner ses modes d'existence et d'appropriation. L'ordinateur, en particulier, nous autorise à réinventer les catégories traditionnelles de l'expression musicale. Augmenté de dispositifs permettant un contrôle gestuel précis du processus sonore, il est en mesure d'acquérir le statut d'outil expressif, donc d'instrument de création

    Contrôle gestuel du rayonnement acoustique de sons de synthèse

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    National audienceOutre leur grande richesse expressive, liée aux innombrables nuances de timbre et d'intensité dont le musicien sait tirer partie, les instruments traditionnels constituent aussi des sources acoustiques complexes. S'il est aujourd'hui possible de synthétiser et/ou de reproduire des timbres très variés, offrir la possibilité d'une expressivité instrumentale de qualité suppose non seulement de pouvoir contrôler précisémment les processus de synthèse et de modification des sons, mais aussi leur mise en espace (localisation et rayonnement). La diffusion des musiques électroacoustiques s'est souvent appuyée sur des "orchestres" de hauts-parleurs, tel l'Acousmonium du GRM et le Cybernéphone de l'IMEB. Si de tels dispositifs permettent de créer des paysages acoustiques vivants et contrastés, ils sont peut-être moins adaptés à l'installation d'images sonores instrumentales. Aujourd'hui, en effet, les musiques électroacoustiques sont aussi jouées en direct, par des ensembles (orchestres de laptop, de joysticks, etc.). La cohérence et la lisibilité du jeu musical pose alors des problèmes nouveaux. Cela a notamment été mis en évidence par les fondateurs du Princeton Laptop Orchestra [Trueman & al. 2006]. Dans le même temps, du côté des musiques amplifiées, des problèmes de même nature existent, et l'on peut penser que les systèmes développés par la firme Bose (Cylindrical Radiator L1) répondent à des besoins en partie comparables. Le dispositif présenté, proche de la Timée de l'IRCAM ou du Spherical Loudspeaker Array du CNMAT, vise à permettre au musicien de contrôler, dans et par le même geste expressif, la synthèse des sons et leur mise en espace

    Mapping modulaire de processus polyphoniques

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    International audienceNous présentons le système MP, un protocole et un ensemble d'outils facilitant la connexion modulaire de processus polyphoniques. Le but de cette librairie est d'améliorer la modularité en conservant les blocs individuels de traitement polyphonique indépendants du mapping général qui a lieu dans le design de l'interaction d'un instrument de musique numérique. Le protocole MP est fondé sur un paradigme à trois états permettant la modulation expressive de tout paramètre. Une stratégie originale est proposée pour le groupement hiérarchique d'événements en spécifiant quels événements invités seront autorisés à modifier les paramètres d'une voix de polyphonie affectée à cet événement. Une revue préalable des principaux protocoles qui ont inspiré ces développements permettra d'en expliciter les enjeux. Quelques exemples seront donnés pour expliciter les possibilités offertes par cette stratégie. Les développements présentés ici sont implémentés dans le logiciel Max mais la logique sous-jacente reste applicable dans d'autres systèmes utilisant une logique de communication asynchrone
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