7 research outputs found

    ΠšΠΎΡ€ΠΎΠ·Ρ–ΠΉΠ½Ρ– властивості Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠΎΠ²ΠΈΡ… ΠΏΠΎΠΊΡ€ΠΈΡ‚Ρ‚Ρ–Π² Π· Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΡ„ΠΎΡ€Π΅Ρ‚ΠΈΡ‡Π½ΠΎ нанСсСними захисними ΠΏΠ»Ρ–Π²ΠΊΠ°ΠΌΠΈ

    No full text
    ИсслСдована Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ использования Π² качСствС Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠΉ Π½Π° Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠ΅ элСктрофорСтичСски нанСсСнных ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ, содСрТащих соСдинСния бСриллия ΠΈ алюминия. ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ ΠΈΡ… ΠΊΠΎΡ€Ρ€ΠΎΠ·ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ испытания ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ со стандартными конвСрсионными покрытиямиДослідТСна ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ–ΡΡ‚ΡŒ використання Π² якості захисних ΠΏΠΎΠΊΡ€ΠΈΡ‚Ρ‚Ρ–Π² Π½Π° Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΡƒ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΡ„ΠΎΡ€Π΅Ρ‚ΠΈΡ‡Π½ΠΎ нанСсСних ΠΏΠ»Ρ–Π²ΠΎΠΊ,Β  Ρ‰ΠΎ ΠΌΡ–ΡΡ‚ΡΡ‚ΡŒ сполуки Π±Π΅Ρ€ΠΈΠ»Ρ–ΡŽ Ρ‚Π° Π°Π»ΡŽΠΌΡ–Π½Ρ–ΡŽ.Β  ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ– Ρ—Ρ…Π½Ρ– ΠΊΠΎΡ€ΠΎΠ·Ρ–ΠΉΠ½Ρ– випробування Ρƒ порівнянні Π· стандартними конвСрсійними покриттям

    ΠšΠΎΡ€Ρ€ΠΎΠ·ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ свойства Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠΎΠ²Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠΉ с элСктрофорСтичСски нанСсСнными Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°ΠΌΠΈ

    No full text
    ИсслСдована Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ использования Π² качСствС Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠΉ Π½Π° Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠ΅ элСктрофорСтичСски нанСсСнных ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ, содСрТащих соСдинСния бСриллия ΠΈ алюминия. ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ ΠΈΡ… ΠΊΠΎΡ€Ρ€ΠΎΠ·ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ испытания ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ со стандартными конвСрсионными покрытиям

    МодСлювання Ρ–Π½Ρ‚Π΅Ρ€ΠΌΠ΅Π΄Ρ–Π°Ρ‚Ρ–Π², Ρ‰ΠΎ Π²ΠΈΠ½ΠΈΠΊΠ°ΡŽΡ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ²Ρ–Π΄Π½ΠΎΠ²Π»Π΅Π½Π½Ρ– Ρ–ΠΎΠ½Ρ–Π² Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΡƒ(Π†Π†) Ρƒ присутності Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½Ρ–Ρ‚Ρ€ΠΈΠ»Ρƒ

    No full text
    Π‘ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ нСэмпиричСскиС ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎ-химичСского ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π° исслСдованы структуры, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΏΡ€ΠΈ элСктровосстановлСния ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² Zn2+ Π² присутствии Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Ρ€ΠΈΠ»Π°. ΠžΠ±Π½Π°Ρ€ΡƒΠΆΠ΅Π½Π° стСхиомСтрия ΠΏΡ€ΠΎΠΌΠ΅ΠΆΡƒΡ‚ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΈ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π΅Π½Π° энСргСтика стадий пСрСноса заряда. Показано, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π² присутствии Π²ΠΎ Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€Π΅Π½Π½Π΅ΠΉ ΠΊΠΎΠΎΡ€Π΄ΠΈΠ½Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ сфСрС Ρ€Π΅Π°Π³ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… комплСксов Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Ρ€ΠΈΠ»Π° достигаСтся стабилизация ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ²Π°Π»Π΅Π½Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠ° Π·Π° счСт увСличСния количСства связанных Π»ΠΈΠ³Π°Π½Π΄ΠΎΠ²: с 2 - для ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… структур Π΄ΠΎ 4 -для Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ…Π—Π°Β  допомогою  Π½Π΅Π΅ΠΌΠΏΡ–Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎΒ  ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎ-Ρ…Ρ–ΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎΒ  ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΡƒΒ  дослідТСні  структури,Β  які  ΠΌΠΎΠΆΡƒΡ‚ΡŒ ΡƒΡ‚Π²ΠΎΡ€ΡŽΠ²Π°Ρ‚ΠΈΡΡ ΠΏΡ–Π΄ час СлСктровідновлСння Ρ–ΠΎΠ½Ρ–Π² Zn2+ Ρƒ присутності Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½Ρ–Ρ‚Ρ€ΠΈΠ»Ρƒ.Β  ВиявлСна стСхіомСтрія Ρ–Π½Ρ‚Π΅Ρ€ΠΌΠ΅Π΄Ρ–Π°Ρ‚Ρ–Π² Ρ‚Π° Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½Π° Π΅Π½Π΅Ρ€Π³Π΅Ρ‚ΠΈΠΊΠ° стадій пСрСносу заряду.Β  Показано,Β  Ρ‰ΠΎ Π·Π° присутності Ρƒ Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€Ρ–ΡˆΠ½Ρ–ΠΉ ΠΊΠΎΠΎΡ€Π΄ΠΈΠ½Π°Ρ†Ρ–ΠΉΠ½Ρ–ΠΉ сфСрі Ρ€Π΅Π°Π³ΡƒΡŽΡ‡ΠΈΡ… комплСксів Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½Ρ–Ρ‚Ρ€ΠΈΠ»Ρƒ Π΄ΠΎΡΡΠ³Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ стабілізація ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ²Π°Π»Π΅Π½Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΡƒ Π·Π° Ρ€Π°Ρ…ΡƒΠ½ΠΎΠΊ Π·Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆΠ΅Π½Π½Ρ ΠΊΡ–Π»ΡŒΠΊΠΎΡΡ‚Ρ– зв’язаних Π»Ρ–Π³Π°Π½Π΄Ρ–Π²: Π· 2 – для ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€Ρ–Π΄Π½ΠΈΡ… структур Π΄ΠΎ 4 - для Ρ€Ρ–Π·Π½ΠΎΡ€Ρ–Π΄Π½ΠΈ

    ΠœΠΎΠ΄Π΅Π»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ΠΌΠ΅Π΄ΠΈΠ°Ρ‚ΠΎΠ², Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΠΏΡ€ΠΈ элСктровосстановлСнии ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠ°(II) Π² присутствии Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Ρ€ΠΈΠ»Π°

    No full text
    Π‘ ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ нСэмпиричСскиС ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎ-химичСского ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π° исслСдованы структуры, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΏΡ€ΠΈ элСктровосстановлСния ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² Zn2+ Π² присутствии Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Ρ€ΠΈΠ»Π°. ΠžΠ±Π½Π°Ρ€ΡƒΠΆΠ΅Π½Π° стСхиомСтрия ΠΏΡ€ΠΎΠΌΠ΅ΠΆΡƒΡ‚ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΈ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π΅Π½Π° энСргСтика стадий пСрСноса заряда. Показано, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π² присутствии Π²ΠΎ Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€Π΅Π½Π½Π΅ΠΉ ΠΊΠΎΠΎΡ€Π΄ΠΈΠ½Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½ΠΎΠΉ сфСрС Ρ€Π΅Π°Π³ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… комплСксов Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Ρ€ΠΈΠ»Π° достигаСтся стабилизация ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ²Π°Π»Π΅Π½Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠ° Π·Π° счСт увСличСния количСства связанных Π»ΠΈΠ³Π°Π½Π΄ΠΎΠ²: с 2 - для ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… структур Π΄ΠΎ 4 -для Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹

    ΠœΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠ±Ρ–ΠΎΠ»ΠΎΠ³Ρ–Ρ‡Π½Ρ– властивості диспСрсії Π½Π° основі ΠΌΡ–Π΄Ρ–, ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΎΡ— ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΌ осадТСнням Ρƒ присутності Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ²ΠΎΡ— кислоти

    No full text
    Quantitative composition of organometallic electrodeposit obtained from the solution of 0.1 M CuSO4, 1.0 M H2SO4 and 0.2 M acrylic acid was determined by differential photometry. It was shown that the deposit contains copper complexes in an amount of 15% (wt.). Using the dispersion grain-size and microscopic analysis it was ascertained that the micropowder obtained by mechanical grinding of organometallic electrodeposit is more fine-grained and homogeneous compared with industrial or chemically obtained (by cementation with zinc) copper powders. Microbiological studies using clinical strain of microorganisms Staphylococcus aureus showed that the obtained copper-acrylate micropowder has bacteriostatic and bactericidal action. Suppression of bacteria’s vital activity in the interaction with the organometallic dispersion occurs from the first minute of exposure in contrast to the influence of industrial and chemically produced copper powders. This effect is related to the special structure of copper-acrylate powder.ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π΄ΠΈΡ„Ρ„Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΠΈ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π΅Π½ количСствСнный состав мСталлорганичСского осадка, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктролизом ΠΈΠ· раствора 0.1 М CuSO4, 1.0 М H2SO4, 0.2 М Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ²ΠΎΠΉ кислоты. Показано, Ρ‡Ρ‚ΠΎ осадок содСрТит комплСксы ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ Π² количСствС 15% (масс.). Для опрСдСлСния грануломСтричСского состава ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠΎΠ² Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ диспСрсионный ΠΈ микроскопичСский Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Ρ‹, Π² Ρ…ΠΎΠ΄Π΅ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… Π±Ρ‹Π»ΠΎ установлСно, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ мСханичСского ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π»ΡŒΡ‡Π΅Π½ΠΈΡ мСталлорганичСского осадка, Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ мСлкозСрнистый ΠΈ ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ с ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ ΠΈ химичСски ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ (Ρ†Π΅ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†ΠΈΠ΅ΠΉ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠΎΠΌ) ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ. ΠœΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ±ΠΈΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠ΅ исслСдования с использованиСм клиничСского ΡˆΡ‚Π°ΠΌΠΌΠ° ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½ΠΈΠ·ΠΌΠΎΠ² Staphylococcus aureus ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π»ΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ мСдь-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°Π΅Ρ‚ бактСриостатичСским ΠΈ Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€ΠΈΡ†ΠΈΠ΄Π½Ρ‹ΠΌ дСйствиСм. ΠŸΡ€ΠΈΡ‡Π΅ΠΌ, Π² ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ ΠΎΡ‚ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈ химичСски ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠΎΠ², ΠΏΠΎΠ΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΆΠΈΠ·Π½Π΅Π΄Π΅ΡΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€ΠΈΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ взаимодСйствии с суспСнзиСй мСталлорганичСского осадка происходит с ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Ρ… ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚ экспозиции. Π’Π°ΠΊΠΎΠΉ эффСкт связан с особым строСниСм мСдь-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°.ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π΄ΠΈΡ„Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ†Ρ–Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡ— Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ–Ρ— Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΎ ΠΊΡ–Π»ΡŒΠΊΡ–ΡΠ½ΠΈΠΉ склад ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду, ΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ»Ρ–Π·ΠΎΠΌ Ρ–Π· Ρ€ΠΎΠ·Ρ‡ΠΈΠ½Ρƒ 0.1 М CuSO4, 1.0 М H2SO4, 0.2 М Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ²ΠΎΡ— кислоти. Показано, Ρ‰ΠΎ осад ΠΌΡ–ΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ комплСкси ΠšΡƒΠΏΡ€ΡƒΠΌΡƒ Ρƒ ΠΊΡ–Π»ΡŒΠΊΠΎΡΡ‚Ρ– 15%Β (мас.). Для визначСння Π³Ρ€Π°Π½ΡƒΠ»ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ складу ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡ–Π² Π±ΡƒΠ»ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΎ диспСрсійний Ρ‚Π° мікроскопічний Π°Π½Π°Π»Ρ–Π·, Ρƒ Ρ…ΠΎΠ΄Ρ– якого Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΎ Ρ‰ΠΎ, ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ, ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΉ Ρƒ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ– ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ подрібнСння ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду, Ρ” Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆ дрібнозСрнистим Ρ‚Π° ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€Ρ–Π΄Π½ΠΈΠΌ Ρƒ порівнянні Π· промисловим Ρ‚Π° Ρ…Ρ–ΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΌ (Ρ†Π΅ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†Ρ–Ρ”ΡŽ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠΎΠΌ) ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΌΡ–Π΄Ρ–. ΠœΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠ±Ρ–ΠΎΠ»ΠΎΠ³Ρ–Ρ‡Π½Ρ– дослідТСння Π· використанням ΠΊΠ»Ρ–Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΡˆΡ‚Π°ΠΌΡƒ ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Π·ΠΌΡ–Π² Staphylococcus aureus ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π»ΠΈ, Ρ‰ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΉ ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΈΠΉ ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ ΠΌΠ°Ρ” бактСріостатичну Ρ‚Π° Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€ΠΈΡ†ΠΈΠ΄Π½Ρƒ Π΄Ρ–ΡŽ. ΠŸΡ€ΠΈΡ‡ΠΎΠΌΡƒ, Π½Π° Π²Ρ–Π΄ΠΌΡ–Π½Ρƒ Π²Ρ–Π΄ промислового Ρ‚Π° Ρ…Ρ–ΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡ–Π², пригнічСння ΠΆΠΈΡ‚Ρ‚Ρ”Π΄Ρ–ΡΠ»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚Ρ– Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€Ρ–ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ Π²Π·Π°Ρ”ΠΌΠΎΠ΄Ρ–Ρ— Π· ΡΡƒΡΠΏΠ΅Π½Π·Ρ–Ρ”ΡŽ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»ΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду Π²Ρ–Π΄Π±ΡƒΠ²Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π· ΠΏΠ΅Ρ€ΡˆΠΈΡ… Ρ…Π²ΠΈΠ»ΠΈΠ½ Скспозиції. Π’Π°ΠΊΠΈΠΉ Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ ΠΏΠΎΠ²'язаний Π· особливою Π±ΡƒΠ΄ΠΎΠ²ΠΎΡŽ ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡƒ

    Microbiological properties of copper dispersion obtained by cathodic deposition in the presence of acrylic acid

    No full text
    ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π΄ΠΈΡ„Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ†Ρ–Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡ— Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ–Ρ— Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΎ ΠΊΡ–Π»ΡŒΠΊΡ–ΡΠ½ΠΈΠΉ склад ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду, ΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ»Ρ–Π·ΠΎΠΌ Ρ–Π· Ρ€ΠΎΠ·Ρ‡ΠΈΠ½Ρƒ 0.1 М CuSO4, 1.0 М H2SO4, 0.2 М Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠ²ΠΎΡ— кислоти. Показано, Ρ‰ΠΎ осад ΠΌΡ–ΡΡ‚ΠΈΡ‚ΡŒ комплСкси ΠšΡƒΠΏΡ€ΡƒΠΌΡƒ Ρƒ ΠΊΡ–Π»ΡŒΠΊΠΎΡΡ‚Ρ– 15%Β (мас.). Для визначСння Π³Ρ€Π°Π½ΡƒΠ»ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ складу ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡ–Π² Π±ΡƒΠ»ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΎ диспСрсійний Ρ‚Π° мікроскопічний Π°Π½Π°Π»Ρ–Π·, Ρƒ Ρ…ΠΎΠ΄Ρ– якого Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΎ Ρ‰ΠΎ, ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ, ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΉ Ρƒ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ– ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ подрібнСння ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду, Ρ” Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆ дрібнозСрнистим Ρ‚Π° ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€Ρ–Π΄Π½ΠΈΠΌ Ρƒ порівнянні Π· промисловим Ρ‚Π° Ρ…Ρ–ΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΌ (Ρ†Π΅ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†Ρ–Ρ”ΡŽ Ρ†ΠΈΠ½ΠΊΠΎΠΌ) ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΌΡ–Π΄Ρ–. ΠœΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠ±Ρ–ΠΎΠ»ΠΎΠ³Ρ–Ρ‡Π½Ρ– дослідТСння Π· використанням ΠΊΠ»Ρ–Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΡˆΡ‚Π°ΠΌΡƒ ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Π·ΠΌΡ–Π² Staphylococcus aureus ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π»ΠΈ, Ρ‰ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΉ ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΈΠΉ ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎΠΊ ΠΌΠ°Ρ” бактСріостатичну Ρ‚Π° Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€ΠΈΡ†ΠΈΠ΄Π½Ρƒ Π΄Ρ–ΡŽ. ΠŸΡ€ΠΈΡ‡ΠΎΠΌΡƒ, Π½Π° Π²Ρ–Π΄ΠΌΡ–Π½Ρƒ Π²Ρ–Π΄ промислового Ρ‚Π° Ρ…Ρ–ΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎ ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡ–Π², пригнічСння ΠΆΠΈΡ‚Ρ‚Ρ”Π΄Ρ–ΡΠ»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚Ρ– Π±Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€Ρ–ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ Π²Π·Π°Ρ”ΠΌΠΎΠ΄Ρ–Ρ— Π· ΡΡƒΡΠΏΠ΅Π½Π·Ρ–Ρ”ΡŽ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»ΠΎΡ€Π³Π°Π½Ρ–Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаду Π²Ρ–Π΄Π±ΡƒΠ²Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π· ΠΏΠ΅Ρ€ΡˆΠΈΡ… Ρ…Π²ΠΈΠ»ΠΈΠ½ Скспозиції. Π’Π°ΠΊΠΈΠΉ Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ ΠΏΠΎΠ²'язаний Π· особливою Π±ΡƒΠ΄ΠΎΠ²ΠΎΡŽ ΠΌΡ–Π΄ΡŒ-Π°ΠΊΡ€ΠΈΠ»Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΡƒ.</p

    Research Into Effect of Propionic and Acrylic Acids on the Electrodeposition of Nickel

    Full text link
    Nickel coatings are widely used in machine-building, electronics, automotive and aerospace industries. High requirements for environmental safety and operational performance of contemporary processes of electrochemical nickel plating predetermine the search for the new electrolytes. Electrolytes based on carboxylic acids are characterized by high buffer properties, ecological safety, and enhanced values of limiting current. Heuristic approach when fabricating comprehensive electrolytes, based on empirical data, does not make it possible to conduct predictable optimization of the formulations of nickel plating electrolytes. Solving this problem seems possible when using a quantum-chemical simulation. In this work, we performed quantum-chemical calculations for the propionate and acrylate complexes of nickel. It was established that coordination numbers of the propionate and acrylate complexes of nickel are equal to five and six, respectively. It is shown that electroreduction of the propionate nickel complex proceeds with the formation of an intermediate particle. The negative charge of this particle is localized on the intrasphere molecules of water. This may lead to the electroreduction of the latter and to an increase in the pH of a near-electrode layer. In the intermediate particle of the acrylate complex, localization of the charge occurs on the vinyl fragment of acrylate-ion. Electrochemical reaction of reduction of the coordinated water molecules in such a particle is not energetically favorable. It was established that the isolation of nickel from the acrylate complex proceeds with lower kinetic difficulties than from the propionate complex. An assumption was made that fewer insoluble hydroxide nickel compounds, which block the cathode surface, form in the acrylate electrolyte.Such an assumption is based on the fact that given close buffer properties of acids, electroreduction of the acrylate complexes does not imply the involvement of coordinated water molecules in the electrode process. The results obtained are very valuable for selecting the nature of carboxylic acid as a component for the complex nickel plating electrolyt
    corecore