ФОРМУВАННЯ КРЕМНІЄВИХ НАНО-ПІЛЛАРСІВ ТА ПОКРИТТЯ ЇХ ОКСИДАМИ ЦИНКУ ТА ТИТАНУ ДЛЯ ВИКОРИСТАННЯ В СОНЯЧНІЙ ЕНЕРГЕТИЦІ ТА БІОСЕНСОРИЦІ

The work is focused on technology and characterization issues of silicon pillar nanostructures in combination with metal oxides, such as ZnO and TiO2 , for various applications in field of biosensor and solar energy. The metal-assisted chemical etching method (MACE) modified with latex nanobeads lithography and spin-coating technique, was used to fabricate the uniform silicon nanopillar arrays. Atomic layer deposition technique (ALD) which is utilized for formation of oxide layers displays uniform coverage of the arrays and provides thin film formation independently on surface peculiarities. Therefore, it can be applied both for planar samples and 3D patterned substrates with porous mediaРабота посвящена технологии и характеризации кремниевых наноструктур в сочетании с оксидами металлов для различных применений в биосенсорике и солнечной энергетике. В статье описывается способ неэлектролитического травления, модифицированного использованием слоя наносфер на подложке, сформированного методом поверхностного центрифугирования. Метод атомно-слоевого осаждения, который использовался для формирования оксидов на наноструктурах, демонстрирует образование равномерного слоя и не зависит от геометрии подложки, поэтому он может применяться как для плоских образцов, так и для подложек с трехмерной структурой и с пористыми слоямиРобота присвячена технології і характеризації кремнієвих наноструктур в поєднанні з покриттям оксидами металів для різних застосувань в біосенсориці і сонячній енергетиці. У статті описується спосіб неелектролітичного травлення, модифікованого використанням шару наносфер на підкладці, сформованого методом поверхневого центрифугування. Метод атомно-шарового осадження, який використовувався для формування оксидів на наноструктурах, демонструє утворення рівномірного шару і не залежить від геометрії підкладки, тому він може застосовуватися як для плоских зразків, так і для підкладок з тривимірною структурою і з пористими шарами