Nanocrystalline Porous Hydrogen Storage Based on Vanadium and Titanium Nitrides

This review summarizes results of our study of the application of ion-beam assisted deposition (IBAD) technology for creation of nanoporous thin-film structures that can absorb more than 6 wt.% of hydrogen. Data of mathematical modeling are presented highlighting the structure formation and component creation of the films during their deposition at the time of simultaneous bombardment by mixed beam of nitrogen and helium ions with energy of 30 keV. Results of high-resolution transmission electron microscopy revealed that VNx films consist of 150–200 nm particles, boundaries of which contain nanopores of 10–15 nm diameters. Particles themselves consist of randomly oriented 10–20 nm nanograins. Grain boundaries also contain nanopores (3–8 nm). Examination of the absorption characteristics of VNx, TiNx, and (V,Ti)Nx films showed that the amount of absorbed hydrogen depends very little on the chemical composition of films, but it is determined by the structure pore. The amount of absorbed hydrogen at 0.3 MPa and 20°C is 6-7 wt.%, whereas the bulk of hydrogen is accumulated in the grain boundaries and pores. Films begin to release hydrogen even at 50°C, and it is desorbed completely at the temperature range of 50–250°C. It was found that the electrical resistance of films during the hydrogen desorption increases 104 times

Errors in using of drugs delivery systems in children with bronchial asthma

This article presents some data about using of dry powdered inhalers and nebulizer devices in children with bronchial asthma. We examined 55 bronchial asthma patients with different severity level of the disease at the age of 5 to 18. A questionnaire for children and parents was carried out; also we assessed patient handling of their inhaler devices. The results showed high frequency of errors while using devices, it follows that there is a need for continued education for users in the proper use of these devices to improve treatment efficacyВ статье представлены данные об использовании детьми с бронхиальной астмой дозированных аэрозольных ингаляторов и небулайзеров. Обследовано 55 детей в возрасте от 5 до 18 лет с бронхиальной астмой различной степени тяжести. Проведено анкетирование детей и их родителей, а также демонстрация выполнения ребенком процесса использования ингаляционных средств доставки. Показана высокая частота ошибок при выполнении ингаляций, что диктует необходимость проведения обучения правильной технике ингаляции пациентов и их родителей

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition

One of peculiar features of the IBAD technology consists in that the damage level and concentration of implanted ions are distributed nonuniformly in the depth of deposited material. The calculations, we have done earlier [1], showed that the highest degree of nonequilibrium is realized in the first 50 nm of a coating. However, just in this thickness the nucleation and formation of the material structure is observed. The peculiarities of chromium coating formation without assisted irradiation and under bombarding with nitrogen ions having the energy of 30 keV were studied. The rates of chromium deposition were low, 0,05…0,1 nm/s. During the experiment the vacuum was maintained at a level of 4·10⁻³ Pa and was determined, in main, by the content of nitrogen molecules arriving from the discharging chamber of the ion source. The thickness within the range from 3 to 10 nm was investigated. The results have shown that at the earliest stages of the film growth solely chromium nitride CrN is formed. Sizes of visible nuclei are in the range from 1 to 4 nm, and their density is 1…3·10¹²cm⁻² . As the film thickness increases, the nuclei are growing, then their coalescence occurs and a uniform coating is formed. Chromium deposition without irradiation, but at the same nitrogen pressure, resulted in formation of chromium hcp structure with the following crystallographic parameters: a = 0,315 nm; c = 0,492 nm. The grain size was 3…4 nm. After reaching the coating continuity, the hcp structure was transformed into the bcc structure with the parameter a = 0,261 nm.Проведено сравнительное исследование начальных стадий формирования хромового покрытия в условиях бомбардировки ионами азота с энергией 30 кэВ и без ассистированного облучения, но при повышенном содержании азота в рабочей камере. Скорости осаждения были выбраны небольшими – 0,05...0,1 нм/с. Вакуум в камере был на уровне 4•10⁻³ Па и определялся в основном азотом, который напускался в разрядную камеру ионного источника. Толщина исследуемых объектов была в интервале 3…10 нм. Результаты показали, что при ионной бомбардировке происходит образование нитрида хрома CrN, начиная с самых ранних стадий роста пленки. Размер видимых зародышей находится в диапазоне 1…4 нм, плотность – 3•10¹² см⁻². С увеличением толщины пленки происходит коалесценция малых зародышей, образование свободных зон и зарождение на них новой популяции зерен. Осаждение хрома без ионного облучения приводит к формированию ГПУ-структуры с параметрами решетки а=0,315 нм и с=0,492 нм. При достижении сплошности у пленки происходит трансформация ГПУ-структуры в ОЦК с параметром а=0,261 нм.Проведено порівняльне вивчення початкової стадії формування хромового покриття в умовах бомбардування іонами азоту з енергією 30 кеВ та без асистуючого опромінення, але при підвищеному тиску азоту. Швидкості осадження були підібрані невеликі – 0,05…0,1 нм/с. Вакуум у камері був на рівні 4·10⁻³ Па та обумовлювався азотом, який напускався в розрядову камеру іонного джерела. Товщина досліджених плівок – 3…10 нм. Результати показали, що при іонному бомбардуванні має місце створення нітриду хрому CrN починаючи з самих початкових стадій. Розмір зародків знаходиться у діапазоні 1…4 нм, щільність – 3·10¹² см⁻². Зі збільшенням товщини має місце коалесценція зародків, створення вільних зон та зародження на них нової популяції зерен. Осадження хрому без іонного опромінення призводить до формування ГПУ-структури хрому з параметрами гратки а=0,315 нм та с=0,492 нм. При появленні сполошної плівки має місце трансформування ГПУ-структури у ОЦК з параметром а=0,261нм

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition

One of peculiar features of the IBAD technology consists in that the damage level and concentration of implanted ions are distributed nonuniformly in the depth of deposited material. The calculations, we have done earlier [1], showed that the highest degree of nonequilibrium is realized in the first 50 nm of a coating. However, just in this thickness the nucleation and formation of the material structure is observed. The peculiarities of chromium coating formation without assisted irradiation and under bombarding with nitrogen ions having the energy of 30 keV were studied. The rates of chromium deposition were low, 0,05…0,1 nm/s. During the experiment the vacuum was maintained at a level of 4•10⁻³ Pa and was determined, in main, by the content of nitrogen molecules arriving from the discharging chamber of the ion source. The thickness within the range from 3 to 10 nm was investigated. The results have shown that at the earliest stages of the film growth solely chromium nitride CrN is formed. Sizes of visible nuclei are in the range from 1 to 4 nm, and their density is 1…3•10¹²cm⁻² . As the film thickness increases, the nuclei are growing, then their coalescence occurs and a uniform coating is formed. Chromium deposition without irradiation, but at the same nitrogen pressure, resulted in formation of chromium hcp structure with the following crystallographic parameters: a = 0,315 nm; c = 0,492 nm. The grain size was 3…4 nm. After reaching the coating continuity, the hcp structure was transformed into the bcc structure with the parameter a = 0,261 nm.Проведено сравнительное исследование начальных стадий формирования хромового покрытия в условиях бомбардировки ионами азота с энергией 30 кэВ и без ассистированного облучения, но при повышенном содержании азота в рабочей камере. Скорости осаждения были выбраны небольшими – 0,05...0,1 нм/с. Вакуум в камере был на уровне 4•10⁻³ Па и определялся в основном азотом, который напускался в разрядную камеру ионного источника. Толщина исследуемых объектов была в интервале 3…10 нм. Результаты показали, что при ионной бомбардировке происходит образование нитрида хрома CrN, начиная с самых ранних стадий роста пленки. Размер видимых зародышей находится в диапазоне 1…4 нм, плотность – 3•10¹² см⁻² . С увеличением толщины пленки происходит коалесценция малых зародышей, образование свободных зон и зарождение на них новой популяции зерен. Осаждение хрома без ионного облучения приводит к формированию ГПУ-структуры с параметрами решетки а=0,315 нм и с=0,492 нм. При достижении сплошности у пленки происходит трансформация ГПУ-структуры в ОЦК с параметром а=0,261 нм.Проведено порівняльне вивчення початкової стадії формування хромового покриття в умовах бомбардування іонами азоту з енергією 30 кеВ та без асистуючого опромінення, але при підвищеному тиску азоту. Швидкості осадження були підібрані невеликі – 0,05…0,1 нм/с. Вакуум у камері був на рівні 4•10⁻³ Па та обумовлювався азотом, який напускався в розрядову камеру іонного джерела. Товщина досліджених плівок – 3…10 нм. Результати показали, що при іонному бомбардуванні має місце створення нітриду хрому CrN починаючи з самих початкових стадій. Розмір зародків знаходиться у діапазоні 1…4 нм, щільність – 3•10¹² см⁻² . Зі збільшенням товщини має місце коалесценція зародків, створення вільних зон та зародження на них нової популяції зерен. Осадження хрому без іонного опромінення призводить до формування ГПУ-структури хрому з параметрами гратки а=0,315 нм та с=0,492 нм. При появленні сполошної плівки має місце трансформування ГПУ-структури у ОЦК з параметром а=0,261нм

Plants with genetically encoded autoluminescence

Autoluminescent plants engineered to express a bacterial bioluminescence gene cluster in plastids have not been widely adopted because of low light output. We engineered tobacco plants with a fungal bioluminescence system that converts caffeic acid (present in all plants) into luciferin and report self-sustained luminescence that is visible to the naked eye. Our findings could underpin development of a suite of imaging tools for plants

MINING FLIES OF THE GENUS OPHIOMYIA (DIPTERA, AGROMYZIDAE) OF EASTERN UKRAINE AND ADJACENT TERRITORIES: REVIEW OF SPECIES WITH A FASCICULUS

During 2009–2013, twenty-three species of agromyzid flies from the genus Ophiomyia Braschnikov, 1897 were collected in the territory of eastern and south-eastern Ukraine. Among them, six species are described as new for science: Ophiomyia australis sp. n., O. crispa sp. n., O. fasciculusalba sp. n., O. malalata sp. n., O. punctata sp. n. and O. versera sp. n. Male heads and genitalia are illustrated for all species. Pictures of the female genitalia are also provided for О. curvipalpis (Zetterstedt, 1848), O. disordens Pakalniљkis, 1998, О. Fennoniensis Spencer, 1976, О. maura (Meigen, 1832), О. melandricaulis Hering, 1943, О. ranunculicaulis Hering, 1949, О. slovaca Иernэ, 1994, О. skanensis Spencer, 1976 and О. submaura Hering, 1926. Information on distribution and host plants are also provided.В течение 2009–2013 гг. на территории востока и юго-востока Украины было собрано 23 вида агромизид рода Ophiomyia Braschnikov, 1897. Среди них шесть описываются как новые: Ophiomyia australis sp. n., O. crispa sp. n., O. fasciculusalba sp. n., O. malalata sp. n., O. punctata sp. n. и O. versera sp. n. Для всех видов приведены рисунки голов и гениталий самцов, а для таких видов, как О. curvipalpis (Zetterstedt, 1848), O. disordens Pakalniљkis, 1998, О. fennoniensis Spencer, 1976, О. maura (Meigen, 1832), О. melandricaulis Hering, 1943, О. ranunculicaulis Hering, 1949, О. slovaca Иernэ, 1994, О. skanensis Spencer, 1976 and О. submaura Hering, 1926., ещё и гениталий самок. Статья содержит информацию о распространении, кормовой приуроченности и особенностях биологии