Etat d'avancement du procédé d'enrichissement de l'uranium par échange chimique

Voici cinq ans, le Commissariat à l'Energie Atomique français révélait, au cours de la Conférence de Salzbourg organisée par l'AlEA, l'existence d'un nouveau procédé d'enrichissement isotopique de l'uranium par échange chimique. Ce procédé possédait un coefficient d'enrichissement élevé, sa consommation d'énergie était faible et sa mise en œuvre ne faisait appel qu'aux techniques conventionnelles de l'industrie chimique. D'autres précisions furent apportées par la suite : il s'agit d'un échange réalisé au moyen de deux phases liquides, l'une aqueuse, l'autre organique, amenées à interagir dans des colonnes puisées de grande taille. Ces colonnes sont disposées en série de manière à constituer des cascades d'enrichissement interconnectées selon un schéma original qui permet de concevoir des assemblages industriels modulaires et ajustables en fonction des besoins du marché. Les progrès réalisés depuis l'annonce de Salzbourg sont remarquables. Pour ne citer qu'un chiffre, la puissance de séparation délivrée annuellement par mètre cube de phases a été triplée. Ainsi, la valeur absolue du coût de l'Unité de Travail de Séparation a été notablement diminuée et l'intérêt économique du procédé est désormais amplement confirmé, tout particulièrement dans le cas des usines de petite capacité. Les auteurs présentent les caractéristiques de ce procédé qui, tout en restant impropre à la prolifération, est l'un des plus séduisants parmi ceux qui ont été développés à ce jour

Fast dynamic interferometric lithography for large submicrometric period diffraction gratings production

International audienceThis paper describes a successful technological transfer, from a state laboratory to an industrial company, for writing long and large submicron period gratings (potentially square-meter sized), implemented in an industrial direct laser beam writing equipment at 355 nm wavelength (Dilase 750 from KLOE SA company). The writing head, which has been inserted in the machine, consists of a phase mask which enables it to project a set of fringes pattern of small area onto a photoresist-coated substrate. As the substrate is continuously moving, one-dimensional or two-dimensional gratings can be fabricated over large areas limited only by the machine's stage displacement range. The optical scheme is described from the beam shaping to the printing processes and the phase mask optimization. In order to demonstrate the technology, 600 nm period gratings of over 20 cm in length have been fabricated. Such submicron structures can be used in solar cell modules for photon trapping and as antireflection coatings. (C) 2013 Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE

Fast Dynamic Interferometric Lithography for fabricating large sub-micron period diffraction gratings.

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Heterologous Human Immunodeficiency Virus Type 1 Lentiviral Vectors Packaging a Simian Immunodeficiency Virus-Derived Genome Display a Specific Postentry Transduction Defect in Dendritic Cells

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Fast Dynamic Interferometric Lithography for fabricating large sub-micron period diffraction gratings.

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With a little help from a friend: increasing HIV transduction of monocyte-derived dendritic cells with virion-like particles of SIVMAC

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