CONTROLE SPECTROPHOTOMETRIQUE LARGE BANDE DE FILTRES INTERFERENTIELS EN COURS DE DEPOT

Wide Band Optical Monitoring for thin film thickness control during process deposition is demonstrated with a reflectance and transmittance optical set upLes performances d'un filtre optique interférentiel sont directement liées à la qualité du contrôle optique implanté sur la machine de dépôt. Actuellement, les contrôles spectrophotométriques large bande se développent de plus en plus du fait de l'amélioration des détecteurs matriciels. Le système optique développé durant ce travail de thèse présente la particularité de mesurer simultanément les profils spectraux en transmission et en réflexion de l'échantillon traité en rotation au cours du dépôt, ceci sur une plage spectrale située entre 400 et 1000 nm. Un tel système couplé à un logiciel d'optimisation permet de compenser les éventuelles erreurs de dépôt en modifiant après la réalisation de chaque couche les épaisseurs de celles restant à déposer. Il permet également une caractérisation in situ des indices et épaisseurs de matériaux diélectriques ou absorbants

Interest of broadband optical monitoring for thin film filter manufacturing

Broadband optical monitoring for thin-film filter manufacturing is more and more developed thanks to better performances of spectrometers with array detectors. We compare this optical monitoring with turning point monitoring and quartz monitoring of different designs. The sensitivity to thickness errors and to refractive index errors is evaluated. We show that real time determination of deposited thickness is a valuable criterion. We also present our experimental setup of transmittance and reflectance broad-band optical monitoring. The use of a 400–1000 nm range combined with a signal-to-noise ratio of2500 in transmittance and 1000 in reflectance permits us to expect the manufacturing of high-performance non-quarter-wave designs. A first manufacturing of an 18-layer non-quarter-wave high-pass filter i

High performance metal-dielectric stacks manufactured by using in situ reflection and transmission broadband optical monitoring

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