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    Quel est le score de douleur le mieux correlé au besoin morphinique du patient dans un service d'urgence ?

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    Introduction: une douleur supérieure à 6 est dite sévère et justifie un traitement antalgique par morphinique. Il s'agit d'une norme largement utilisée dans la littérature mais ces données n'ont jamais fait appel au jugement des patients. Objectifs: déterminer le score de douleur le mieux corrélé au besoin morphinique des patients. Méthodes: étude descriptive, prospective, unicentrique au CHU Toulouse qui devait inclure les patients se présentant aux urgences ayant une douleur aiguë d'origine traumatique ou médicale. Le calcul des sensibilités, spécificités, VPP, VPN et indice de Youden a été réalisé pour les seuils 5,6 et 7 de l'échelle numérique. Résultats: 210 patients inclus, âge médian 33 ans (+/-14.7), ratio H/F=1,3. Le meilleur score de Youden correspond aux valeurs seuils de 6 et 7(43%). Le score 6 a une meilleure sensibilité (76%) versus 61% pour le score 7. Conclusion: Cette étude démontre que le seuil de 6 est adapté au déclenchement de l'analgésie morphinique.TOULOUSE3-BU Santé-Centrale (315552105) / SudocSudocFranceF

    Suspended tip overhanging from chip edge for atomic force microscopy with an optomechanical resonator

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    International audienceRaising the mechanical frequency of atomic force microscopy (AFM) probes to increase the measurement bandwidth has been a long-standing expectation in the field and a technically difficult challenge. Recent advances in cavity optomechanics and in-plane probe designs have yielded significant progress. In situations in which an AFM tip extends a few micrometers from a planar optomechanical resonator, we present an approach to make it overhang from the probe die with precise control of the edge-line position. This fabrication step, which exposes the tip apex to the sample surface, is a prerequisite for any AFM experiment with optomechanical probes. We utilize a combination of saw dicing and time-controlled isotropic plasma etching to undercut the 725-ÎĽm-thick silicon substrate beneath the tip. The technique is easy to implement without any lithography steps. The overhang length of the tip is controlled to less than 5 ÎĽm with very good smoothness of the edge, reproducibility, and yield
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