Synthesis, properties, and reactions of Nickel(II) complexes of trismacrocyclic ligand

Thesis (master`s)--서울대학교 대학원 :화학과 유기화학전공,1996.Maste

Patient-specific surgical options for breast cancer-related lymphedema: technical tips

In order to provide a physiological solution for patients with breast cancer-related lymphedema (BCRL), the surgeon must understand where and how the pathology of lymphedema occurred. Based on each patient’s pathology, the treatment plan should be carefully decided and individualized. At the authors’ institution, the treatment plan is made individually based on each patient’s symptoms and relative factors. Most early-stage patients first undergo decongestive therapy and then, depending on the efficacy of the treatment, a surgical approach is suggested. If the patient is indicated for surgery, all the points of lymphatic flow obstruction are carefully examined. Thus a BCRL patient can be considered for lymphaticovenous anastomosis (LVA), a lymph node flap, scar resection, or a combination thereof. LVA targets ectatic superficial collecting lymphatics, which are located within the deep fat layer, and preoperative mapping using ultrasonography is critical. If there is contracture on the axilla, axillary scar removal is indicated to relieve the vein pressure and allow better drainage. Furthermore, removing the scars and reconstructing the fat layer will allow a better chance for the lymphatics to regenerate. After complete removal of scar tissue, a regional fat flap or a superficial circumflex iliac artery perforator flap with lymph node transfer is performed. By deciding the surgical planning for BCRL based on each patient’s pathophysiology, optimal outcomes can be achieved. Depending on each patient’s pathophysiology, LVA, scar removal, vascularized lymph node transfer with a sufficient adipocutaneous flap, and simultaneous breast reconstruction should be planned

A MEMS Device And The Manufacturing Method of the MEMS Device

본 발명의 일 실시에에 따른 멤스 소자는, 적외선 센서를 구비한 센서 기판; 및 상기 하부 기판과 접합되어 케비티를 구성하는 캡 기판을 포함한다. 상기 캡 기판은, 상부 기판; 상기 상부 기판의 상부면에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 상부 패턴; 상기 상부 패턴을 마주보도록 배치되고 상기 상부 기판의 하부면에서 함몰된 케비티 영역에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 하부 패턴; 상기 하부 패턴의 주위에 배치되고 상기 케비티 영역 내에 배치된 게터; 상기 상부 기판의 하부면에서 상기 케비티 영역보다 돌출되고 상기 상부 기판과 동일한 구조와 재질을 가지고 상기 케비티 영역을 감싸도록 배치된 격벽; 상기 상부 기판의 하부면에서 상기 케비티 영역의 배치평면보다 더 함몰되고 상기 격벽을 감싸도록 배치된 절단 부위; 및 상기 격벽의 하부면에 배치된 상부 본딩 패드;를 포함한다

Method of fabricating semiconductor device and radio frequency device

반도체 소자 및 무선주파수 소자의 제조방법이 제공된다. 반도체 소자의 제조방법에 따르면, 바디, 상기 바디 상의 매몰 절연층 및 상기 매몰 절연층 상의 반도체층의 적층 구조를 갖는 복합 기판을 제공한다. 상기 매몰 절연층 및 상기 반도체층을 식각하여 적어도 하나의 트렌치를 형성한다. 상기 적어도 하나의 트렌치 내의 상기 바디 상에 인버젼 방지층을 형성한다. 상기 적어도 하나의 트렌치를 채우도록 상기 인버젼 방지층 상에 매립 보호층을 형성한다. 상기 적어도 하나의 트렌치 밖의 상기 반도체층 상의 상기 인버젼 방지층의 제 1 부분은 제거되고, 상기 적어도 하나의 트렌치 내의 상기 인버젼 방지층의 제 2 부분은 상기 매립 보호층에 의해서 보호되도록, 상기 매립 보호층 및 상기 인버젼 방지층을 평탄화한다

self alignment 3D Shadow mask system

본 발명은 고단차 캐비티 내 증착에 필요한 쉐도우 마스크를 사용 시 정렬의 용이성과 정밀성을 향상시킬 수 있는 자가 정렬 3차원 쉐도우 마스크 시스템에 관한 것으로서, 기판에 박막이 증착되는 증착 영역을 구획할 수 있도록, 복수의 캐비티 공간이 형성되는 캐비티 웨이퍼와, 상기 캐비티 웨이퍼 상에 안착되고, 상기 복수의 캐비티 공간을 통해서 상기 기판의 상기 증착 영역에 상기 박막이 소정의 패턴으로 증착될 수 있도록, 상기 복수의 캐비티 공간과 대응되는 위치에 상기 소정의 패턴과 대응되는 형상으로 복수의 패턴 홀부가 형성되는 쉐도우 마스크 및 상기 쉐도우 마스크의 상기 복수의 패턴 홀부의 둘레의 적어도 일부분을 따라 소정의 높이로 돌출되게 형성되고, 상기 캐비티 웨이퍼 상에 상기 쉐도우 마스크를 안착 시, 상기 캐비티 웨이퍼의 상기 복수의 캐비티 공간에 적어도 일부분이 삽입되어, 상기 캐비티 웨이퍼 상에 안착되는 상기 쉐도우 마스크의 위치를 정렬하는 정렬 돌기를 포함할 수 있다

Shadow Mask Alignment System and Shadow Mask Alignment Method

본 발명은 고단차 캐비티 내 증착에 필요한 쉐도우 마스크를 사용 시 정렬의 용이성과 정밀성을 향상시킬 수 있는 쉐도우 마스크 정렬 시스템 및 쉐도우 마스크 정렬 방법에 관한 것으로서, 기판에 박막을 증착되는 증착 영역을 구획할 수 있도록, 캐비티 공간이 형성되는 캐비티 웨이퍼와, 상기 캐비티 웨이퍼 상에 안착되고, 상기 캐비티 공간을 통해서 상기 기판의 상기 증착 영역에 상기 박막이 소정의 패턴으로 증착될 수 있도록, 상기 캐비티 공간과 대응되는 위치에 상기 소정의 패턴과 대응되는 형상으로 복수의 패턴 홀부가 형성되는 쉐도우 마스크 및 상기 캐비티 웨이퍼 상에서 상기 캐비티 공간 이외의 영역에 적어도 하나 이상 설치되고, 상기 쉐도우 마스크와 끼워맞춤 방식으로 결합되어, 상기 캐비티 웨이퍼 상에 안착되는 상기 쉐도우 마스크의 위치를 정렬하는 정렬 블록을 포함할 수 있다