생성시형론의 재검토-Halle-Keyser 시형론을 중심으로

문법(grammar)에 의해서 문장의 문법성(grammaticality)이 결정되듯이 시에 있어서도 시의 규칙이 있어 시행의 운율성(metricality)을 판별해 준다. 최근 10여년간 시의 기본시형을 구분하여 각 行의 위치(position) (혹은 음보(foot))와 음절간의 가능한 결합을 기술하려는 시형론자들의 노력은 이 운율규칙(metrical rule)의 발견을 위해서였다. 그들은 정상형(norm)에 단순히 허용이탈형(allowable deviations)의 목록을 첨가한 전통이론이나 시의낭독(performance)에 근거를 둔 구조주의 시형론자들의 주장에 반대한다. 그들에게 전자는 일반적인 원칙이 없는 ad hoc한 목록의 나열로 보였고 후자는 낭독에 내재하는 시행의 추상성을 파악하지 못하는 시행론이었다. 특히 구조주의 시형론에서는 아래의 (1)뿐만아니라 (2) 까지 legitimate shifting of the accent for the sake of the meter에 의해 올바른 시행(正行)으로 만들어 버리므로 운율규칙의 존재가 무의미하게 되어버린다

Graphene Growth and Optimizing Etching Process of SiC Substrates

MasterGraphene, which consists of a single atomic layer of carbon atoms, has been attracting great attention as a base material for next-generation electronic devices. It is essential to grow highquality graphene in a large area in order to realize graphene-based electronic devices for mass production. One of the methods is to grow graphene from a single crystalline 4H SiC(0001) substrate, which is known as a method for large-scale growth. In this method we can get graphene in a large area. Also, because of a wide band gap of SiC, graphene doesn`t have to be transferred to other substrates like SiO2