차세대 반도체 배선을 위한 코발트 합금 자가형성 확산방지막 재료 설계 및 전기적 신뢰성에 대한 연구

학위논문(박사) -- 서울대학교대학원 : 공과대학 재료공학부, 2022.2. 주영창.Recently, the resistance-capacitance (RC) delay of the Cu interconnects in metal 1 (M1) level has been increased rapidly due to the reduction of the interconnect linewidth along with the transistor scaling down, and the interconnect reliability becomes a severe issue again. In order to overcome interconnect performance problems and move forward to the next-generation interconnects system, study on low resistivity (ρo) and low electron mean free path (λ) metals was conducted. Generally, metals such as Cobalt (Co), Ruthenium (Ru), and Molybdenum (Mo) are mentioned as candidates for next-generation interconnect materials, and since they have a low ρo × λ value, it is expected that the influence of interface scatterings and surface scattering can be minimized. However, harsh operating environments such as high electric fields, critical Joule heating, and reduction of the pitch size are severely deteriorating the performance of electronic devices as well as device reliability. For example, since time dependent dielectric breakdown (TDDB) problems for next-generation interconnect system have been reported recently, it is necessary to study alternative barrier materials and processes to improve the interconnect reliability. Specifically, extrinsic dielectric breakdown due to penetration of Co metal ions in high electric fields has been reported as a reliability problem to be solved in Co interconnect systems. Therefore, there is a need for new material system design and research on a robust diffusion barrier that prevents metal ions from penetrating into the dielectric, thereby improving the reliability of Co interconnects. Moreover, in order to lower the resistance of the interconnect, it is necessary to develop an ultra-thin barrier. This is because even a barrier with good reliability characteristics will degrade chip performance if it takes up a lot of volume in the interconnect. The recommended thickness for a single diffusion barrier layer is currently reported to be less than 2.5 nm. As a result, it is essential to develop materials that comprehensively consider performance and reliability. In this study, we designed a Co alloy self-forming barrier (SFB) material that can make sure of low resistance and high reliability for Co interconnects, which is attracting attention as a next-generation interconnect system. The self-forming barrier methodology induces diffusion of an alloy dopant at the interface between the metal and the dielectric during the annealing process. And the diffused dopant reacts with the dielectric to form an ultra-thin diffusion barrier. Through this methodology, it is possible to improve reliability by preventing the movement of metal ions. First of all, material design rules were established to screen the appropriate alloy dopants and all CMOS-compatible metals were investigated. Dopant resistivity, intermetallic compound formation, solubility in Co, activity coefficient in Co, and oxidation tendency is considered as the criteria for the dopant to escape from the Co matrix and react at the Co/SiO2 interface. In addition, thermodynamic calculations were performed to predict which phases would be formed after the annealing process. Based on thermodynamic calculations, 5 dopant metals were selected, prioritized for self-forming behavior. And the self-forming material was finally selected through thin film and device analysis. We confirmed that Cr, Zn, and Mn out-diffused to the surface of the thin film structure using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) depth profile and investigated the chemical state of out-diffused dopants through the analysis of a binding energy. Cr shows the most ideal self-forming behavior with the SiO2 dielectric and reacted with oxygen to form a Cr2O3 barrier. In metal-insulator-semiconductor (MIS) structure, out-diffused Cr reacts with SiO2 at the interface and forms a self-formed single layer. It was confirmed that the thickness of the diffusion barrier layer is about 1.2 nm, which is an ultra-thin layer capable of minimizing the total effective resistance. Through voltage-ramping dielectric breakdown (VRDB) tests, Co-Cr alloy showed highest breakdown voltage (VBD) up to 200 % than pure Co. The effect of Cr doping concentration and heat treatment condition applicable to the interconnect process was confirmed. When Cr was doped less than 1 at%, the robust electrical reliability was exhibited. Also, it was found that a Cr2O3 interfacial layer was formed when annealing process was performed at 250 °C or higher for 30 minutes or longer. In other words, Co-Cr alloy is well suited for the interconnect process because current interconnect process temperature is below 400 °C. And when the film thickness was lowered from 150 nm to 20 nm, excellent VBD values were confirmed even at high Cr doping concentration (~7.5 at%). It seems that the amount of Cr present at the Co/SiO2 interface plays a very important role in improving the Cr oxide SFB quality. Physical modeling is necessary to understand the amount of Cr at the interface according to the interconnect volumes and the reliability of the Cr oxide self-forming barrier. TDDB lifetime test also performed and Co-Cr alloy interconnect shows a highly reliable diffusion barrier property of self-formed interfacial layer. The DFT analysis also confirmed that Cr2O3 is a very promising barrier material because it showed a higher energy barrier value than the TiN diffusion barrier currently being studied. A Co-based self-forming barrier was designed through thermodynamic calculations that take performance and reliability into account in interconnect material system. A Co interconnect system with an ultra-thin Cr2O3 diffusion barrier with excellent reliability is proposed. Through this design, it is expected that high-performance interconnects based on robust reliability in the advanced interconnect can be implemented in the near future.최근 반도체 소자 스케일링에 따른 배선 선폭 감소로 M0, M1영역에서의 metal 비저항이 급격히 증가하여 배선에서의 RC delay가 다시 한번 크게 문제가 되고 있다. 이를 해결하기 위해서 차세대 배선 시스템에서는 낮은 비저항과 electron mean free path (EMFP)을 가지는 물질 연구가 진행되었다. 대표적으로 Co, Ru, Mo와 같은 금속들이 차세대 배선 재료 후보로 언급되고 있으며 낮은 ρ0 × λ 값을 갖기 때문에 interface (surface) scattering과 grain boundary scattering 영향을 최소화할 수 있을 것으로 보고 있다. 하지만 가혹한 electrical field와 높은 Joule heating이 발생하는 동작 환경으로 인해 performance뿐만 아니라 소자 신뢰성이 더 열악한 상황에 놓여있다. 예를 들어 차세대 금속에 대한 time dependent dielectric breakdown (TDDB) 신뢰성 문제가 보고되고 있기 때문에 이를 보안할 확산방지막 물질 및 공정연구가 필요하다. 특히 높은 전기장에서 Co ion이 유전체로 침투하여 extrinsic dielectric breakdown 신뢰성 문제가 최근 보고되고 있다. 따라서 금속 이온이 유전체 내부로 침투하는 것을 방지하여, Co 배선의 신뢰성을 향상시킬 수 견고한 확산방지막 개발 및 새로운 배선 시스템 설계가 필요한 시점이다. 또한, 배선 저항을 낮추기 위해서는 매우 얇은 확산방지막 개발이 필요하다. 신뢰성이 좋은 확산방지막이라도 배선에서 많은 영역을 차지할 경우 전체 성능이 저하되기 때문이다. Cu 확산방지막으로 사용되고 있는 TaN 층은 2.5 nm 보다 얇을 경우 신뢰성이 급격히 나빠지므로 2.5 nm보다 얇은 두께의 견고한 확산방지막 개발이 필요하다. 본 연구는 차세대 반도체 배선 물질로 주목받고 있는 Co 금속에 대하여 저저항·고신뢰성을 확보할 수 있는 Co alloy 자가형성 확산방지막 (Co alloy self-forming barrier, SFB) 소재 디자인하였다. 자가형성 확산방지막 방법론은 열처리 과정에서 금속과 유전체 계면에서 도펀트가 확산하게 된다. 그리고 확산되니 도펀트는 얇은 확산방지막을 형성하는 방법론이다. 이 방법론을 통해 금속 이온의 이동을 방지하여 Co 배선 신뢰성을 향상시킬 수 있을 것으로 예상하였다. 우선, Co 합금상에서 적절한 도펀트를 찾기 위해서 CMOS 공정에 적용 가능한 금속들을 선별하였다. 도펀트 저항, 금속간 화합물 형성 여부, Co내 고용도, Co alloy에서의 활성계수, 산화도, Co/SiO2 계면에서의 안정상을 열역학적 계산을 통해서 물질 선정 기준으로 세웠다. 열역학적 계산을 기반으로 9개의 도펀트 금속이 선택되었으며, Co 합금 자가형성 확산방지막 기준에 따라서 우선 순위를 지정하였다. 그리고 최종적으로 박막과 소자 신뢰성 평가를 통해서 가장 적합한 자가형성 확산방지막 물질을 선정하였다. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) 분석을 이용하여 Cr, Zn, Mn이 박막 구조의 표면으로 외부 확산 여부를 확인하고 결합 에너지 분석을 통해 외부로 확산된 도펀트의 화학적 상태를 조사하였다. 분석 결과 Cr, Zn, Mn이 유전체 계면으로 확산되어 산소와 반응하여oxide/silicate 확산 방지막 (e.g. Cr2O3, Zn2SiO4, MnSiO3)을 형성한 것을 확인하였다. 그 중 Cr은 SiO2 유전체와 함께 가장 이상적인 자기 형성 거동을 나타내며 산소와 반응하여 Cr2O3 층을 형성하는 것을 확인하였다. MIS (Metal-Insulator-Semiconductor) 구조에서도 외부로 확산된 Cr은 계면에서 SiO2와 반응하여 Cr2O3 자가형성 확산방지막이 형성되었다. 확산방지층의 두께는 약 1.2nm로 전체 유효저항을 최소화할 수 있는 충분히 얇은 두께를 확보하였다. VRDB (Voltage-Ramping Dielectric Breakdown) 테스트를 통해 Co-Cr 합금은 순수 Co보다 최대 200% 높은 항복 전압 (breakdown voltage)을 보였다. 반도체 배선 공정에 적용할 수 있는 Cr 도핑 농도와 열처리 조건의 영향을 확인하였다. Cr이 1at% 미만으로 도핑되었을 때 우수한 전기적 신뢰성을 나타내었다. 또한, 250℃ 이상에서 30분 이상 열처리를 하였을 때 Cr2O3 계면층이 형성됨을 알 수 있었다. 즉, 현재 배선 공정 온도가 400°C 미만이기 때문에 Co-Cr 합금이 배선 공정에 적용 가능함을 확인하였다. TDDB 수명 테스트도 수행되었으며 Co-Cr 합금 배선은 자체 형성된 계면층의 매우 안정적인 확산 장벽 특성을 보여주었다. DFT 분석은 Cr2O3자가형성 확산방지막이 현재 연구되고 있는 TiN 확산 장벽보다 더 높은 에너지 장벽 값을 보여주기 때문에 매우 유망한 확산방지막임을 보여주었다. 본 연구는 반도채 배선 물질 시스템에서 성능과 신뢰성을 고려한 열역학적 계산을 통해 Co 기반 자가형성 확산방지막을 설계하였다. 실험 결과 신뢰성이 우수하고 아주 얇은 Cr2O3 확산방지막이 있는 Co-Cr 합금이 제안하였다. 물질 설계와 전기적 신뢰성 검증을 Co/Cr2O3/SiO2 물질 시스템을 제안하였고 앞으로의 다가올 차세대 배선에서 구현될 수 있을 것으로 기대된다.Abstract i Table of Contents v List of Tables ix List of Figures xii Chapter 1. Introduction 1 1.1. Scaling down of VLSI systems 1 1.2. Driving force of interconnect system evolution 7 1.3. Driving force of beyond Cu interconnects 11 1.4. Objective of the thesis 18 1.5. Organization of the thesis 21 Chapter 2. Theoretical Background 22 2.1. Evolution of interconnect systems 22 2.1.1. Cu/barrier/low-k interconnect system 22 2.1.2. Process developments for interconnect reliability 27 2.1.3. 3rd generation of interconnect system 31 2.2 Thermodynamic tools for Co self-forming barrier 42 2.2.1 Binary phase diagram 42 2.2.2 Ellingham diagram 42 2.2.3 Activity coefficient 43 2.3. Reliability of Interconnects 45 2.3.1. Current conduction mechanisms in dielectrics 45 2.3.2. Reliability test vehicles 50 2.3.3. Dielectric breakdown assessment 52 2.3.4. Dielectric breakdown mechanisms 55 2.3.5. Reliability test: VRDB and TDDB 56 2.3.6. Lifetime models 57 Chapter 3. Experimental Procedures 60 3.1. Thin film deposition 60 3.1.1. Substrate preparation 60 3.1.2. Oxidation 61 3.1.3. Co alloy deposition using DC magnetron sputtering 61 3.1.4. Annealing process 65 3.2. Thin film characterization 67 3.2.1. Sheet resistance 67 3.2.2. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) 68 3.3. Metal-Insulator-Semiconductor (MIS) device fabrication 70 3.3.1. Patterning using lift-off process 70 3.3.2. TDDB packaging 72 3.4. Reliability analysis 74 3.4.1. Electrical reliability analysis 74 3.4.2. Transmission electron microscopy (TEM) analysis 75 3.5. Computation 76 3.5.1 FactsageTM calculation 76 3.5.2. Density Functional Theory (DFT) calculation 77 Chapter 4. Co Alloy Design for Advanced Interconnects 78 4.1. Material design of Co alloy self-forming barrier 78 4.1.1. Rule of thumb of Co-X alloy 78 4.1.2. Co alloy phase 80 4.1.3. Out-diffusion stage 81 4.1.4. Reaction step with SiO2 dielectric 89 4.1.5. Comparison criteria 94 4.2. Comparison of Co alloy candidates 97 4.2.1. Thin film resistivity evaluation 97 4.2.2. Self-forming behavior using XPS depth profile analysis 102 4.2.3. MIS device reliability test 110 4.3 Summary 115 Chapter 5. Co-Cr Alloy Interconnect with Robust Self-Forming Barrier 117 5.1. Compatibility of Co-Cr alloy SFB process 117 5.1.1. Effect of Cr doping concentration 117 5.1.2. Annealing process condition optimization 119 5.2. Reliability of Co-Cr interconnects 122 5.2.1. VRDB quality test with Co-Cr alloys 122 5.2.2. Lifetime evaluation using TDDB method 141 5.2.3. Barrier mechanism using DFT 142 5.3. Summary 145 Chapter 6. Conclusion 148 6.1. Summary of results 148 6.2. Research perspectives 150 References 151 Abstract (In Korean) 166 Curriculum Vitae 169박

"오늘의 적도 내일의 적으로 생각하면 되고" : '일제 청산'과 김수영의 저항

1966년에 시인 김수영은 다음과 같은 충격적인 글을 썼다. 우선 그 글의 한 대목을 보자. 내가 참말로 꾀하고 있는 것은 침묵이다. 이 침묵을 지키기 위해서라면 어떤 희생을 치르더라도 좋다. 그대의 박해를 감수하는 것도 물론 이 때문이다. 그러나 그대는 근시안이므로 나의 참뜻이 침묵임을 모른다. 그대는 기껏 내가 일본어로 쓰는 것을 비방할 것이다. 친일파라고, 저널리즘의 적이라고. 얼마 전에 小山いと子가 왔을 때도 한국의 잡지는 기피했다. 여당의 잡지는 야당과 학생데모의 기억이 두려워서, 야당은 야당의 대의명분을 지키기 위해서. (…) 이리하여 배일은 완벽이다. 군소리는 집어치우자. 내가 일본어를 쓰는 것은 그러한 교훈적 명분도 있기는 하다. 그대의 비방을 초래하기 위해서이기도 하다. 그러나 인기 때문만은 아니다. 어때, 그대의 기선을 제하지 않았는가. 이제 그대는 일본어는 못 쓸 것이다. 내 다음에 사용하는 셈이 되니까. 그러나 그대에게 다소의 기 회를 남겨주기 위해 일부러 나는 서투른 일본어를 쓰는 정도로 그쳐두자. 하여튼 나는 해방 후 20년 만에 비로소 번역의 수고를 덜은 문장을 쓸 수 있었다. 독자여, 나의 휴식을 용서하라

민족-멜로드라마의 악역들 : <토지>의 일본(인)

이 논문의 목적은 박경리의 장편 대하소설 『토지』를 멜로드라마의 관점으로 분석하는 것이다. 『토지』는 강렬한 파토스, 과도한 감정, 도덕적 양극화 같은 멜로드라마의 요소를 풍부하게 갖추고 있다. 악랄하고 잔인무도한 악당들과 영웅적 초인들의 대결이 『토지』의 기본적인 서사문법이다. 가장 특징적인 것은 도덕적 양극화이다. 선(인)/악(인)의 선명하고도 가차 없는 이분법은 엄청나게 방대한 양의 이 소설에서 조금도 변치 않는 원칙이다. 이 선악의 선명한 양극화는, 뜻밖에도, 아니 당연히, 양적으로 방대한 이 소설의 내부적 밀도를 매우 느슨하고 무미건조하게 만드는 것인데, 이 양극화된 세계속에서 선(인)의 무리는 만주벌판을 누비는 독립투사들, 지하에서 암약하는 혁명가들, 그리고 일본(인)에 대한 강렬한 적개심과 혐오감을 간직하고 있는 다수의 민중이며, 악(인)의 무리는 소수의 일본(인)과 친일파들이다. 이 멜로드라마의 세계 속에서 궁극의 승리를 향해 가는 선(인)의 총칭(總稱)은 민족이다. 민족 또는 조국은 선(인)의 근거이며 또한 종착지이다. 다시 말해, 출발점이자 회귀점으로서의 민족은 이 멜로드라마의 진정한 주인공이다. 『토지』를 민족-멜로드라마로 명명한 까닭은 거기에 있다. 통속 멜로드라마의 상투적 묘사법, 즉 흉악하고 포악한 악당과 지고지순한 선인의 극단적인 대비는 『토지』의 서사를 이끄는 기본 동력이다. 추악하고 타락한 악당들(왜놈, 친일파, 민족반역자)의 반대쪽에 선량하고 도덕적이며 인간적 미덕과 초인적 용기로 가득 찬 선인들(항일독립투사들, 민족주의적 지식인들, 농민을 비롯한 민초들)이 존재한다. 농촌 공동체의 일상에 대한 생생한 묘사에도 불구하고 『토지』 전체를 지배하는 인종주의, 제노포비아, 국수주의적 문화본질론 등은 이 소설의 즐거운 독서를 크게 방해하고 있다

Ovarian Cystadenofibroma in a Patient with Familial Adenomatous Polyposis

Familial adenomatous polyposis (FAP) is a hereditary disease characterized by the appearance of numerous polyps in the large bowel with a high potential for malignant transformation unless untreated. A variety of extracolonic manifestations were reported such as osteoma, epidermoid cyst, desmoid tumor, gastroduodenal polyps, small bowel tumor, congenital hypertrophy of the retinal pigment epithelium, hepatobiliary tumor, thyroid tumor, and tumor of 12 the central nervous system. However, the ovarian involvement of FAP as an extracolonic manifestation was very rare and there have been only few reports. We experienced a rare case of ovarian cystadenofibroma in a patient with FAP as an extracolonic manifestation. We also found colon cancer with multiple hepatic metastasis initially manifested as intestinal obstruction in the same patient. Surgical treatment and subsequent chemotherapy for colon cancer and intraoperative radiofrequency ablation of hepatic metastasis were 15 performed.ope

유가증권 및 대출채권 공정평가손익이 기업가치에 미치는 영향에 관한 연구

학위논문(석사)--서울대학교 대학원 :경영학과 경영학전공,2000.Maste

에피택시얼 스트레인 하에서 SrMnO3 and LaMnO3의 전자구조와 자기배열에 관한 LDA+U 연구

Thesis(masters) --서울대학교 대학원 :물리학부,2010.2.Maste

A Study on the Teleological Judgment of Nature in Kants Critique of the Power of Judgment

칸트는 자연에 대한 목적론적 판정을 유기체를 기반으로 조금씩 확장시켜 나간다. 칸트의 첫 번째 전략은 유기체를 통해 자연에 자연목적 개념을 도입하는 것이다. 칸트는 반성적 판단력의 자연의 합목적성의 원리 를 기반으로 유기체를 자연목적으로 판정한다. 이로써 자연 안에 적어도 하나의 자연 사물은 목적론적으로 설명되지 않을 수 없다는 것이 밝혀진다. 그런 다음 칸트는 이 목적론적 판정을 전체 자연으로 확장시킨다. 이 것이 칸트의 두 번째 전략이다. 이 두 번째 전략의 핵심을 이루는 것은 실존의 합목적성이라는 개념이다. 유기체를 자연목적으로 판정한 이상, 유기체라는 목적을 위한 수단들 또한 상정하지 않을 수 없으며, 이로써 전체 자연은 수단-목적의 체계로 드러난다. 그러나 아직 자연에 대한 목적론적 탐구가 완성된 것은 아니다. 더 이상 다른 것의 수단이 될 수 없는 궁극목적을 찾지 못하면, 상위의 목적을 찾아가는 목적론적 탐구는 완성되지 못하기 때문인데, 이 궁극목적은 이론적 탐구로는 찾을 수 없다. 이론적 탐구가 대상으로 삼는 자연에는 궁극목적의 자격을 갖춘 것이 없으므로, 궁극목적은 예지계에서 찾아진다. 예지계는 도덕법칙에 따르는 세계이므로, 예지계에서 찾아진 궁극목적은 최고선이다. 이처럼 이론적 탐구의 한계는 실천적 고려를 통해 완성되는데, 실천적 고려는 칸트의 세 번째 전략이자 마지막 전략이다.The main purpose of Critique of the Teleological Power of Judgment is to judge nature as a teleological system. In the first place, Kant commits himself to organized beings (living things). Then he inquires into nature in general, and judges nature in general as a system of ends. How can this extension of teleological judgment (from organized beings to nature in general) be possible? Does Kant explain this extension? I think he doesnt. And what is the ultimate end of nature in general? I want to introduce a supporting argument to this extension and the ultimate end of nature in general. This argument has 3 steps as follows. The 1st step: to argue that at least one thing in nature (living things) should be judged teleologically. The 2nd step: to argue that the teleological judgment of organized beings (living things) should be extended to nature in general. The 3rd step: to argue that the ultimate end of nature as a teleological system is the existence of human beings under moral laws. The teleological judgment of nature is extended by the introduction of existential purposiveness. The ultimate end of nature as a teleological system cannot be found in a phenomenal world, but it can be found in a noumenal world. Therefore, the ultimate end of nature is determined by moral laws that determine the laws of the noumenal world. Nature, in general, is judged as a system of moral laws

위암에서의 유전자 발현 정보를 이용한 분자생물학적 진단 및 치료 후보 유전자의 기능 규명

Dept. of Medicine/박사Gastric cancer is the second leading cause of global cancer mortality, and it has the highest mortality rates in East Asia, including south korea, Japan and China. We previously identified two prognostic subgroups of patients with gastric cancer through gene expression microarray technology. The gene expression microarray data imply that TXN plays an important role in gastric cancer. Hypoxia-induced gene, ERO1L, was significantly correlated with TXN. Tumors with high TXN expression also exhibited elevated ERO1L. It was highly correlated with TXN (P<0.001). To determine the potential clinicopathologic implication of ERO1L expression, we established two stable cell lines using ERO1L-specific small hairpin RNA (shRNA) in ERO1L high expressing gastric cancer AGS cells. We further investigated the functional role of ERO1L in gastric cancer cell lines. We found that cell proliferation suppression induced by the ERO1L-specific shRNA was caused by inhibition of cell cycle through activation of phosphor-cdc2 expression. Furthermore, demonstrate that a decrease in the ERO1L level markedly influences cell migration and invasion, implying that contributes to the metastasis of gastric cancer (P<0.001).In conclusion, our findings show that a prognostic molecular signature that can predict the poor progression of gastric cancer tumors. Unequal distribution of expression patterns reflecting activation of ERO1L with different survival rates supports a personalized target therapy in gastric cancer with biomarker gene signature driven patient selection.restrictio

Exocrine secretory responsiveness of dispersed pancreatic acini to secretagogues in camostat-treated rats

의학과/석사[한글] 고농도의 cholecystokinin(CCK)에 지속적으로 노출될 경우 이자외분비선의 성장, 효소단백함량 증가 등에 관하여는 잘 알려져 있으나, 이자 외분비선의 분비반응 변동, 특히 CCK나 caerulein, carbachol등의 분비자극물질로 자극했을 때의 반응성에 관하여는 논란이 많다. 본 실험에서는 내인성 CCK의 혈중농도를 증가시킨다고 알려진 camostat을 4일 또는 10일간 지속적으로 투여한 후 이자 조직을 적출, 분산 선세포(dispersed acini)를 분리하여 생체외에서 CCK 및 carbachol에 대한 amylase 유리 반응을 관찰하여 camostat 투여가 이 자 외분비선의 분비양상 및 분비자극물질에 대한 반응성에 어떤 영향을 미치는지 밝히고자 하였다. 실험결과를 요약하면 다음과 같다. 1. 최대효과를 나타내는 CCK의 농도는 대조군에 비해 Camostat 투여군이 높았으나 carbachol의 최대유효농도는 대조군과 camostat 투여군사이에 차이가 없었다. 2. 각 농도의 분비자극물질에 의한 효소유리반응을 최대반응에 대한 백분율로 나타낸 농도-반응 곡선에서 CCK 반응은 Camostat 투여로 오른쪽으로 이동하였지만 carbachol 반응은 별 차이가 없었다. 3. 각 농도에서의 효소유리반응을 직접 비교한 결과 CCK 10**-9 M 이상, carbachol 10**-6 M 이상 고농도의 분비자극물질에 대한 분비반응이 Camostat 투여군에서 높았으며 Camostat le일간 투여군에서 특히 높게 나타났다. 4. 조직내 amylase 활성치와 최대 amylase 유리 반응은 역상관 관계를 나타내었다. 이상의 결과로 보아 이자 외분비선에 대한 지속적인 내인성 CCK 자극은 외분비 효소 분비에 있어 분비자극물질, 특히 고농도의 CCK에 대한 반응성 을 항진시킨다고 생각된다. Exocrine secretory responsiveness of dispersed pancreatic acini to secretagogues in camostat-treated rats Chul Kim Department of Medical Science The Graduate School, Yonsei University (Directed by Professor Kyung Hwan Kim) It is well known that chronic stimulation with CCK gives rise to growth of exocrine pancreas and to increased content of enzyme proteins in pancreas. However, little is known about changes of the secretory function of exocrine pancreas which has been chronically stimulated with CCK, especially about the responsiveness to secretagogues such as CCK, caerulein and carbachol. The present study was performed to investigate the effect of camostat on secretory profiles and the responsiveness to secretagogues of exocrine pancreas by observing in vitro amylase release stimulated by cholecystokinin-octapeptide(CCK-8) and carbachol in dispersed isolated pancreatic acini from camostat-treated rats for 4 or 10 days. The results summarized as follows: 1. The maximal effective concentraion of CCK-8 in amylase release in the camostat-treated group was greater than control group, but that of carbachol was not different between groups. 2. Analysis of the stimulated amylase release as the percentage of the maximal response revealed that camostat treatment caused right-shift of the dose-response curve of CCK-8. Camostat did net cause significant changes in the dose-response curve of carbachol. 3. There were considerable increases in the amylase release in the camostat-treated group, compared to the control when acini were stimulated with CCK-8 10**-9 M and carbaochol 10**-6 M, and higher concentrations. 4. There was a reverse correlation between the tissue content and the maximal release (percent of the total content) of amylase. These results suggest that chronic exposure of exocrine pancreas to increased endogenous CCK can enhance the responsiveness of exocrine enzyme secretion to secretagogues, especially at higher concentrations of CCK and carbachol. [영문] It is well known that chronic stimulation with CCK gives rise to growth of exocrine pancreas and to increased content of enzyme proteins in pancreas. However, little is known about changes of the secretory function of exocrine pancreas which has been chronically stimulated with CCK, especially about the responsiveness to secretagogues such as CCK, caerulein and carbachol. The present study was performed to investigate the effect of camostat on secretory profiles and the responsiveness to secretagogues of exocrine pancreas by observing in vitro amylase release stimulated by cholecystokinin-octapeptide(CCK-8) and carbachol in dispersed isolated pancreatic acini from camostat-treated rats for 4 or 10 days. The results summarized as follows: 1. The maximal effective concentraion of CCK-8 in amylase release in the camostat-treated group was greater than control group, but that of carbachol was not different between groups. 2. Analysis of the stimulated amylase release as the percentage of the maximal response revealed that camostat treatment caused right-shift of the dose-response curve of CCK-8. Camostat did net cause significant changes in the dose-response curve of carbachol. 3. There were considerable increases in the amylase release in the camostat-treated group, compared to the control when acini were stimulated with CCK-8 10**-9 M and carbaochol 10**-6 M, and higher concentrations. 4. There was a reverse correlation between the tissue content and the maximal release (percent of the total content) of amylase. These results suggest that chronic exposure of exocrine pancreas to increased endogenous CCK can enhance the responsiveness of exocrine enzyme secretion to secretagogues, especially at higher concentrations of CCK and carbachol.restrictio

인터넷 가버넌스(Internet Governance)의 구조와 작동원리에 관한 연구 : ICANN을 중심으로

학위논문(석사)--서울대학교 행정대학원 :행정학과 정책학전공,2001.Maste