Three-dimensional Microfabrication on GaAs by Usin

微/纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统（或微机电系统，MEMS）可能迅速崛起和蓬勃发展，成为微/纳米科技中的核心之一。为充分发挥微系统的功能和用途，需要制备较为复杂和高性能的微结构，因此必须发展和建立新型的加工技术。适宜于微系统的新型的加工技术应能满足如下三方面的要求：（1）能够加工复制出真正的超微复杂三维微加工图形或器件；（2）可批量生产；（3）达到微/纳米尺寸。 早在1992年，田昭武院士等就提出了约束刻蚀剂层技术（ConfinedEtchantLayerTechnique,简称CELT），是一种具有距离敏...Micro- and Nanometer science and technology, which will lead to a great breakthrough in understanding and transforming the world is considered to be a key Hi-tech in 21st century. The microsystem or microelectromechanical systems (MEMS), as an interdisciplinary field, will be a core of micro- and nanometer science and technology. In order to exert the potential of MEMS, a new micromachining method...学位：理学硕士院系专业：化学化工学院化学系_物理化学(含化学物理)学号：19982502

金属的电化学微区刻蚀方法

本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 ,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优

用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀

以微齿轮图形结构作为规整模板 ,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀 .在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下 ,规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制 .刻蚀结果与没有捕捉剂存在时的刻蚀结果做了比较 .另外还测试了不同方法制得膜板的性能 ,初步探讨了电化学模板的制作工艺

The Electrochemical Etching of Metals

本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 ,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势All kinds of current methods for etching metals are reviewed.The electrochemical etching methods among them,including through_mask,scanning electrochemical microscopy,confined etchant layer technique,electrochemical scanning tunneling microscopy and super_short potential pulse,are discussed in detail.The compositive analyses were made for the methods in terms of the processing precision(whether processing in micrometer or nanometer scale),the processing efficiency(the complexity of the procedure,and whether fabricating in batch),the extent of application(mainly refer to the procedure,and whether fabricating in batch),the extent of results was shown that each method has itself advantage and imperfection. The confined etchant layer technique has superiority over other methods in the view of the total effect.作者联系地址：厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学Author's Address: State Key Lab. for Phys. Chem. of Solid Surfaces and Chem. Dept., Xiamen Univ., Xiamen 361005, Chin

Static analysis and neural network based software failure prediction technique construction method

本发明提供一种基于静态分析和神经网络的软件故障预测技术的构建方法,步骤如下：1、搜集被诊断软件的有效故障，加入到创建的故障案例库；2、统计软件各历史版本的有效故障的次数；3、使用静态分析工具扫描软件源代码，输出复杂度度量值；4、进行相关性分析，计算故障次数与度量值的显著性水平；5、选出与故障次数具有显著相关性的复杂度度量值；6、构建网络训练输入输出矩阵和预测输入矩阵；7、构建BP神经网络；8、完成网络训练，构建故障预测系统；9、神经网络预测，预测新版本的故障数量。通过上述步骤，可以完成对基于静态分析和BP神经网络的软件故障预测技术的构建。本发明能帮助开发者预测可能发生的软件故障，具有实用价值

Three-dimensional Microfabrication on GaAs Using a Regular Patterns Mold

以微齿轮图形结构作为规整模板 ,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀 .在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下 ,规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制 .刻蚀结果与没有捕捉剂存在时的刻蚀结果做了比较 .另外还测试了不同方法制得膜板的性能 ,初步探讨了电化学模板的制作工艺 .Electrochemical etching of single crystal GaAs (111) was performed with a regular mold which resembles the micro_gear patterns. The etched patterns on GaAs was very consistent with the negative copies of the mold when the confined etchant layer technique (CELT) was used. However when the scavenger chemical of H 3AsO 3 was not added in the etching solution, the regular micro_gear patterns of the mold could not be obtained. In addition ,the procedure of fabricating a electrochemical mold is introduced and the characteristics of the mold are briefly discussed.作者联系地址：厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门361005,厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门361005,清华大学精密仪器系!北京100084,厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门3610Author's Address: 1 State Key Lab for Phys.Chem.of the Solid Surf., Dept.of Chem., Xiamen Uni