利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率(英文)

高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义，而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来，扫描电化学显微镜（ＳＥＣＭ）用于表面加工的研究颇受注目。然而，ＳＥＣＭ刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而受到限制。最近，田昭武等提出的一种可进行高分辨率微加工的新方法——约束刻蚀剂层技术（ＣＥＬＴ），可使刻蚀反应具有高度的距离敏感性，刻蚀分辨率得到极大改善。我们利用ＣＥＬＴ技术刻蚀硅表面，以６０μｍ及１００μｍ直径微电极产生刻蚀剂Ｂｒ２，刻蚀溶液中加入亚砷酸作为Ｂｒ２的捕捉剂刻蚀得到的图案与所用微电极尺寸符合，直径分别约为６０μｍ和１００μｍ。与ＳＥＣＭ方法得到的１１０μｍ和１８０μｍ分辨率相比，刻蚀分辨率得到大幅度提高。作者联系地址：厦门大学化学系,哈尔滨工业大

Response of Photosynthetic Apparatus to Different Irradiance in Flag Leaves of High-Yielding Winter Wheat PH01-35 Grown under Low Light Conditions

为了解弱光下生长的小麦叶片在不同光强下PS II和光合电子传递链的工作状态,解释其突然转入强光下时发生光抑制和光破坏的原因,以PH01-35为材料,采用大田人工遮光的方法,测定了小麦旗叶叶绿素含量、光合特性参数及快速光曲线。弱光处理15 d后,旗叶叶绿素含量明显上升,净光合速率、光补偿点、光饱和点、表观量子效率、羧化效率均出现不同程度的下降。与250μMOl M-2 S-1的弱光适应3 H相比,1 200μMOl M-2 S-1的强光适应3 H后,弱光下生长叶片的快速光曲线初始斜率下降幅度较大,曲线下降部分的斜率、最大相对电子传递速率、半饱和光强的上升幅度均小于自然光下生长的叶片,光能利用能力较低,其非光化学猝灭系数nPQ也明显低于自然光下生长的叶片,为自然光下生长叶片的87.5%。弱光下生长的小麦叶片光能吸收能力增强,但较低的光能利用能力和过剩光能耗散能力是其转入自然强光后易发生光抑制甚至光破坏的主要原因。To further explain the mechanism of photoinhibition and light damage in wheat(Triticum aestivum L.) leaves when it was suddenly transferred from low light to high light conditions,the responses of photosynthetic apparatus in shaded leaves of the high-yielding winter wheat line,PH01-35,were examined using chlorophyll fluorescence and gas exchange techniques.After 15-day shading,the chlorophyll content increased greatly,but the net photosynthetic rate(Pn),light compensation point(LCP),light saturation point(LSP),apparent quantum yield(AQY),and carboxylation efficiency(CE) all decreased.Compared with leaves grown in full sunlight,the initial slope(α),decline slope(β),maximum relative electron transport rate(rETRmax),and minimum saturating irradiance(Ek) of rapid light curves in leaves grown in low light were lower when the plant was transferred from low light intensity of 250 μmol m-2 s-1 to high light intensity of 1 200 μmol m-2 s-1.Non photochemical quenching(NPQ) in leaves grown in low light was significantly lower than that in leaves grown in full sunlight,indicating that the ability of light use and thermal energy dissipation was limited in leaves grown in low light.The wheat leaves grown in low light were more suscepti-ble to photoinhibition due to low CO2 assimilation and photoprotective ability,such as xanthophylls cycle-dependent dissipation of excessive energy,despite the better energy absorbability in low light conditions.山东省农业良种工程重大课题(鲁农良种字[2006]6号)资

中国物理海洋学研究70年：发展历程、学术成就概览

本文概略评述新中国成立70年来物理海洋学各分支研究领域的发展历程和若干学术成就。中国物理海洋学研究起步于海浪、潮汐、近海环流与水团,以及以风暴潮为主的海洋气象灾害的研究。随着国力的增强,研究领域不断拓展,涌现了大量具有广泛影响力的研究成果,其中包括:提出了被国际广泛采用的"普遍风浪谱"和"涌浪谱",发展了第三代海浪数值模式;提出了"准调和分析方法"和"潮汐潮流永久预报"等潮汐潮流的分析和预报方法;发现并命名了"棉兰老潜流",揭示了东海黑潮的多核结构及其多尺度变异机理等,系统描述了太平洋西边界流系;提出了印度尼西亚贯穿流的南海分支(或称南海贯穿流);不断完善了中国近海陆架环流系统,在南海环流、黑潮及其分支、台湾暖流、闽浙沿岸流、黄海冷水团环流、黄海暖流、渤海环流,以及陆架波方面均取得了深刻的认识;从大气桥和海洋桥两个方面对太平洋–印度洋–大西洋洋际相互作用进行了系统的总结;发展了浅海水团的研究方法,基本摸清了中国近海水团的分布和消长特征与机制,在大洋和极地水团分布及运动研究方面也做出了重要贡献;阐明了南海中尺度涡的宏观特征和生成机制,揭示了中尺度涡的三维结构,定量评估了其全球物质与能量输运能力;基本摸清了中国近海海洋锋的空间分布和季节变化特征,提出了地形、正压不稳定和斜压不稳定等锋面动力学机制;构建了"南海内波潜标观测网",实现了对内波生成–演变–消亡全过程机理的系统认识;发展了湍流的剪切不稳定理论,提出了海流"边缘不稳定"的概念,开发了海洋湍流模式,提出了湍流混合参数化的新方法等;在海洋内部混合机制和能量来源方面取得了新的认识,并阐述了混合对海洋深层环流、营养物质输运等过程的影响;研发了全球浪–潮–流耦合模式,推出一系列海洋与气候模式;发展了可同化主要海洋观测数据的海洋数据同化系统和用于ENSO预报的耦合同化系统;建立了达到国际水准的非地转(水槽/水池)和地转(旋转平台)物理模型实验平台;发展了ENSO预报的误差分析方法,建立了海洋和气候系统年代际变化的理论体系,揭示了中深层海洋对全球气候变化的响应;初步建成了中国近海海洋观测网;持续开展南北极调查研究;建立了台风、风暴潮、巨浪和海啸的业务化预报系统,为中国气象减灾提供保障;突破了国外的海洋技术封锁,研发了万米水深的深水水听器和海洋光学特性系列测量仪器;建立了溢油、危险化学品漂移扩散等预测模型,为伴随海洋资源开发所带来的风险事故的应急处理和预警预报提供科学支撑。文中引用的大量学术成果文献(每位第一作者优选不超过3篇)显示,经过70年的发展,中国物理海洋学研究培养了一支实力雄厚的科研队伍,这是最宝贵的成果。这支队伍必将成为中国物理海洋学研究攀登新高峰的主力军

简化Navier-Stokes(SNS)方程在二维层流边界层分离点邻域的特性

文中证明了本文第二作者提出的简化Navier-Stokes(SNS)方程在层流边界层分离点数学上为正则.Davis和Голвачев-Куэьмин-Попов 提出的SNS方程在分离点为数学奇异.进而论证了文献[2,3]的SNS方程在层流边界层分离点的奇异阶.最后给出了Navier-Stokes方程、上述两种SNS方程以及边界层方程在分离点邻域特性的比较

Character of simplified Navier-Stokes (SNS) equations near separation point for two-dimensional laminar flow over a flat plate

It is proved that the simplified Navier-Stokes (SNS) equations presented by Gao Zhi[1], Davis and Golowachof-Kuzbmin-Popof (GKP)[3] are respectively regular and singular near a separation point for a two-dimensional laminar flow over a flat plate. The order of the algebraic singularity of Davis and GKP equation[2,3] near the separation point is indicated. A comparison among the classical boundary layer (CBL) equations, Davis and GKP equations, Gao Zhi equations and the complete Navier-Stokes (NS) equations near the separation point is given