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    金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用

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    主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构 ,用SEM和AFM对实验结果进行了表征 ,表征结果证明约束刻蚀剂层技术在金属三维加工方面的可行性和潜在优势。金属Cu由于具有优良的导热导电性能以及很好的延展性 ,在微系统 (也称微机电系统 )中应用广泛 ,因此对Cu的刻蚀加工对微系统技术的发展具有重要的意义。约束刻蚀剂层技术 (ConfinedEtch antLayerTechnique简称CELT)作为一种新型的微加工技术[1] ,能够加工复制出复杂三维结构 ,到目前为止 ,该技术已成功应用于Si、GaAs等材料微结构的复制加工[2 ,3]

    自然种群唐鱼的耳石、日龄与生长

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    为了解唐鱼自然种群的年龄结构和生长特征,根据耳石结构于2005年6月—2006年4月每2个月1次对栖息于从化市鹿子田附近自然水体唐鱼的日龄组成进行了调查。2005年6月采集到的唐鱼日龄集中在40~70d,8月和10月唐鱼种群既有较大个体,也有孵出不久的仔鱼,日龄分布在10~130d。2005年12月和2006年2月大部分唐鱼日龄在50d以上,2006年4月大部分唐鱼日龄则在50d以下。与人工养殖的唐鱼相比,自然种群唐鱼耳石生长轮的清晰度和对比度高,但生长轮宽度规则性较低。自然种群唐鱼的耳石长径与体长呈显

    金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工

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    运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工

    新疆阿热勒托别地区遥感化探综合找矿研究

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    以新疆阿热勒托别地区为例进行遥感化探综合分析研究。由于新疆阿热勒托别工作区图像上的植被和云严重影响了矿化蚀变信息的特征谱带的识别,使得应用Crosta法提取矿化蚀变信息效果不理想,因此采用掩膜技术剔除植被和云的影响。选择Crosta法对掩膜后图像进行羟基和铁氧化物蚀变信息提取,以μ+1.64σ-μ+2σ、μ+2σ-μ+3σ及>μ+3σ3级阈值分割遥感异常信息,并用不同色彩叠加到遥感与化探融合图像上,结合地质构造信息进行综合分析,圈定成矿有利地段,经野外检查,验证了多处地表岩石蚀变的存在并新发现铜矿点一处,证实了该方法的有效性

    金属的电化学微区刻蚀方法

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    本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 ,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优

    Influence of buffers on the electrodeposition of nickel from a Watts bath

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    缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究①高灿柱鹿玉理刘汝涛陈方(山东大学环境工程系济南250100)李树本(中国科学院兰州化学物理研究所兰州730000)电镀镍是量大面广的镀种,它作为镀铬、贵金属、仿金、枪黑、黑镍的底层,用途非常广泛[1].在镀镍过程中,...The electrochemical reactions occurring during the deposition of nickel from Watts bath have been examined using the voltammetric technique. The important reactions taking place at the anode and cathode have been identified. The influence of buffers HAc,H_3BO_3 and NH_4Cl on the rate of nickel deposition was marked in the lower concentration (0.01-0.05 mol/L) of buffers. The reason why buffers make the rate of nickel deposition increase were discussed.作者联系地址:山东大学环境工程系,中国科学院兰州化学物理研究所Author's Address: Dep.of Env.Eng.Shandong Univ.Jinan,Shandong 25000Li ShubenLanzhou Inst. of Chem. Phy. Chinese Acad. of Sci.Lanzhou,Gansu,73000

    Semantic Memory Impairment and Lateralization in Brain Injured Patients

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    目的运用本土化的语义记忆测验评估脑损伤患者的语义记忆水平,比较患者和对照组在语义记忆分数上的差异,同时研究语义记忆是否存在偏侧化特点。方法对25例脑损伤患者(左侧脑损伤16例,右侧脑损伤9例)和24例正常对照组进行图片版和词汇版相关匹配测验。结果左侧脑损伤患者组在图片版和词汇版相关匹配测验上的分数均低于正常对照组(P〈0.01)和右侧脑损伤患者组(P〈0.05)。患者图片版和词汇版相关测验的分数之间呈明显正相关(r=0.542,P〈0.01)。左侧脑损伤语义记忆障碍发生率明显高于右侧脑损伤(P〈0.01)。左侧基底节损伤语义记忆障碍发生率高于右侧基底节损伤(P〈0.05)。结论采用词汇版和图片版相关匹配测验可评估患者语义记忆水平。脑损伤患者中普遍存在语义记忆障碍,而且语义记忆存在左侧化优势

    The Electrochemical Etching of Metals

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    本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 ,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势All kinds of current methods for etching metals are reviewed.The electrochemical etching methods among them,including through_mask,scanning electrochemical microscopy,confined etchant layer technique,electrochemical scanning tunneling microscopy and super_short potential pulse,are discussed in detail.The compositive analyses were made for the methods in terms of the processing precision(whether processing in micrometer or nanometer scale),the processing efficiency(the complexity of the procedure,and whether fabricating in batch),the extent of application(mainly refer to the procedure,and whether fabricating in batch),the extent of results was shown that each method has itself advantage and imperfection. The confined etchant layer technique has superiority over other methods in the view of the total effect.作者联系地址:厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学化学系固体表面物理化学Author's Address: State Key Lab. for Phys. Chem. of Solid Surfaces and Chem. Dept., Xiamen Univ., Xiamen 361005, Chin

    《中国植被志》研编内容与规范

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    植被志是基于植被(或植物群落)调查资料,全面记叙植被的外貌、物种组成、结构和功能,以及地理分布和生境条件等特征,并对同类植被进行归纳和总结的志书。《中国植被志》是第一部对中国植被进行全面记述的志书,预计完成约48卷110册。在借鉴《中国植被》(1980)(简称"80方案")植被分类基本原则的基础上,《中国植被志》将对中国植被分类系统的高级分类单位(植被型组、植被型和植被亚型)进行归纳和总结,对中级和低级分类单位(群系组、群系、亚群系,群丛组、群丛)进行详细描述。植被高级分类单位的描述具有概括性质,是在中国植被分类系统中级和低级分类单位描述的基础上,对其在全球和中国境内的地理分布、自然环境、群落外貌、植被类型及多样性、优势种或共优势种、生物多样性保育价值以及资源现状等进行概述,并对"80方案"相关内容进行修订和拓展,将提供对中国植被基本特征客观、准确的记述。在植被中级和低级分类单位中,群系组描述的内容包括地理分布、自然环境、群落外貌、植被类型以及价值与保育等内容;群系描述的主要内容包括地理分布、自然环境、生态特征、物种组成、群落结构、群丛组和群丛的分类与描述、优势种的生物学特性、生物量与生产力、植被动态与演替以及价值与保育等方面。作为植被志研编的核心内容,群丛组和群丛的分类与描述主要基于植被调查资料,采用数量分类方法,根据群落结构和物种组成的差异划分出不同的植被类型,并对其基本特征进行定量描述和归纳。其中,群落的层片结构、特定植被分类单元的特征种或特征种组的筛选与甄别是植被类型划分的关键环节;而群落外貌,群落结构,物种组成,各类物种的生长习性、生境的偏适性等是群丛组和群丛描述与归纳的重点内容。该文提出了中国植被中级和低级分类单位的命名方案,其特点在于植被类型的科学名称中同时体现了植被分类单元特征种或优势种的名称及其所属的高级植被分类单位(植被型组或植被型)的名称,兼顾了植被名称的规范性与实用性。《中国植被志》的研编工作由文献整编、群落调查、数据分析与整理、文本撰写等环节组成。该文对植被样方的调查与收集,文献收集与整编,气候、土壤、地形等相关数据的来源及其整理方法,植被分类方法,植被命名,植被分类单元描述的内容,植被志章节编写大纲、体裁及撰写等多个规范进行了详细的阐述或示例
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