Métodos de extracción de parámetros de un circuito equivalente de pequeña señal para transistores LDMOS de potencia para aplicaciones de RF

En la actualidad, la gran cantidad de aplicaciones que surgen dentro del ámbito de la radiofrecuencia hacen que el desarrollo de dispositivos dentro de este campo sea constante. Estos dispositivos cada vez requieren mayor potencia para frecuencias de trabajo elevadas, lo que sugiere abrir vías de investigación sobre dispositivos de potencia que ofrezcan los resultados deseados para altas frecuencias de operación (GHz). Dentro de este ámbito, el objetivo principal de este proyecto es el de realizar un estudio sobre este tipo de dispositivos, siendo el transistor LDMOS el candidato elegido para tal efecto, debido a su buen comportamiento en frecuencia para tensiones elevadas de funcionamiento.Actualment, la gran quantitat d'aplicacions que apareixen dins l'àmbit de la radiofreqüència fan que el desenvolupament de dispositius en aquest camp sigui constant. Aquests dispositius cada vegada treballen a una potència més elevada amb altes freqüències d'operació, cosa que ens suggereix obrir branques d'investigació sobre dispositius de potència que siguin capaços d'oferir els resultats desitjats per freqüències de treball elevades (GHz). En aquest entorn, l'objectiu principal d'aquest projecte serà el de realitzar un estudi sobre aquest tipus de dispositius, essent el transistor LDMOS el candidat elegit, atès el seu bon comportament en freqüència a tensions elevades de funcionament.At the present time, the great amount of applications that arise within the scope of the radio frequency does that the development of devices within this field is constant. These devices every time require greater power for elevated frequencies of work, which suggests to open investigation routes on power devices which they offer the results wished for high frequencies of operation (GHz). Within this scope, the primary target of this project is the one to make a study on this type of devices, being transistor LDMOS the candidate chosen for such effect, due to its good behaviour in frequency for elevated tensions of operation

Introductory invited paper Status and trends of silicon RF technology

The current research and development activities in silicon radio-frequency (RF) technologies are ®rst reviewed, accompanied by an illustration of the most pronounced shortcomings of conventional silicon technology in the integrability of RF functions at high GHz frequencies. In the discussion on active RF devices mainly CMOS is investigated due to great interest in this mass-production technology. Issues related to the integration of spiral inductors on silicon are addressed, stressing in particular the di culty of RF substrate potential de®nition. Silicon micromachining techniques are highlighted as potential solutions to the integration of RF passives and to reduce substrate losses and cross-talk on silicon. It is explained that micromachining techniques are the best introduced to the silicon mainstrea