双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺

用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性

双源电子束蒸发提高光学薄膜致密性的工艺研究

采用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2得到的混合膜层,折射率不仅可调,而且比Si膜要高.用原子力显微镜(AFM)分别对单纯镀的Si膜与双源电子束蒸发镀的Si/SiO2混合膜层的表面形貌进行了观测,结果表明,前者表面疏松,有明显的孔洞结构;后者膜层表面细密.采用双源蒸发的成膜理论,对该方法提高膜层致密性的原因进行了探讨

浅水湖泊沉积物脱氢酶活性的测定及其生态学意义

以武汉市浅水湖泊(月湖)为实验对象确定了沉积物脱氢酶活性(DHA)测定的最佳条件:以经甲醛灭菌的沉积物为对照,以氯化三苯基四氮唑为电子受体(0.4%),沉积物用量为0.5g,pH值为7.5,培养时间为3h.据上述条件测定的DHA比未优化条件下的相应值高3-5倍,且表现出与沉积物有机质含量更为显著的正相关关系.武汉东湖3个子湖共23个采样点沉积物样品的测试结果进一步证实了上述方法的可行性,同时初步揭示了湖泊沉积物脱氢酶反映微生物活性与有机质状态的生态学意义

[美濃国武儀郡下有知村絵図]

作成者: 武儀郡下有知村 庄屋忠兵衛（印）・周助（印）、年寄喜兵衛（印）、百姓代甚兵衛（印）、同村上知分 庄屋俊蔵（印）、年寄栄助（印）、百姓代孫三郎（印）年代: 万延元申年現在地: 関市形態: 続紙備考: 44.5×64.4cm、彩色、年代は貼紙より、裏貼紙「万延元申年 武儀郡下有知村 古料・上知」、継目印あり、所蔵番号 にノ五/五/一