22 research outputs found

    МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОПОЛОГИЧЕСКИХ СТРУКТУР В СЛОЯХ ВАКУУМНОГО РЕЗИСТА

    Get PDF
    The modeling of formation of topological structures with 3D elements of various sizes and configurations in а vacuum resist exposed to pulsed laser radiation with different energy density was carried out. It was found experimentally that the simulation allows predicting the actual parameters of lithography laser systems for high-quality formation of 3D topology elements in layers of vacuum resist when creating masks. Изучены методом моделирования процессы формирования топологичеких структур с 3D-элементами различных размеров и конфигурации в слоях вакуумного резиста импульсным лазерным излучением с разной плотностью энергии. Экспериментально установлено, что моделирование позволяет прогнозировать реальные параметры работы установок лазерной вакуумной микролитографии для качественного формирования 3D-элементов топологии в слоях вакуумного резиста при создании масок.

    >

    No full text

    The electrocurrent microrelay modelling

    No full text
    The design and method of electrocurrent microrelay theoretical modelling is offered. It is established, that base function in the normalized kind graphically represents a symmetric parabola. Microrelay capability evaluation have been carried out for different current flow directions through the meander-line system of planar structure

    Laser treatment of electrochromic films in WO_3 in the inherent absorption band

    No full text
    Translated from Russian (Fiz. Khim. Obrab. Mater. 1988 v. 22(1) p. 39-43)Available from British Library Document Supply Centre- DSC:9023.19(VR-Trans--4030)T / BLDSC - British Library Document Supply CentreSIGLEGBUnited Kingdo

    Dynamics of laser-induced melting and crystallization in zinc tellurid

    No full text
    Выполнено численное моделирование воздействия наносекундного лазерного излучения KrF эксимерного лазера (λ=248 нм, τ=20 нс) на фазовые переходы в теллуриде цинка с учетом испарения компонент с поверхности и их диффузии в расплаве. Показано, что в результате этих процессов происходит обогащение приповерхностной области теллуром
    corecore