Кинетика дисперсии нанопленок ниобия и гафния, нанесенных на оксидные материалы, при вакуумном отжиге

The authors present the results of an investigation into the dispersion kinetics of niobium and hafnium nanofilms with a thickness of 100 nm, deposited on the surface of specimens of aluminium oxide ceramics, sapphire and ceramics based on ZrO2 as a result of vacuum annealing at a temperature of 1300–1600 C with different holding times in the range of 2–20 min.Представлені результати дослідження кінетики дисперсії наноплівок ніобію і гафнію товщиною 100 нм, нанесених на поверхню оксидалюмінієвої кераміки, сапфіру та кераміки на основі ZrO2, в результаті відпалу у вакуумі при температурах в діапазоні 1300-1600 С протягом 2-20 хв.Представлены результаты исследования кинетики дисперсии нанопленок ниобия и гафния толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность оксидалюминиевой керамики, сапфира и керамики на основе ZrO2, в результате отжига в вакууме при температурах в диапазоне 1300-1600 С в течение 2-20 мин