5 research outputs found

    ECRプラズマ ニ ヨル a-Si : Hマク ノ コウソクセイマクヨウ ハンノウソウチ ト セイセイマク ノ セキガイキュウシュウ スペクトラム ノ カンイテイリョウ ブンセキホウ

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    A novel microwave plasma reactor for high rate deposition of a-Si : H films is described with a special attention paid on decreasing plasma maintenance power. The reactor is a coaxial-line type composed of stainless inner conductor and mesh outer conductor covering a quartz tube. Secondary electron emission and ECR effects decrease drastically the plasma maintenance power. Furthermore simple quantitative analysis of infrared absorption spectra of the a-Si : H films is presented also. This is basically the deconvolution of the spectra to two Gaussian functions, using least sqare method, but it contains analytic solutions, in part, to decrease CPU time

    初産婦の不安及び気分の変化とYG性格類型との関連

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    出版社版性格類型による初産婦の不安・気分の変化の相違について,YG性格検査を用いて分類し,検討した.A類(3名),B類(5名),C類(3名),D類(10名)に分類された.不安はATAI,気分はPOMSを用いて調査した結果,次の点が明らかになった.1)不安や気分の変化はYG性格検査による性格類型によって違いがあった.2)特性不安は,B類が最も高く,次にA,C,D類の順であり,各類型で産褥期に比べ妊娠期に高い傾向を示した.3)性格類型のうち,B類は不安やネガティブな気分を訴えやすい.4)B類は,未来即ち予期不安よりも現在遭遇している事象に不安を感じやすい傾向にあ
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