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RevĂȘtements multicouches TiN/A1N, Ă©laborĂ©s par pulvĂ©risation cathodique rĂ©active (influence de la pĂ©riodicitĂ© et du bombardement ionique)
Les revĂȘtements multicouches Tin/a1n, obtenus par pulvĂ©risation cathodique rĂ©active, possĂ©dant diverses pĂ©riodicitĂ©s et subissant ou non un bombardement ionique, appliquĂ© soit aprĂšs, soit pendant ou soit pendant et aprĂšs la phase de dĂ©pĂŽt. La complexitĂ© de ces systĂšmes multicouches nous a amenĂ© Ă simplifier ces systĂšmes en Ă©tudiant sĂ©parĂ©ment de simples couches minces de nitrure de titane (TiN) et de nitrure d'aluminium (A1N), puis des systĂšmes bicouches de type n (Tin + A1N) avec n compris entre 1 et 5. Les caractĂ©ristiques structurales, morphologiques et les propriĂ©tĂ©s mĂ©caniques des couches minces TiN et A1N sont fortement influencĂ©es par le type de bombardement ionique appliquĂ© Ă la couche, par la tension bias, mais Ă©galement par l'Ă©paisseur du film et le mode de polarisation dc ou rf. GrĂące Ă l'empilement de couches TiN et A1N, les caractĂ©ristiques mĂ©caniques sont nettement amĂ©liorĂ©es. La structure modulĂ©e des films avec une transition peu rugueuse Ă l'interface est attendue pour prĂ©venir la propagation des fissures dans le film. Un nombre important d'interfaces semble crucial pour augmenter les propriĂ©tĂ©s mĂ©caniques des revĂȘtements multicouches. Tous les revĂȘtements multicouches, que nous avons synthĂ©tisĂ©s, prĂ©sentent une structure pĂ©riodique avec des interfaces plus ou moins bien dĂ©finies, selon qu'un bombardement ionique est appliquĂ© ou non. La pĂ©riode et le bombardement ionique ont une grande influence sur la composition des revĂȘtements multicouches et sur les propriĂ©tĂ©s mĂ©caniques. En effet, plus la pĂ©riode des revĂȘtementrs multicouches est faible, plus la duretĂ©, l'Ă©lasticitĂ© et la rĂ©sistance Ă l'usuire sont Ă©lĂ©vĂ©es. Ceci reste valable pour des faibles pĂ©riodes jusqu'Ă une valeur critique, oĂč les caractĂ©ristiques du revĂȘtement multicouche changent. Quant au bombardement ionique, il permet d'obtenir des revĂȘtements multicouches trĂšs durs, avec une grande Ă©lasticitĂ© et une bonne rĂ©sistance Ă l'usure, surtout lorsqu'il est appliquĂ© pendant la phase de dĂ©pĂŽt.This works concerns the study of TiN/A1N multilayered coatings, obtained by reactive cathodic sputtering. Different multilayers with various periodicities are synthesize with or without ion bombardement applied during or after or during and after deposition time. A good knowledge of multilayered systems is necessary to study the TiN/A1N multilayered coatings. For this reason, we have simplified these systems by studying separately single thin layers of titanium nitride and aluminium nitride, and then bilayers systems according to the type n (TiN + A1N) with n included between 1 and 5. Structural, morphological characteristics and mechanical properties of TiN and A1N thin layers are strongly influenced by the type of ion bombardement applied on layer, by the bias voltage, but also by layer's thickness and dc or rf polarisation. Through the superposition of TiN and A1N layers, mechanical characteristics are clearly improved. The layered structure of coating with a sharp interface is expected for prevent the propagation of cracks. An important numbers of interfaces become crucial to increase machanical properties of multilayered coatings. All multilayered coatings, that we have synthesized, present a periodic structure with more or less sharp interfaces, according as an ion bombardement is applied or not. Periodicity and ion bombardement have an important influence on coatings composition and on mechanical properties. Indeed, more the period of multilayered coatings is weak, more the hardness, elasticity and wear resistance are high. It is representative for weak periods up to a critical value, where multilayered coating's characteristics are modified. Some very hard multilayered coatings with high elasticity and good wear resistance are obtained when an ion bombardement is applied during deposition time.BELFORT-BU L. FEBVRE (900102102) / SudocSudocFranceF