Nano-polishing substrates for optics and microelectronics

В результаті дослідження полірування монокристалічних матеріалів показано, що полірування плоских поверхонь оптоелектронних елементів з монокристалів карбіду кремнію доцільно здійснювати з використанням полірувальної суспензії порошків на основі МАХ-фази Ti3AlC2 та колоїдних систем наночастинок, а монокристалів сапфіру – за допомогою суспензії з алмазних мікропорошків, порошків кубічного нітриду бору та MAX-фази Ti3AlC2. Нанополірування поверхонь елементів монокристалів сапфіру слід здійснювати при використанні колоїдної системи наночастинок або традиційних складів на основі колоїдного двооксиду кремнію. Показано також, що продуктивність полірування монокристалів карбіду кремнію та сапфіру обернено пропорційна енергії переносу, максимальне значення якої відповідає мінімальній шорсткості.As a result of research of polishing single crystal materials it was shown that the polishing flat surfaces of optoelectronic elements of single crystal silicon carbide is advantageously carried out by using a polishing slurry of the powders based on MAXphase Ti3AlC2 and colloidal nanoparticulate systems, and single crystal sapphire - using suspensions of diamond micron powders of the cubic boron nitride powders and MAX-phase Ti3AlC2. Nano-polishing surfaces of elements of single crystal sapphire should be performed using colloidal nanoparticulate systems or traditional formulations based on colloidal silica. It is also shown that the polishing efficiency of single crystal silicon carbide and sapphire is inversely proportional to the transfer energy, the maximum value of which correspond to a minimum roughness.В результате исследования полирования монокристаллических материалов показано, что полирование плоских поверхностей оптоэлектронных элементов из монокристаллов карбида кремния целесообразно осуществлять с использованием полировочной суспензии порошков на основе МАХ-фазы Ti3AlC2 и коллоидных систем наночастиц, а монокристаллов сапфира - с помощью суспензии из алмазных микропорошков, порошков кубического нитрида бора и MAXфазы Ti3AlC2. Нанополирование поверхностей элементов монокристаллов сапфира следует осуществлять при использовании коллоидной системы наночастиц или традиционных составов на основе коллоидного диоксида кремния. Показано также, что производительность полировки монокристаллов карбида кремния и сапфира обратно пропорциональна энергии переноса, максимальное значение которой соответствует минимальной шероховатости