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    Tratamentos para acelerar a germinação e reduzir a deterioração das sementes de Ormosia nitida Vog Treatments to accelerate germination and reduce deterioration of Ormosia nitida seeds

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    O trabalho foi conduzido no Laboratório de Sementes do Centro de Ciências Agrárias da Universidade Federal do Espírito Santo, objetivando avaliar tratamentos para acelerar a germinação e reduzir a deterioração de sementes de Ormosia nitida. Foram conduzidos dois experimentos em delineamento inteiramente casualizado, com quatro repetições. No primeiro estudo, feito em papel substrato, os tratamentos foram sementes intactas, escarificação mecânica e escarificação química com H2SO4 durante 10 min. No segundo estudo feito em placas de Petri, os tratamentos utilizados foram sementes intactas (controle); escarificação mecânica; escarificação mecânica + pré-embebição por 24 horas; H2O2 no substrato; e escarificação química com H2SO4 durante 1, 5, 10,15, 20, 25 e 30 min. Foram avaliados o vigor, através do índice de velocidade de germinação, e a germinação, através da porcentagem de plântulas normais. A todos os tratamentos pré-germinativos foram apresentados respostas positivas na porcentagem e velocidade de germinação em relação ao controle. A escarificação mecânica e o H2O2 no substrato proporcionaram aumento significativo na velocidade e porcentagem de germinação das sementes, com redução da deterioração.<br>The experiment was carried out at the Seed Laboratory of the Agronomy Center of the Federal University of Espirito Santo, in order to attain acceleration of germination and reduce seed deterioration in Ormosia nitida Vog.. A completely randomized experimental design with four replications was used. In experiment I, with paper substratum, the treatments were intact seeds (control); mechanical scarification and sulfuric acid soaking for 10 minutes. In experiment II, in Petri dishes, the treatments were intacts seeds (control); mechanical scarification; mechanical scarification + soaking in water at 35ºC for 24 hours; imbibition of germination substratum with H2O2; sulphuric acid soaking for 1; 5; 10; 15; 20; 25 and 30 minutes. The results showed higher synchronization and speed germination in treatments with mechanical scarification, sulphuric acid for 10 minutes and H2O2 in the substratum
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