ELECTROCHEMICALLY ADSORBED Pb ON Ag (111) STUDIED WITH GRAZING-INCIDENCE X-RAY SCATTERING

Nous présentons l'étude par diffraction de rayons X en incidence rasante de l'évolution de couches de plomb sur argent (111) déposées électrochimiquement en fonction du potentiel électrochimique. Les mesures ont été faites avec des couches adsorbées en contact avec la solution dans une cellule échantillon spécialement préparée. Les structures de plomb observées sont fonction du potentiel appliqué et varient d'une couche incommensurable pour un dépôt effectué à sous-potentiel, jusqu'à un ensemble polycristallin orienté au hasard pour des potentiels de dépôt plus faibles. Ces premières expériences montrent la puissance des mesures de diffractions de rayons X in situ pour déterminer les structures de surface résultant d'un dépôt électrochimique.Grazing-incidence x-ray scattering studies of the evolution of electrochemically deposited layers of lead on silver (111) as a function of applied electrochemical potential are presented. Measurements were made with the adsorbed layers in contact with solution in a specially designed sample cell. The observed lead structures are a function of the applied potential and range from an incommensurate monolayer, resulting from underpotential deposition, to randomly oriented polycrystalline bulk lead, resulting from lower deposition potentials. These early experiments demonstrate the ability of in situ x-ray diffraction measurements to determine structures associated with electrochemical deposition