Continuous gas temperature measurement of cold plasma jets containing microdroplets, using a focussed spot IR sensor

Controlling gas temperature via continuous monitoring is essential in various plasma applications especially for biomedical treatments and nanomaterial synthesis but traditional techniques have limitations due to low accuracy, high cost or experimental complexity. We demonstrate continuous high-accuracy gas temperature measurements of low-temperature atmospheric pressure plasma jets using a small focal spot infrared sensor directed at the outer quartz wall of the plasma. The impact of heat transfer across the capillary tube was determined using calibration measurements of the inner wall temperature. Measured gas temperatures varied from 25 °C–50 °C, increasing with absorbed power and decreased gas flow. The introduction into the plasma of a stream (∼105 s−1) of microdroplets, in the size range 12 μm–15 μm, led to a reduction in gas temperature of up to 10 °C, for the same absorbed power. This is an important parameter in determining droplet evaporation and its impact on plasma chemistry

Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV

Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique (DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de décharge et de post-décharge

Étude du rayonnement U.V. du radical SiO appliqué à des mesures d'absorption auto-accordée

Cette étude s'inscrit dans le cadre de la mise au point d'une technique de mesure de densité absolue de la molécule SiO, cette dernière intervenant dans la physico-chimie des traitements de film polymère par plasma. Le diagnostic développé est basé sur l'absorption d'un rayonnement U.V. produit par la même molécule que celle à sonder. Nous présentons ici les résultats concernant la mise au point de la source U.V. permettant de produire la fluorescence de SiO. Plusieurs bandes vibrationnelles ainsi que la structure rotationnelle de la transition A-X ont pu être étudiées dans différents gaz porteurs

Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV

Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique (DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de décharge et de post-décharge

[OH(X)] measurements by resonant absorption spectroscopy in a high pulse voltage triggered Dielectric Barrier Discharge

Good understanding of the different phases of involved plasma-chemistry is essential for the development of non thermal plasma technologies for pollution control. These techniques are often based on the production of radicals from dissociation parent gases that, in turn, decompose the toxic compounds. Our research concerns OH radical production in a high pulse voltage triggered dielectric barrier discharge (DBD). OH (A2+ - X2 (0,0)) emission in argon-water vapor gas mixtures has been studied. Particular attention has been paid to the influence of water vapor partial pressure on the lifetime and intensity of emitted fluorescence in order to develop a pulse DBD UV light source for spectroscopic investigation. This UV probe allowed to perform OH(X2) time resolved average absolute density measurements in other DBD discharges based on resonant absorption spectroscopy. This diagnostic has been validated in argon and air water vapor mixtures. Temporal behavior of OH(X2) density radicals after a pulse discharge has been studied in argon and air with and without 500 ppm of TCE. This simple and inexpensive tool, compare to more sophisticated laser absorption or LIF measurements, for plasma investigation is very useful to characterize the OH radical potential for pollutant oxidation