48 research outputs found

    On the opportunity of Ξ²-radiation detection by SI detectors in the Chernobyl failure area

    No full text
    It is demonstrated that a double silicon detector operating in the coincidence mode [1,2] can be used in radiationmonitoring instruments for registering Ξ²-radiation at high Ξ³-background conditions, e.g., in Chernobyl.Показана Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ примСнСния сдвоСнного ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²ΠΎΠ³ΠΎ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π° Π² Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ совпадСний Π² дозимСтричСских срСдствах ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΈΠΊΠΈ с Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ рСгистрации Ξ²-излучСния Π² условиях высокого Ξ³-Ρ„ΠΎΠ½Π°.Показана ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ–ΡΡ‚ΡŒ застосування Π·Π΄Π²ΠΎΡ”Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Ρ–Ρ”Π²ΠΎΠ³ΠΎ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π° Π² Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΡ– співпадання Π² Π΄ΠΎΠ·ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΈΡ… засобах Π²ΠΈΠΌΡ–Ρ€ΡŽΠ²Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡ— Ρ‚Π΅Ρ…Π½Ρ–ΠΊΠΈ Π· ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΡŽ рСєстрації Ξ²-Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ Π² ΡƒΠΌΠΎΠ²Π°Ρ… високого Ξ³-Ρ„ΠΎΠ½Ρƒ

    Studying electro-physical characteristics of detecting elements on the ohmic side of silicon microstrip detector

    No full text
    The results of studying the ohmic side of the double-sided microstrip detectors (DSMD) possessing the diode separating p⁺ stop structure of different type and size are presented. The effect of the p⁺ stop structure on the DSMD interstrip resistance and interstrip capacitance is considered.ΠŸΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΎ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚ΠΈ дослідТСння ΠΎΠΌΡ–Ρ‡Π½ΠΎΡ— сторони двосторонніх мікрострипових Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Ρ–Π² (Π”Π‘ΠœΠ”), які ΠΌΠ°ΡŽΡ‚ΡŒ Π΄Ρ–ΠΎΠ΄Π½Ρƒ Ρ€ΠΎΠ·Π΄Ρ–Π»ΡΡŽΡ‡Ρƒ p⁺ стоп-структуру Ρ€Ρ–Π·Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΡƒ Ρ‚Π° Ρ€ΠΎΠ·ΠΌΡ–Ρ€Ρƒ. Розглянуто Π²ΠΏΠ»ΠΈΠ² p⁺ стоп-структури Π½Π° міТстрипову Ρ”ΠΌΠ½Ρ–ΡΡ‚ΡŒ Ρ‚Π° міТстриповий ΠΎΠΏΡ–Ρ€ Π”Π‘ΠœΠ”.ΠŸΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»Π΅Π½Ρ‹ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ исслСдования омичСской стороны двухсторонних микростриповых Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² (Π”Π‘ΠœΠ”), ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π΄ΠΈΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ p⁺ стоп-структуры Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² ΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°. РассмотрСно влияниС p⁺ стоп-структуры Π½Π° ΠΌΠ΅ΠΆΡΡ‚Ρ€ΠΈΠΏΠΎΠ²ΡƒΡŽ Π΅ΠΌΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈ мСТстриповоС сопротивлСниС Π”Π‘ΠœΠ”

    Design of a detecting module based on a single-sided silicon photosensor array with scintilators

    Get PDF
    A design of a detecting module based on a silicon front side illuminated single-sided photosensor array with scintillators has been developed. The array is made on wafers with a diameter of 100 mm from high-resistance N-type silicon with a specific resistance of 5…10 kOhmβ‹…cm, lifetime of minority charge carriers Ο„ >1000 ΞΌs and orientation . The elimination of shielding of the photosensitive surface of the array by electrical connection elements is ensured by the use of aluminum-polyimide microcables provided that they are placed on the front side of the array in the gaps between the scintillators. The installation of front-end electronics on the board on the reverse side of the array within the array area allows to create a detecting module of compact size with minimal loss of effective recording area. A module with 64 dete ction cells located in a pitch of 4.1 mm does not exceed an area of 35Γ—35 mm.Π ΠΎΠ·Ρ€ΠΎΠ±Π»Π΅Π½ΠΎ ΠΊΠΎΠ½ΡΡ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ†Ρ–ΡŽ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΡƒΡŽΡ‡ΠΎΠ³ΠΎ модуля Π½Π° основі ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Ρ–Ρ”Π²ΠΎΡ— Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΎΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½ΠΎΡ— ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ½Π½ΡŒΠΎΡ— фотосСнсорної ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ– Π· сцинтиляторами. ΠœΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ Π²ΠΈΠ³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»ΡΡ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π½Π° пластинах Π΄Ρ–Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ 100 ΠΌΠΌ Π· високоомного ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Ρ–ΡŽ N-Ρ‚ΠΈΠΏΡƒ Π· ΠΏΠΈΡ‚ΠΎΠΌΠΈΠΌ ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΎΠΌ 5…10 ΠΊΠžΠΌβ‹…ΡΠΌ, часом Тиття нСосновних носіїв заряду Ο„ >1000 мкс Ρ– ΠΎΡ€Ρ–Ρ”Π½Ρ‚Π°Ρ†Ρ–Ρ”ΡŽ . Π’Ρ–Π΄ΡΡƒΡ‚Π½Ρ–ΡΡ‚ΡŒ Скранування Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΡ‡ΡƒΡ‚Π»ΠΈΠ²ΠΎΡ— ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½Ρ– ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ– Π΅Π»Π΅ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°ΠΌΠΈ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΡ— ΠΊΠΎΠΌΡƒΡ‚Π°Ρ†Ρ–Ρ— Π·Π°Π±Π΅Π·ΠΏΠ΅Ρ‡ΡƒΡ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π·Π° Ρ€Π°Ρ…ΡƒΠ½ΠΎΠΊ використання Π°Π»ΡŽΠΌΡ–Π½Ρ–ΠΉ-ΠΏΠΎΠ»Ρ–Ρ–ΠΌΡ–Π΄Π½ΠΈΡ… ΠΌΡ–ΠΊΡ€ΠΎΠΊΠ°Π±Π΅Π»Ρ–Π² Π·Π° ΡƒΠΌΠΎΠ²ΠΈ розміщСння Ρ—Ρ… Π½Π° Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ–ΠΉ стороні ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ– Π² Π·Π°Π·ΠΎΡ€Π°Ρ… ΠΌΡ–ΠΆ сцинтиляторами. Установка ΠΏΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π΄Π½Ρ–Ρ… каскадів посилСння сигналу Π½Π° ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρ– Ρ–Π· Π·Π²ΠΎΡ€ΠΎΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π±ΠΎΠΊΡƒ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ– Π² ΠΌΠ΅ΠΆΠ°Ρ… ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Ρ– ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ– дозволяє створити Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΡƒΡŽΡ‡ΠΈΠΉ ΠΌΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΡŒ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€ΠΎΠ·ΠΌΡ–Ρ€Ρƒ Π· ΠΌΡ–Π½Ρ–ΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΈΠΌΠΈ Π²Ρ‚Ρ€Π°Ρ‚Π°ΠΌΠΈ Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎΡ— ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Ρ– рСєстрації. ΠœΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΡŒ Π· 64-ΠΌΠ° Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΡƒΡŽΡ‡ΠΈΠΌΠΈ ΠΊΠΎΠΌΡ–Ρ€ΠΊΠ°ΠΌΠΈ, Ρ€ΠΎΠ·Ρ‚Π°ΡˆΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΌΠΈ Π· ΠΊΡ€ΠΎΠΊΠΎΠΌ 4,1 ΠΌΠΌ, Π½Π΅ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π²ΠΈΡ‰ΡƒΡ” ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Ρƒ 35Γ—35 ΠΌΠΌ.Π Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Π½Π° конструкция Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ модуля Π½Π° основС ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²ΠΎΠΉ Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΎΠ±Π»ΡƒΡ‡Π°Π΅ΠΌΠΎΠΉ одностороннСй фотосСнсорной ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ со сцинтилляторами. ΠœΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π° изготавливаСтся Π½Π° пластинах Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ 100 ΠΌΠΌ ΠΈΠ· высокоомного крСмния N-Ρ‚ΠΈΠΏΠ° с ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ сопротивлСниСм 5…10 ΠΊΠžΠΌβ‹…ΡΠΌ, Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π΅ΠΌ ΠΆΠΈΠ·Π½ΠΈ нСосновных носитСлСй заряда Ο„ >1000мкс ΠΈ ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†ΠΈΠ΅ΠΉ . Π˜ΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ экранирования Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΡ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ повСрхности ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ элСмСнтами элСктричСской ΠΊΠΎΠΌΠΌΡƒΡ‚Π°Ρ†ΠΈΠΈ обСспСчиваСтся Π·Π° счСт использования алюминий-ΠΏΠΎΠ»ΠΈΠΈΠΌΠΈΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΊΠ°Π±Π΅Π»Π΅ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ условии размСщСния ΠΈΡ… Π½Π° Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ сторонС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ Π² Π·Π°Π·ΠΎΡ€Π°Ρ… ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ сцинтилляторами. Установка ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… каскадов усилСния сигнала Π½Π° ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π΅ с ΠΎΠ±Ρ€Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ стороны ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ позволяСт ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΉ ΠΌΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΡŒ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π° с ΠΌΠΈΠ½ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ потСрями эффСктивной ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ рСгистрации. ΠœΠΎΠ΄ΡƒΠ»ΡŒ с 64-мя Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌΠΈ ячСйками, располоТСнными с шагом 4,1 ΠΌΠΌ, Π½Π΅ ΠΏΡ€Π΅Π²Ρ‹ΡˆΠ°Π΅Ρ‚ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΡŒ 35Γ—35 ΠΌΠΌ

    Modeling the response of a planar silicon detector when measuring the exposure dose rate in the energy range from 5 keV to 10MeV

    Get PDF
    The main advantages of using silicon semiconductor detectors in dosimetry in comparison with traditional detectors are considered. The shortcomings are analyzed and possible methods for their elimination are proposed. One of the proposed methods makes it possible to increase the efficiency of detecting gamma quantum in the energy range 0.1…10MeV. The requirements are formulated to optimize the design of detectors operating in a wide range of dose rates and gamma radiation energies by computer simulation. Mathematical calculations and computer simulations determine the dosimeter design, materials and thicknesses γ–converter. The mechanisms of modeling the absorbed dose in air and ambient dose in silicon detectors with a thickness of 300 ΞΌm, sizes (5Γ—5)mmΒ² and (1.8Γ—1.8)mmΒ², in the range of incident γ–ray energies from 5keV to 10 MeV are presented.Розглянуто основні ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π²Π°Π³ΠΈ застосування ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Ρ–Ρ”Π²ΠΈΡ… Π½Π°ΠΏΡ–Π²ΠΏΡ€ΠΎΠ²Ρ–Π΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²ΠΈΡ… Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Ρ–Π² Ρƒ Π·Π°Π΄Π°Ρ‡Π°Ρ… Π΄ΠΎΠ·ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ–Ρ— Π² порівнянні Π· Ρ‚Ρ€Π°Π΄ΠΈΡ†Ρ–ΠΉΠ½ΠΈΠΌΠΈ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ. ΠŸΡ€ΠΎΠ°Π½Π°Π»Ρ–Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΎ Π½Π΅Π΄ΠΎΠ»Ρ–ΠΊΠΈ Ρ‚Π° Π·Π°ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΎΠ½ΠΎΠ²Π°Π½Ρ– ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ– ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈ Ρ—Ρ… усунСння. Один Ρ–Π· Π·Π°ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΎΠ½ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ–Π² дозволяє Π·Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆΠΈΡ‚ΠΈ Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ–ΡΡ‚ΡŒ рСєстрації Π³Π°ΠΌΠΌΠ°-ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚Ρ–Π² Ρƒ Π΄Ρ–Π°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Ρ– Π΅Π½Π΅Ρ€Π³Ρ–ΠΉ 0,1…10 ΠœΡΠ’. Π‘Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒΠ»ΡŒΠΎΠ²Π°Π½ΠΎ Π²ΠΈΠΌΠΎΠ³ΠΈ, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…Ρ–Π΄Π½Ρ– для ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΡ–Π·Π°Ρ†Ρ–Ρ— конструкції Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Ρ–Π², які ΠΏΡ€Π°Ρ†ΡŽΡŽΡ‚ΡŒ Ρƒ ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠΌΡƒ Π΄Ρ–Π°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Ρ– потуТностСй Π΄ΠΎΠ· Ρ– Π΅Π½Π΅Ρ€Π³Ρ–Ρ— Π³Π°ΠΌΠΌΠ°β€“Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ, ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ ΠΊΠΎΠΌΠΏβ€™ΡŽΡ‚Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ модСлювання. ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ– ΠΌΠ°Ρ‚Π΅ΠΌΠ°Ρ‚ΠΈΡ‡Π½Ρ– Ρ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ…ΡƒΠ½ΠΊΠΈ Ρ– ΠΊΠΎΠΌΠΏβ€™ΡŽΡ‚Π΅Ρ€Π½Π΅ модСлювання Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π°ΡŽΡ‚ΡŒ ΠΊΠΎΠ½ΡΡ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ†Ρ–ΡŽ Π΄ΠΎΠ·ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π°, ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€Ρ–Π°Π»ΠΈ Ρ– Ρ‚ΠΎΠ²Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ γ–конвСртСра. ΠΠ°Π²ΠΎΠ΄ΡΡ‚ΡŒΡΡ ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½Ρ–Π·ΠΌΠΈ модСлювання ΠΏΠΎΠ³Π»ΠΈΠ½Π΅Π½ΠΎΡ— Π΄ΠΎΠ·ΠΈ Π² ΠΏΠΎΠ²Ρ–Ρ‚Ρ€Ρ– Ρ– Π°ΠΌΠ±Ρ–Ρ”Π½Ρ‚Π½ΠΎΡ— Π΄ΠΎΠ·ΠΈ Π² ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½Ρ–Ρ”Π²ΠΈΡ… Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°Ρ… Ρ‚ΠΎΠ²Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΡŽ Π²Ρ–Π΄ 300 ΠΌΠΊΠΌ, Ρ€ΠΎΠ·ΠΌΡ–Ρ€Π°ΠΌΠΈ (5Γ—5)ΠΌΠΌΒ² ΠΈ (1,8Γ—1,8)ΠΌΠΌΒ², Ρƒ Π΄Ρ–Π°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Ρ– Π΅Π½Π΅Ρ€Π³Ρ–ΠΉ ΠΏΠ°Π΄Π°ΡŽΡ‡ΠΎΠ³ΠΎ Ξ³β€“Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ Π²Ρ–Π΄ 5 ΠΊΠ΅Π’ Π΄ΠΎ 10 ΠœΠ΅Π’.РассмотрСны основныС прСимущСства примСнСния ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²Ρ‹Ρ… Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² Π² Π·Π°Π΄Π°Ρ‡Π°Ρ… Π΄ΠΎΠ·ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΈΠΈ ΠΏΠΎ ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΡŽ с Ρ‚Ρ€Π°Π΄ΠΈΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ. ΠŸΡ€ΠΎΠ°Π½Π°Π»ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ нСдостатки ΠΈ ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½Ρ‹ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΈΡ… устранСния. Один ΠΈΠ· ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² позволяСт ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΡΡ„Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ рСгистрации Π³Π°ΠΌΠΌΠ°-ΠΊΠ²Π°Π½Ρ‚ΠΎΠ² Π² Π΄ΠΈΠ°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Π΅ энСргий 0,1…10 ΠœΡΠ’. Π‘Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ трСбования, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΡ‹Π΅ для ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ конструкции Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ², Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π² ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠΌ Π΄ΠΈΠ°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Π΅ мощностСй Π΄ΠΎΠ· ΠΈ энСргии гамма–излучСния, ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ ΠΊΠΎΠΌΠΏΡŒΡŽΡ‚Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ модСлирования. ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ матСматичСскиС расчСты ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠΏΡŒΡŽΡ‚Π΅Ρ€Π½ΠΎΠ΅ ΠΌΠΎΠ΄Π΅Π»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‚ ΠΊΠΎΠ½ΡΡ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ†ΠΈΡŽ Π΄ΠΎΠ·ΠΈΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π°, ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Ρ‹ ΠΈ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρƒ γ–конвСртСра. ΠŸΡ€ΠΈΠ²ΠΎΠ΄ΡΡ‚ΡΡ ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΠ·ΠΌΡ‹ модСлирования ΠΏΠΎΠ³Π»ΠΎΡ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎΠ·Ρ‹ Π² Π²ΠΎΠ·Π΄ΡƒΡ…Π΅ ΠΈ Π°ΠΌΠ±ΠΈΠ΅Π½Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎΠ·Ρ‹ Π² ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²Ρ‹Ρ… Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π°Ρ… Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΎΡ‚ 300 ΠΌΠΊΠΌ, Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈ (5Γ—5)ΠΌΠΌΒ² ΠΈ (1,8Γ—1,8)ΠΌΠΌΒ², Π² Π΄ΠΈΠ°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Π΅ энСргий ΠΏΠ°Π΄Π°ΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ γ–излучСния ΠΎΡ‚ 5 кэВ Π΄ΠΎ 10 ΠœΡΠ’

    Interference of quantities of interstrip capacitance and interstrip resistances of the two-coordinate microstrip detector

    No full text
    The dependence of interstrip capacitance of the double-sided microstrip detector on frequency of measuring is explored. Has been investigated at what frequency of measuring the observed value of interstrip capacitance is most in accord with quantity of interstrip resistance. By obtained results the conclusions about an opportunity of application of interstrip capacitance measuring for detection of defects of the microstrip detectors at stage of their characterisation are made.ДослідТСно Π·Π°Π»Π΅ΠΆΠ½Ρ–ΡΡ‚ΡŒ міТсмугової ємності Π΄Π²ΠΎΡΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ½Π½ΡŒΠΎΠ³ΠΎ мікросмугового Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π° Π²Ρ–Π΄ частоти Π²ΠΈΠΌΡ–Ρ€ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ. Π’ΠΈΠ²Ρ‡Π΅Π½ΠΎ, ΠΏΡ€ΠΈ якій частоті Π²ΠΈΠΌΡ–Ρ€ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚ΠΈ Π²ΠΈΠΌΡ–Ρ€ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ міТсмугової ємності Π½Π°ΠΉΠ±Ρ–Π»ΡŒΡˆ ΡΠΏΡ–Π²ΠΏΠ°Π΄Π°ΡŽΡ‚ΡŒ Π·Ρ– значСнням міТсмугового ΠΎΠΏΠΎΡ€Ρƒ. По ΠΎΡ‚Ρ€ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠΌ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π°ΠΌ Π·Ρ€ΠΎΠ±Π»Π΅Π½ΠΎ висновки ΠΏΡ€ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ–ΡΡ‚ΡŒ застосування Π²ΠΈΠΌΡ–Ρ€ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ міТсмугової ємності для знаходТСння Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Ρ–Π² мікросмугових Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Ρ–Π² Π½Π° Π΅Ρ‚Π°ΠΏΡ– Ρ—Ρ…Π½ΡŒΠΎΠ³ΠΎ тСстування.ИсслСдована Π·Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ мСТполосковой Смкости двухстороннСго микрополоскового Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π° ΠΎΡ‚ частоты измСрСния. Π˜Π·ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΎ, ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠ°ΠΊΠΎΠΉ частотС ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½ΠΈΠΉ мСТполосковой Смкости Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ ΡΠΎΠ³Π»Π°ΡΡƒΡŽΡ‚ΡΡ с Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ΠΎΠΉ мСТполоскового сопротивлСния. По ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π°ΠΌ сдСланы Π²Ρ‹Π²ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΎ возмоТности примСнСния измСрСния мСТполосковой Смкости для обнаруТСния Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² микрополосковых Π΄Π΅Ρ‚Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² Π½Π° этапС ΠΈΡ… тСстирования

    Radiation tolerance investigation of a Si detectors and microelectronics using NSC KIPT linacs

    No full text
    A possibility of full irradiation tests of semiconductor detectors and microelectronics using electron accelerators are considered in the present work. The techniques for irradiation and for detector tests were described. The data on the efficiency of electron and bremsstrahlung action on the Si bulk material are presented

    Intensive X-ray source optimization

    No full text
    Possibility of optimization of an intensive source of the electron radiation in crystals based on the Compton scattering of X-radiation is considered.Π ΠΎΠ·Π³Π»ΡΠ΄Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ–ΡΡ‚ΡŒ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΡ–Π·Π°Ρ†Ρ–Ρ— Π΄ΠΆΠ΅Ρ€Π΅Π» інтСнсивного Ρ€Π΅Π½Ρ‚Π³Π΅Π½Ρ–Π²ΡΡŒΠΊΠΎΠ³ΠΎ Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ прискорСних Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ–Π² Π· використанням ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ Π½Π° основі ΠΊΠΎΠΌΠΏΡ‚ΠΎΠ½Ρ–Π²ΡΡŒΠΊΠΎΠ³ΠΎ розсіяння.РассматриваСтся Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ источников интСнсивного рСнтгСновского излучСния ускорСнных элСктронов с использованиСм ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ Π½Π° основС комптоновского рассСяния

    Sterilization by plasma produced at REB outlet into atmosphere

    No full text
    It has been shown, that at REB (4 МeV, 0.5 А, 2 Β΅s, 3 Hz) outlet into atmosphere besides of sterilization straightly by REB electrons, more intense sterilization can be achieved by produced plasma. The sterilization process is determinated by influence of plasma particles, radicals, soft X-ray and UV radiation, and ozone.Показано, Ρ‰ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈ Π²ΠΈΠ²ΠΎΠ΄Ρ– Π Π•ΠŸ (4 ΠœΠ΅Π’, 0.5 А, 2 мкс, 3 Π“Ρ†,) Π² атмосфСру, ΠΊΡ€Ρ–ΠΌ стСрилізації Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ Π Π•ΠŸ, Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆ інтСнсивна стСрилізація Π΄ΠΎΡΡΠ³Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€Π΅Π½ΠΎΡŽ плазмою. БтСрилізація Π²ΠΈΠ·Π½Π°Ρ‡Π°Ρ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π΄Ρ–Ρ”ΡŽ ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠΎΠ²ΠΈΡ… часток, Ρ€Π°Π΄ΠΈΠΊΠ°Π»Ρ–Π², м’якого Ρ€Π΅Π½Ρ‚Π³Π΅Π½Ρ–Π²ΡΡŒΠΊΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚Π° ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ„Ρ–ΠΎΠ»Π΅Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΆ ΠΎΠ·ΠΎΠ½Ρƒ.Показано, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈ Π²Ρ‹Π²ΠΎΠ΄Π΅ РЭП (4 ΠœΡΠ’, 0.5 А, 2 мкс, 3 Π“Ρ†,) Π² атмосфСру, ΠΊΡ€ΠΎΠΌΠ΅ стСрилизации нСпосрСдствСнно элСктронами РЭП, Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ интСнсивная стСрилизация достигаСтся ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠΎΠΉ. БтСрилизация опрСдСляСтся воздСйствиСм ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠ΅Π½Π½Ρ‹Ρ… частиц, Ρ€Π°Π΄ΠΈΠΊΠ°Π»ΠΎΠ², мягкого рСнтгСновского ΠΈ ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΎΠ»Π΅Ρ‚ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈΠ·Π»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ, Π° Ρ‚Π°ΠΊ ΠΆΠ΅ ΠΎΠ·ΠΎΠ½Π°

    Orientation effects in ultrarelativistic electron transmission through a single crystal

    No full text
    The results of experimental investigations of the 1.2 GeV electron transmission dynamics in a thin single crystal of Si are discussed. The interpretation of the electron scattering orientation dependencies measured under different scattering angles is carried out. The existence of scattering direction, where one can observe the scattering intensity independence on the crystallographic plane orientation is shown. Besides the existence of crystallographic axis orientation, where one can observe the region of uniform angle distribution of scattering intensity, is shown

    Experimental facility IHEPNP for fundamental and applied researhes in energy range up to 100 MeV

    Get PDF
    The possibility of creating an experimental setup in building No.3 of the IHEPNP NNC KIPT (LUE-300 complex) on the basis of the existing LUE-60 electron accelerator and the existing experimental infrastructure is being discussed. It is planned to raise the energy of the electron beam to 100 MeV and create two beam lines: one is for reaserches with intense beams of electrons and photons, including linearly polarized ones, and the other – for investigations with the low intensive beams of electrons and positrons. Implementation of the project will open opportunities for a wide range of research programs in the field of interaction of the radiation with amorphous and crystalline matter, nuclear physics and astrophysics, as well as in the applied research.ΠžΠ±Π³ΠΎΠ²ΠΎΡ€ΡŽΡ”Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΌΠΎΠΆΠ»ΠΈΠ²Ρ–ΡΡ‚ΡŒ створСння Π΅ΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡ— установки Π² Π±ΡƒΠ΄Ρ–Π²Π»Ρ– β„–3 Π†Π€Π’Π•Π―Π€ ННЦ Π₯Π€Π’Π† (ΠΏΡ€ΠΈΡΠΊΠΎΡ€ΡŽΠ²Π°Π»ΡŒΠ½ΠΈΠΉ комплСкс Π›Π£Π•-300) Π½Π° основі Ρ‡ΠΈΠ½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΡΠΊΠΎΡ€ΡŽΠ²Π°Ρ‡Π° Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ–Π² Π›Π£Π•-60 Ρ– Ρ–ΡΠ½ΡƒΡŽΡ‡ΠΎΡ— Π΅ΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΡ— інфраструктури. ΠŸΠ»Π°Π½ΡƒΡ”Ρ‚ΡŒΡΡ Π·Π±Ρ–Π»ΡŒΡˆΠΈΡ‚ΠΈ Π΅Π½Π΅Ρ€Π³Ρ–ΡŽ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ° Π΄ΠΎ 100 ΠœΠ΅Π’ Ρ– створити Π΄Π²Ρ– ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠ²Ρ– Π»Ρ–Π½Ρ–Ρ—: ΠΎΠ΄Π½Ρƒ для Π΄ΠΎΡΠ»Ρ–Π΄ΠΆΠ΅Π½ΡŒ Π· інтСнсивними ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ°ΠΌΠΈ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ–Π² Ρ– Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½Ρ–Π², Ρƒ Ρ‚ΠΎΠΌΡƒ числі Π»Ρ–Π½Ρ–ΠΉΠ½ΠΎ поляризованих, Π° Ρ–Π½ΡˆΡƒ – для Π΄ΠΎΡΠ»Ρ–Π΄ΠΆΠ΅Π½ΡŒ Π· ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ°ΠΌΠΈ Π΅Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ–Π² Ρ– ΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ–Π² Π½ΠΈΠ·ΡŒΠΊΠΎΡ— інтСнсивності. РСалізація ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚Ρƒ Π²Ρ–Π΄ΠΊΡ€ΠΈΡ” моТливості для виконання Π΄ΠΎΡΠ»Ρ–Π΄Π½ΠΈΡ†ΡŒΠΊΠΈΡ… ΠΏΡ€ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌ Π² області Π²Π·Π°Ρ”ΠΌΠΎΠ΄Ρ–Ρ— Π²ΠΈΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ–Π½ΡŽΠ²Π°Π½Π½Ρ Π· Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΡŽ Ρ€Π΅Ρ‡ΠΎΠ²ΠΈΠ½ΠΎΡŽ Ρ– кристалами, Π² Π³Π°Π»ΡƒΠ·Ρ– ядСрної Ρ„Ρ–Π·ΠΈΠΊΠΈ Ρ– астрофізики, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΆ ΠΏΡ€ΠΈΠΊΠ»Π°Π΄Π½ΠΈΡ… Π΄ΠΎΡΠ»Ρ–Π΄ΠΆΠ΅Π½ΡŒ.ΠžΠ±ΡΡƒΠΆΠ΄Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ создания ΡΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ установки Π² Π·Π΄Π°Π½ΠΈΠΈ β„–3 Π˜Π€Π’Π­Π―Π€ ННЦ Π₯ЀВИ (ΡƒΡΠΊΠΎΡ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ комплСкс Π›Π£Π­-300) Π½Π° основС ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎΡΡ ускоритСля элСктронов Π›Π£Π­-60 ΠΈ ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΉ ΡΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ инфраструктуры. ΠŸΠ»Π°Π½ΠΈΡ€ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΡΠ½Π΅Ρ€Π³ΠΈΡŽ элСктронного ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ° Π΄ΠΎ 100 ΠœΡΠ’ ΠΈ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ Π΄Π²Π΅ ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠΎΠ²Ρ‹Π΅ Π»ΠΈΠ½ΠΈΠΈ: ΠΎΠ΄Π½Ρƒ для исслСдований с интСнсивными ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ°ΠΌΠΈ элСктронов ΠΈ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½ΠΎΠ², Π² Ρ‚ΠΎΠΌ числС Π»ΠΈΠ½Π΅ΠΉΠ½ΠΎ поляризованных, Π° Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΡƒΡŽ – для исслСдований с ΠΏΡƒΡ‡ΠΊΠ°ΠΌΠΈ элСктронов ΠΈ ΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Ρ€ΠΎΠ½ΠΎΠ² Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΎΠΉ интСнсивности. РСализация ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚Π° ΠΎΡ‚ΠΊΡ€ΠΎΠ΅Ρ‚ возмоТности для выполнСния ΠΈΡΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΡΠΊΠΈΡ… ΠΏΡ€ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌΠΌ Π² области взаимодСйствия излучСния с Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½Ρ‹ΠΌ вСщСством ΠΈ кристаллами, Π² области ядСрной Ρ„ΠΈΠ·ΠΈΠΊΠΈ ΠΈ астрофизики, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈΠΊΠ»Π°Π΄Π½Ρ‹Ρ… исслСдований
    corecore