Sequential implantations of deuterium and helium ions into tungsten-coated composite structures

The trapping and thermal desorption of deuterium and helium implanted into tungsten-coated composite structures were studied. The amount of accumulated deuterium and helium, and the shape of thermal desorption spectra were shown to be depended on the way of irradiation by the D⁺ and He⁺ ions: individually or sequentially. The possible mechanisms of these processes are proposed.Изучены процессы захвата и термической десорбции дейтерия и гелия, имплантированных в композиционные структуры с вольфрамовым покрытием. Количества накопленных дейтерия и гелия и вид спектров термической десорбции показаны в зависимости от схемы облучения ионами D⁺ и He⁺ : по отдельности или последовательно в разной очерёдности. Предложены возможные механизмы этих процессов.Вивчено процеси захоплювання та термічної десорбції дейтерію та гелію, імплантованих у композиційні структури з вольфрамовим покриттям. Кількості накопичених дейтерію та гелію та вигляд спектрів термічної десорбції показано в залежності від схеми опромінення іонами D⁺ та He⁺ : окремо або послідовно в різній черговості. Запропоновані можливі механізми цих процесів

Implantation of deuterium and helium ions into composite structure with tantalum coating

Processes of retention and thermal release of implanted deuterium and helium from tantalum coatings of multilayer composite structure by thermodesorption spectrometry were investigated. The dependences of amount of accumulated deuterium and helium, and the shape of thermal desorption spectra as functions of the D⁺ and He⁺ ions fluencies and of the temperature of irradiation were shown. Possible mechanisms of these processes are proposed.Методом термодесорбційної спектрометрії досліджено процеси накопичення і виділення дейтерію та гелію у вакуум із танталових покриттів композиційної структури. Кількість накопиченого дейтерію та гелію і вигляд спектрів термічної десорбції показано в залежності від дози опромінення іонами D⁺ або He⁺ та температури зразка при опроміненні. Запропоновано можливі механізми цих процесів.Методом термодесорбционной спектрометрии исследованы процессы накопления и выделения дейтерия и гелия в вакуум из танталовых покрытий композиционной структуры. Количество накопленного дейтерия и гелия и вид спектров термической десорбции показаны в зависимости от дозы облучения ионами D⁺ или He⁺ и температуры образца при облучении. Предложены возможные механизмы этих процессов

Digital identification of the emission spectrum lines of magnetron discharge

To obtain the qualitative and quantitative characteristics of the discharge plasma spectrum in the Python programming language, a multifunctional interactive GUI-application OSA (Optical Spectrum Analyzed) was created. The application allows you to download a digital image of the optical spectrum, automatically determine the wavelength of the selected spectral line and do elements interpretation.Для отримання якісних і кількісних характеристик спектра плазми розряду на мові програмування Python створено багатофункціональний діалоговий GUI-додаток OSA (Optical Spectrum Analyzed). Додаток дозволяє завантажити цифрове зображення оптичного спектра, в автоматичному режимі визначити довжину хвилі обраної спектральної лінії і виконати елементну інтерпретацію.Для получения качественных и количественных характеристик спектра плазмы разряда на языке программирования Python создано многофункциональное диалоговое GUI-приложение OSA (Optical Spectrum Analyzed). Приложение позволяет загрузить цифровое изображение оптического спектра, в автоматическом режиме определить длину волны выбранной спектральной линии и выполнить элементную интерпретацию

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system

To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtaining qualitative and quantitative characteristics of the magnetron discharge plasma. The obtained information about the distribution of excited particles along the direction parallel to the axis of the magnetron discharge permits one to control the mode of the discharge operation and, as a consequence, the properties of the deposited coatings.Для вирішення актуального завдання, пов'язаного з аналізом світіння розпилених частинок при нанесенні покриттів у магнетронно-розпилювальній системі, була запропонована цифрова методика обробки спектрів випромінювання плазми розряду. Створено графічний додаток OSA, що дозволяє отримати якісні та кількісні характеристики плазми магнетронного розряду. Отримана інформація про розподіл збуджених частинок вздовж напрямку, паралельного осі магнетронного розряду, дозволяє контролювати режим роботи розряду і, як наслідок, властивості нанесених покриттів.Для решения актуальной задачи, связанной c анализом свечения распыляемых частиц при нанесении покрытий в магнетронно-распылительной системе, была предложена цифровая методика обработки спектров излучения плазмы разряда. Создано графическое приложение OSA, позволяющее получить качественные и количественные характеристики плазмы магнетронного разряда. Полученная информация о распределении возбужденных частиц вдоль направления, параллельного оси магнетронного разряда, позволяет контролировать режим работы разряда и, как следствие, свойства наносимых покрытий