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High performance thin-film optical filters with stress compensation
International audienceWe present a thorough description of high performance thin-film optical filters with high flatness. These components can combine several tens or hundreds of layers and are manufactured using plasma-assisted reactive magnetron sputtering. Stress compensation is achieved using dual side coatings with appropriate spectral function. Examples of highly reflecting mirrors at 515 nm with 15 nm flatness peak-to-valley over up to 75 mm diameter aperture, narrow bandpass filters and filters with broadband controlled transmission are described
Application of global optimization algorithms for optical thin film index determination from spectro-photometric analysis
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Filtres bande étroite à cavités-substrats (application au domaine des télécommunications optiques)
Une solution alternative aux filtres interférentiels pour la réalisation de filtres bande étroite pour les télécommunications optiques est proposée. Cette approche est basée sur l'utilisation de substrats massifs ultra-fins traités avec des miroirs diélectriques. L'étude théorique montre que des performances WDM sont atteintes avec peu de couches. La sensibilité aux erreurs est plus faible que celle des filtres interférentiels dès lors que l'épaisseur des cavités est finement ajustée. Nos résultats expérimentaux montrent qu'il est possible d'obtenir des filtres dont la transmission est supérieure à 90%. Des techniques d'adhérence moléculaire permettent un assemblage compact des filtres. Des propriétés d'accordabilité spectrale sont introduites en utilisant des cavités en silicium sensibles thermiquement. La méthode d'accordabilité par sauts de coïncidence permet d'atteindre des accordabilités de plus de 10 nm. La validation expérimentale de ce principe de fonctionnement est donnée.AIX-MARSEILLE3-BU Sc.St Jérô (130552102) / SudocSudocFranceF
Advanced optical interference filters based on metal and dielectric layers
International audienceIn this paper, we investigate the design and the fabrication of an advanced optical interference filter based on metal and dielectric layers. This filter respects the specifications of the 2016 OIC manufacturing problem contest. We study and present all the challenges and solutions that allowed achieving a low deviation between the fabricated prototype and the target
Contrôle spectrophotométrique large bande de filtres interférentiels en cours de dépôt
Les performances d un filtre optique interférentiel sont directement liées à la qualité du contrôle optique implanté sur la machine de dépôt. Actuellement, les contrôles spectrophotométriques large bande se développent de plus en plus du fait de l amélioration des détecteurs matriciels. Le système optique développé durant ce travail de thèse présente la particularité de mesurer simultanément les profils spectraux en transmission et en réflexion de l échantillon traité en rotation au cours du dépôt, ceci sur une plage spectrale située entre 400 et 1000 nm. Un tel système couplé à un logiciel d optimisation permet de compenser les éventuelles erreurs de dépôt en modifiant après la réalisation de chaque couche les épaisseurs de celles restant à déposer. Il permet également une caractérisation in situ des indices et épaisseurs de matériaux diélectriques ou absorbants.AIX-MARSEILLE3-BU Sc.St Jérô (130552102) / SudocSudocFranceF
Localized measurements of optical thickness variations in femtosecond trimmed structures
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Manufacturing of an absorbing filter controlled with a broadband optical monitoring
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