Magnetically Suspended Linear Pulse Motor for Semiconductor Wafer Transfer in Vacuum Chamber

This paper describes a magnetically suspended linear pulse motor for a semiconductor wafer transfer robot in a vacuum chamber. The motor can drive a wafer transfer arm horizontally without mechanical contact. In the construction of the magnetic suspension system, four pairs of linear magnetic bearings for the lift control are used for the guidance control as well. This approach allows us to make the whole motor compact in size and light in weight. The tested motor consists of a double-sided stator and a transfer arm with a width of 50 mm and a total length of 700 mm. The arm, like a ladder in shape, is designed as the floating element with a tooth width of 4 mm (a tooth pitch of 8 mm). The mover mass is limited to about 1.6 kg by adopting such an arm structure, and the ratio of thrust to mover mass reaches to 3.2 N/kg under a broad air gap (1 mm) between the stator teeth and the mover teeth. The performance testing was carried out with a transfer distance less than 450 mm and a transfer speed less than 560 mm/s. The attitude of the arm was well controlled by the linear magnetic bearings with a combined use, and consequently the repeatability on the positioning of the arm reached to about 2 micron. In addition, the positioning accuracy was improved up to about 30 micron through a compensation of the 128-step wave current which was used for the micro-step drive with a step increment of 62.5 micron

応用力学研究所低圧プラズマ風胴について : Ⅱ

プラズマ状態にある流体を作動流体とする機械の実現が問題になるにつれて，プラズマの流動状態に関する知識が要求され，このプラズマを「高エネルギー流体の発生と制御」という面から見直し研究を行なうため，応用力学研究所に低圧プラズマ風胴が設置されたことはすでに述べたが，このプラズマ風胴について，特にそのトーチ特性などについて行なった実験の結果を示す．広い変動圧力の下で安定したプラズマ流が得られ，電子温度としては3,000~30,000˚K，イオン数密度 8×10^15～3×10^17個/m^3，電離度4×10^-6～8×10^-5であることが求められた1. まえがき / 2. 装置 / 2.1. ガス供給系 / 2.2. プラズマトーチ / 2.3. 圧力測定系 / 3. 流れ特性測定について / 3.1. ラングミュアプローブ / 3.2. ピトー圧測定について / 4. 発振器およびトーチ特性について / 4.1. 発振特性 / 4.2. トーチ特性 / 5. フリージェット / 6. 超音速ノズルについて / 7. 結

端板を持った円柱の後流渦について

円柱に端板をつけた場合，この端板の存在により，後流禍の発生の様子，および発生周期などが二次元流れの楊合とどんな変化があるか，また発生した後流禍がどのようなつながり状態で流れ去るか，などを水槽および風胴実験で観測した。 / 端板をつけた場合でも，後流禍の発生周期は二次元流れの場合と等しく，しかも主流部から端板面まで直線状の渦管として同時に円柱から剥離することが認められた。また発生する渦の強さは端板に近くなるほど弱くなることが認められた。 / 更に剥離した渦管は，端板近傍の速度勾配によるShear flow層内で，端板面から消散を始め，Shearing Stressのおよばない層まで充分に消散が進んだ状態で，端をもった渦管として安定に流れて行くことが認められた。1. 序 / 2. 実験装置・方法について / 3. 結果 / 4. 結

平板突起物後方の流出渦と乱れ分布について

平壁面上に突起物がある場合，比較的速い流れにおいてはこの突起物後方に固定した広い渦領城が形成されることが知られている． / 　この固定した渦領域に加え，突起物先端で形成された渦の周期的流出が認められ，この周期的渦は平壁面から浮き上がった状態で，突起物後方に付着した渦領域に沿って流出していることが観察され，0.145の Strouhal数が算出された． / 　また，突起物後方の「乱れ」分布を測定した結果，この乱れを主流速度で無次元化すると，この周期渦の流出線上で最大値をとることが測定された．1. 序 / 2. 実験装置・方法等について / 3. 結果 / 4. 結

壁面から突起した三角断面の後流渦について : 突起物の後流渦について

壁面から突起した物体の後流に生じる渦は壁面によって拘束を受け，自由流中における物体の後流渦とは異なった現象を示すことが当然予想される．この壁面により拘束された後流渦について，定性・定量的観察を目的に実験を行なった．壁面からの突起物の後流渦が流出する際，渦が壁面に接した状態で流れ去る場合と，壁面近くには逆流層のみが存在し渦は壁面から浮き上がった状態で流れ去る場合との二通りがあることがわかった．またこれら二型態の遷移時においてStrouhal数は最大値になることも分った．更に，今まで比較的遅い流れでは物体後流の渦は周期的に流出することはなく固定した渦が物体後流に存在すると考えられていたが，今回の実験では極めて低いレイノルズ数の流れにおいても固定した渦は観察できず十数分という長い周期で流出している渦が認められた．§1　序 / §2　実験装置，方法等について / §3　結果 / §4　結び / 附

応用力学研究所低圧プラズマ風胴について

核融合装置，MHD発電機等，プラズマ状態にある流体を作動媒体とする機械の実現が問題になるにつれ，プラズマの流動状態に関する知識が要求されて来た．このプラズマを「高エネルギー流体の発生と制御」という面から見直し，研究を行なうため，今度応用力学研究所に設置された低圧プラズマ風胴について，その概要と二，三の予備実験結果を記した．1. まえがき / 2. 装置 / 3. 二、三の予備的結

RADIATION (UV-IR) MEASUREMENTS IN THE TRIAM-1 TOKAMAK

Scaling law is presented that the ratio P＿R/ P＿1 (P_R: radiation loss, P_1: input power) is proportional to the parameter a＾3/2/R (a: minor radius, R: major radius). And the discussion is presented about the design of the apparatus for measuring the radiation (ultraviolet to infrared) from the TRIAM-1 tokamak plasma.1. Introduction / 2. Energy balance / 3. Apparatus for measuring radiation / 4. Conclusio