Etude par microscopie électronique en transmission et diffraction des rayons X des phénomènes de décollement aux interfaces barrière de diffusion TiN/Ti- diélectrique

AIX-MARSEILLE3-BU Sc.St Jérô (130552102) / SudocSudocFranceF

Nanostructural defects evidenced in failing silicon-based NMOS capacitors by advanced failure analysis techniques

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