Influência de diferentes aplicações de cargas e interposição de aparelho oclusal plano em implantes dentais: análise fotoelástica

Introdução: Se forças oclusais excederem a capacidade de absorção do sistema implante/osso, o implante tende a fracassar. O objetivo deste estudo foi avaliar a tensão peri-implantar com e sem utilização de placa oclusal plana sob carregamentos diferentes. Materiais e Métodos: Foram confeccionados cinco modelos fotoelásticos, com um implante em cada. Sobre estes implantes foram instaladas coroas unitárias e construída uma placa oclusal plana. Foram aplicadas cargas axiais de 100N, 200N e 300N, com e sem a presença da placa oclusal plana, por meio da máquina universal de ensaio conjugada ao polariscópio. O teste de Mann-Whitney foi utilizado para comparar os grupos com e sem placa, em todas as condições de carregamento. O teste de Kruskal-Wallis foi utilizado para comparar as tensões decorrentes das cargas de 100, 200 e 300N e também para comparar as tensões nas seis áreas periimplantares analisadas. Resultados: Os resultados dos testes de Mann-Whitney não identificaram diferenças estatísticas (p0,05) ao comparar as ordens de franjas com e sem a utilização de aparelho oclusal plano, em todas as áreas periimplantares analisadas, sob cargas verticais de 100, 200 e 300N. Os resultados dos testes de Kruskal-Wallis indicaram tensões significativamente maiores nas regiões apicais (pConclusões: A utilização da placa oclusal plana sobre a prótese unitária não reduziu significativamente as tensões nas regiões periimplantares; as tensões tendem a se concentrarem na região periapical e nestas áreas a maior magnitude de força implicou em maior tensão.