集成傅里叶变换红外原位监测系统的原子层沉积装置

 本发明公开了一种原子层沉积装置。该原子层沉积装置包括：薄膜生长室,在其相对的两侧面分别设置第一红外观察窗口和第二红外观察窗口；傅里叶红外光源,位于薄膜生长室的一侧,用于发射红外光束,红外光束通过第一红外观察窗口透射至位于薄膜生长室内部的样品表面；红外探测器,位于薄膜生长室的另一侧,用于收集经过样品表面后通过第二红外观察窗口射出的红外光束；分析系统,与红外探测器相连接,用于利用经过样品表面后通过第二红外观察窗口射出的红外光束判断原子层沉积的状态和/或反应物的残留。本发明原子层沉积装置实现了对沉积物的实时监测,可以给出是否进行了原子层沉积反应,以及反应残余物是否去除干净的准确信息,从而有利于使用者掌握实验的实时进展情况

碳化硅PIN微结构的制作方法

 一种碳化硅PiN微结构的制作方法,包括如下步骤：步骤1：取一n型碳化硅衬底；步骤2：对n型碳化硅衬底的表面进行氢气刻蚀；步骤3：在n型碳化硅衬底上生长n-型变浓度缓冲层；步骤4：在n-型变浓度缓冲层上外延生长本征外延层；步骤5：采用离子注入法,在本征外延层上制备P型层；步骤6：退火,完成碳化硅PIN微结构的制作