92％Pb（Zn1／3Nb2／3）O3—8%PbTiO3晶体的生长缺陷和形貌

应用环境扫描电子显微术（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术研究了92％Pb(Zn1/3Nb2/3)O3-8%PbTiO3晶体的表面形貌和缺陷，为生长高质量的该单晶材料提供重要的参考。从晶体自然显露面（111）面的ESEM缺陷形貌像中，观察并研究了诸如生长丘，位错蚀坑，小角晶界，包裹物，空洞或裂缝等生长缺陷，并分析了导致这些缺陷出现的原因是生长过程中的温度波动，过快的降温速度等因素。从该晶体的同步辐射X射线白光形貌像中也观察到了包裹物或空洞等缺陷。由该晶体表面出现的直形台阶，多层板块状台阶结构及其精细结构的ESEM形貌像可知，在PZN－8％PT晶体的高温溶液法生长中，起主导作用的生长机制为二维成核层状生长机制

92%Pb(Zn_(1/3)Nb_(2/3))O_3-8%PbTiO_3晶体的生长缺陷和形貌

应用环境扫描电子显微术 (ESEM)和同步辐射X射线白光形貌术研究了 92 %Pb(Zn1 / 3Nb2 / 3)O3-8%PbTiO3(PZN -8%PT)晶体的表面形貌和缺陷 ,为生长高质量的该单晶材料提供重要的参考。从晶体自然显露面 (111)面的ESEM缺陷形貌像中 ,观察并研究了诸如生长丘、位错蚀坑、小角晶界、包裹物、空洞或裂缝等生长缺陷 ,并分析了导致这些缺陷出现的原因是生长过程中的温度波动、过快的降温速率等因素。从该晶体的同步辐射X射线白光形貌像中也观察到了包裹物或空洞等缺陷。由该晶体表面出现的直形台阶、多层板块状台阶结构及其精细结构的ESEM形貌像可知 ,在PZN -8%PT晶体的高温溶液法生长中 ,起主导作用的生长机制为二维成核层状生长机

92%Pb(Zn_(1/3)Nb_(2/3))O_3-8%PbTiO_3晶体的生长缺陷和形貌

应用环境扫描电子显微术（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术研究了92％Pb(Zn1/3Nb2/3)O3-8%PbTiO3晶体的表面形貌和缺陷，为生长高质量的该单晶材料提供重要的参考。从晶体自然显露面（111）面的ESEM缺陷形貌像中，观察并研究了诸如生长丘，位错蚀坑，小角晶界，包裹物，空洞或裂缝等生长缺陷，并分析了导致这些缺陷出现的原因是生长过程中的温度波动，过快的降温速度等因素。从该晶体的同步辐射X射线白光形貌像中也观察到了包裹物或空洞等缺陷。由该晶体表面出现的直形台阶，多层板块状台阶结构及其精细结构的ESEM形貌像可知，在PZN－8％PT晶体的高温溶液法生长中，起主导作用的生长机制为二维成核层状生长机制

激光晶体Nd:YVO_4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的分析,获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像,观察到了位错、包裹物等缺陷,可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示

激光晶体Nd：YVO4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的生长，获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像，观察到了位错、包裹物等缺陷，可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示

激光晶体Nd：YVO4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的生长，获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像，观察到了位错、包裹物等缺陷，可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示