Investigations and Studies on Chinese One to One Teaching for Foreigners Based on the Task-based Teaching

汉语作为第二语言教学的基本形式有两种：集体的课堂教学和个别的一对一教学。一对一教学是汉语作为第二语言教学的重要组成部分，为国内语言培训机构和远程网络教学广泛采用，与高校课堂教学互为补充。一对一教学有着完全不同于传统课堂教学的教学特征，对外汉语学界对一对一教学已有一些关注和讨论，但相关研究主要聚焦于对其教学特征的分析，关注焦点是“是什么”，而对于“怎么教”，即适用这一教学形式的教学方法和理想教学模式却鲜有涉及。 任务型语言教学(Task-BasedLanguageTeaching)是一种以完成交际任务为学习过程，在交际任务中掌握语言能力的第二语言教学途径。该教学途径的诸多特征如以学生为中心，互...There are two kinf basic forms of Teaching Chinese as a Second Language: collective classroom teaching and individual One to One Teaching. The One to One Teaching is an important form of Teaching Chinese as a Second Language which is widely applied in language training institutions and remote network teaching. It’s also a complement for classroom teaching of the universities. The characteristic of...学位：汉语国际教育硕士院系专业：海外教育学院_汉语国际教育硕士学号：2652011115130

洛伊地区三叠系上统致密砂岩储层孔隙特征及物性影响因素

On the basis of core observation, slices arbitration and SEM observation, the porosity characteristics and influential factors of Upper Triassic in Luoyi District were analyzed. The results show that the main rocks of the study area are lithic sandstone

Characteristics of pore evolution and its influencing factors of petrophysical properties of tight sandstone reservoir in Upper Triassic, Luoyi District

On the basis of core observation, slices arbitration and SEM observation, the porosity characteristics and influential factors of Upper Triassic in Luoyi District were analyzed. The results show that the main rocks of the study area are lithic sandstone

刻蚀工艺对四面体非晶碳膜生长及其性能的影响

目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜(ta-C)的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。方法采用自主设计研制的45°单弯曲磁过滤阴极真空电弧镀膜设备,进行不同等离子体刻蚀以及ta-C薄膜的沉积。使用等离子体发射光谱仪表征离子种类及其密度,使用椭偏仪表征薄膜厚度,原子力显微镜表征刻蚀后的基体粗糙度,拉曼光谱仪和XPS表征薄膜结构,TEM分析薄膜的膜基界面结构。结果辉光刻蚀工艺中,作用的等离子体离子以低密度的Ar离子为主;而电弧刻蚀时,作用的等离子体离子为高密度的Ar离子和少量的C离子,并且能够在基体表面形成约15 nm的界面层,并实现非晶碳膜(a-C)的预沉积。随电弧等离子体刻蚀时间增加,ta-C薄膜的sp3含量有所降低。结论相比于辉光刻蚀,电弧刻蚀利于制备较厚的ta-C薄膜。这主要是因为电弧刻蚀时,基体表面形成良好的界面混合层,并预沉积了非晶碳膜,形成a-C/ta-C的梯度结构,有助于增强膜基结合力

sp~2含量与团簇尺寸调控对非晶碳薄膜光电性能的影响

作为一种非晶半导体材料,非晶碳(a-C)薄膜具有宽光谱透过率、高抗激光损伤阈值、可在准金属与绝缘体之间变化的电学特性,具有比传统Si材料更优异的机械性能,可用于制作压阻传感器、场发射电极、红外探测和光学窗口等光电器件。为了研究sp2/sp3比值和sp2团簇尺寸对光电性能的影响,我们采用磁控溅射方法制备了一系列无氢非晶碳薄膜,研究了沉积温度对其结构和光电性能的影响。结果表明,所有薄膜在紫外和可见光波段均表现出较强的光吸收,在200～750nm波长范围内透过率小于5%,且在5～350k温度范围内表现出典型的半导体特性,即在较高温度下有着较低的电阻率。此外,随着沉积温度的升高,它们的透射率、光学带隙、电阻率和活化能都呈现出相似的变化趋势,这与a-C薄膜中sp2/sp3比值和sp2团簇的尺寸变化有着紧密的联系。本文为a-C薄膜的光电应用提供了一条新的调控薄膜光电性能的思路