CeO2/Si薄膜的紫／蓝光跃迁

利用双离子束外延技术制备了CeO2/Si薄膜，观察到了CeO2室温蓝光发光以及低温紫光致发光(PL)现象．利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明，Ce02的发光机制是由于电子的Ce4f→O2p跃迁和缺陷能级→O2p能级跃迁共同作用的结果，并且这些缺陷能级位于Ce4f能级上下1eV的范围内

CeO_2/Si薄膜PL谱的“紫移”

利用双离子束外延技术制备了CeO_2/Si薄膜，椭圆偏振仪测得薄膜厚度为100nm，折射系数约为2.455。实验中发现未经退火处理的CeO_2室温光致发光(PL)谱存在着“紫移”现象，其移动距离约为65nm。利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明，PL谱的移动与氧化物中Ce离子价态有关。当Ce离子价态发生Ce~(4+)→Ce~(3+)变化时，其PL谱峰位要从蓝光区向紫光区移动，出现发光峰“紫峰”现象

离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响

利用质量分离的低能离子束沉积技术，得到了非晶碳膜。所用离子能量为50-200eV，衬底温度从室温到800℃。在沉积的能量范围内，衬底为室温时薄膜为类金刚石，表面非常光滑；而600℃下薄膜主要是石墨成分，表面粗糙。沉积能量大于140eV，800℃时薄膜表面分立着高度取向的、垂直衬底表面、相互平行的开口碳管。用高分辨电子显微镜看到了石墨平面的垂直择优取向，离子的浅注入和应用是这种优先取向的主要机理

离子束外延生长半导体性锰硅化合物

利用质量分析的低能双离子束外延技术得到了半导体性的锰硅化物，Mn_(27)Si_(47)和Mn_(15)Si_(26)。俄歇电子谱谐深度组分测量结果表明，在单晶Si的表面淀积了一薄层厚度约为37.5nm的Mn，另一部分Mn离子成功注入进Si基底里，注入深度为618nm。在840℃条件下在流动N_2气氛中对生长样品进行退火，X射线衍射结果表明退火后Mn_(27)Si_(47)和Mn_(15)Si_(26)结晶更好

质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜，X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明，此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗粒。碳离子的浅注入是该碳膜SP~3形成的主要机理。从一个侧面说明了化学气相沉积法中偏压预处理增加金刚石成核的主要原因是因为离子轰击效应