Comparative analysis of MIS capacitance structures with high-k dielectrics under gamma, 16O and p Radiation

MIS capacitance structures, with Hafnium Oxide, Alumina and nanolaminate as dielectrics were studied under gamma photons Co, 25 MeV oxygen ions and 10 MeV protons radiation using capacitance-voltage (C-V) characterization. The main trend of the results shows that the nanolaminates stack presents the highest levels of hysteresis and stretch-out of the C-V curves, suggesting that interface layers between dielectrics could play a relevant role in the study of the radiation response.Fil: Quinteros, C. P.. Comisión Nacional de Energía Atómica; ArgentinaFil: Sambuco Salomone, Lucas Ignacio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad de Buenos Aires; ArgentinaFil: Redin, Eduardo Gabriel. Universidad de Buenos Aires; ArgentinaFil: Rafí, J. M.. Consejo Superior de Investigaciones Científicas; EspañaFil: Zabala, M.. Consejo Superior de Investigaciones Científicas; EspañaFil: Faigón, A.. Universidad de Buenos Aires; ArgentinaFil: Palumbo, Félix Roberto Mario. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; ArgentinaFil: Campabadal, F.. Consejo Superior de Investigaciones Científicas; Españ