Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique

Abstract

National audienceLes moyens de la plateforme RENATECH du LAAS permettent la fabrication de différents formats (carrés de 2,5 / 4 / 5 / 6 / 7 pouces de côté) de masque verre / chrome et réticule quartz / chrome pour la photolithographie optique.Ce document présente une étude des paramètres ayant une influence prépondérante sur le procédé de fabrication des masques et réticules